JP5042580B2 - 半導体レーザ光源ユニット - Google Patents
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Description
このようなCTPシステムでは、ドラムの内周面上に配置した記録媒体であるPS版の感光面にレーザ等の光ビームを導いて走査露光処理を行う、いわゆるインナードラム露光装置(内面走査型光ビーム走査露光装置)が広く用いられている。
光源ユニットは、半導体レーザ(LD)光源が出射した光ビームをコリメータレンズ等を含む光学系で略平行光にする。
集光レンズは、この光ビームを集光して、モノゴンに向け照射する。
モノゴンは、LD光源からの集光ビームを入射させ反射させる反射鏡とスピナとを備え、この反射鏡を高速で回転させるものである。副走査移動手段は、モノゴン自体をドラムの円弧中心軸の軸線方向に移動させるものである。モノゴンは、高速で回転駆動される反射鏡に、LD光源からの集光ビームを入射、反射させて、ドラムの内周面に配置されたPS版の感光面を主走査方向に露光するとともに、副走査移動手段によってドラムの円弧中心軸の軸線方向に等速度で移動(副走査)し、PS版の感光面の全面を露光する。
ここで、特許文献1は、本出願人の出願に係るものであるが、図8に示すように、半導体レーザ光源100から出射された光ビーム102の中央部分の光ビーム104のみを通過させる開口部106を有する光量調整板(開口板)108をコリメータレンズ110と集光レンズ112の間に挿入することにより、光ビーム102が拡がりの大きい低出力領域の自然発光光ビームの場合やレーザ発振光ビームであるが拡がりに若干のばらつきがある場合にも、それらの影響を回避して集束スポット径を常に一定にできることが開示されている。
この特許文献2は、図9(a)に示すように、ストライプ状の発光部を有する半導体レーザ光源から出射された、強度分布(むら)を持つ光ビームに対し、図9(b)に示すような光ビームの強度分布(むら)と対応する、すなわち比例する濃度分布を持つフィルタをコリメータレンズの下流側の光路中に配置することにより、図9(c)に示すような強度分布(むら)の無い光ビームを得ることができ、この強度分布(むら)の無い光ビームを用いて、光ディスクの媒体面の初期化を行う光ディスクの初期化装置を開示している。
このサイドローブの発生は、以下のように考えられる。
半導体レーザ光源から出射された光ビームをコリメータレンズで略平行光にする時に、コリメータレンズの端で、けられによる回折光が発生し、コリメータレンズの端部近くで生じた歪みによる波面歪みなどによって光ビームの波面が歪む。このように回折光が発生した光ビームや波面が歪んだ光ビームを集光すると、回折光や波面の歪みにより集光スポットの脇にサイドローブが生じる。
このようにしても、半導体レーザ光源およびコリメータレンズには、それぞれの固体ばらつきがあるし、組立調整による調整には限界があり、このサイドローブの大きさはばらついてしまい、例えば、ピーク強度を100%とすると、10%近くサイドローブが発生する場合もあり、これらを抑えることはできなかった。
また、本発明の他の課題は、上記課題に加え、光路中に使用される光学部材による戻り光などのフレアを含まず、ビーム形状に歪みがなく略円形のビーム径を持ち、カットされる光量が少ない光ビームを出射することのできる半導体レーザ光源ユニットを提供することにある。
また、前記濃度分布フィルタは、前記コリメータレンズの開口で生じる前記回折光および前記波面歪みを1/2以下に低減するためのものであるのが好ましい。
また、さらに、この第1開口板を、前記光軸および前記濃度分布フィルタの回転軸と直交する軸を中心に回転調整する機構を有するのが好ましい。
ここで、所定のビーム径とは、光ビームを集光レンズ系により、集光し結像させて走査露光に用いる場合に、集光レンズに入射させるのに適したビーム径をいう。
また、前記ビーム整形光学系は、前記コリメータレンズの「けられ」部の共役像を作るためのものであり、前記濃度分布フィルタは、前記ビーム整形光学系に対して、前記コリメータレンズの「けられ」位置と略共役な位置に設置されるものであるのが好ましい。
また、前記ビーム整形光学系は、前記コリメータレンズを透過した前記光ビームを、一旦集光し、その後、発散させるものであるのが好ましい。
また、前記ビーム整形光学系は、リレーレンズであるのが好ましい。
また、前記第2開口板は、前記ビーム整形光学系が、前記コリメータレンズを透過した前記光ビームを、一旦集光し、その後、発散させて、前記所定のビーム径の略円形の光ビームにするものであるとき、前記光ビームが最も集光された位置に配置されるのが好ましい。
さらに、本発明は、光路中に使用される光学部材による戻り光などのフレアを含まず、ビーム形状に歪みがなく略円形のビーム径を持ち、カットされる光量が少ない光ビームを出射することのできる半導体レーザ光源ユニットを提供することができる。
さらに、本発明において、このビーム整形光学系内に第2開口板を配置するものでは、濃度分布フィルタの表面で反射され、レーザ光源に戻る反射光をカットできるので、戻り光ノイズを防ぐことができる。
また、以上のような効果を持つ半導体レーザ光源ユニットをインナードラム露光装置に適用した場合には、レーザ光源の出力を上げても、サイドローブが低減された光ビームによってPS版等の記録媒体を露光できる。このため、集光スポットのすそ近くに感材の記録閾値があるフォトポリマ感材のようなフォトンモード感材においても、PS版上の所望しない部分が露光されることがなく、適切な網点画像が形成された高品質の印刷版を作成することができ、その結果、画質劣化のない高画質、高品質の印刷物を得ることができる。
なお、以下では、本発明に係るサイドローブ低減手段を備えた半導体レーザ光源ユニットをオフセット印刷用のPS版にレーザ露光を行うインナードラム露光装置に適用する場合を代表例に挙げて説明する。
同図に示すインナードラム露光装置40は、本発明の半導体レーザ光源ユニット(以下、単に光源ユニットという)10と、集光レンズ系22と、モノゴン42と、PS版50等を載置するドラム48とから構成されている。
集光レンズ系22は、本発明の光源ユニット10から出射されたサイドローブが低減された光ビーム24を集光し、ドラム48の凹面上に載置されたPS版50上に結像させるための集光結像レンズであり、図示例では、代表例として1枚の凸レンズで表されているが、これに限定されず、複数の種々のレンズ、または、複数の種々のレンズおよび種々の光学部材を組み合わせたレンズ光学系であっても良いし、1組の組レンズであっても良いし、1組または複数の組レンズを含むレンズ光学系であっても良い。
集光レンズ22で集光された光ビーム24は、モノゴン42に入射される。
また、モノゴン42は、図示しない副走査移動手段によって、ドラム48の凹面の中心軸に沿ってその軸線方向(図1の矢印a方向)に等速度で副走査移動される。この副走査移動手段(図示せず)によるモノゴン42の副走査方向(図1中の矢印a方向)への移動は、スピナドライバなどをも制御する制御装置(図示せず)によって制御される。
インナードラム露光装置40では、図示しない真空吸着手段によって、記録媒体である未使用のPS版50をドラム48の内周面に確実に密着させて沿わせた状態に載置してから上述した走査露光を行う。
図2は、本発明の光源ユニットの一実施形態に用いる露光光学系および各部における光ビームの形状(強度分布形状)を模式的に示す説明図である。
図示例の光源ユニット10およびこれを用いる露光光学系は、図1に示すインナードラム露光装置40に用いられるもので、光源ユニット10は、基本的に、レーザ光源12と、コリメータレンズ14と、濃度分布フィルタ18とを有する。
ここで、光源ユニット10は、レーザ光源12から出射され、コリメータレンズ14で略平行光とされる光ビーム24を濃度分布フィルタ18に入射させることにより、略平行光とする時にコリメータレンズ14で生じる回折光や波面歪みなどにより現れるサイドローブを低減し、サイドローブが低減され、記録媒体の露光に適した光ビーム24を出射するものである。
本発明に用いられるレーザ光源12としては、このような記録媒体を露光可能な所定波長のレーザ発振光を出射できればどのような半導体レーザ光源であっても良く、半導体レーザ(LD)素子を用いる光源であれば良い。
濃度分布フィルタ18は、コリメータレンズ14に対して光ビーム進行方向下流側に、その中心をコリメータレンズ14の光軸中心と一致させて、光ビーム24の光軸および光ビーム24の進行方向に対する放射角度が大きい方向(図2中のc方向:ファスト軸方向)に対して直交する軸(以下、スロー軸という)を中心に回転調整する回転調整アッシイを用いて、光ビーム24に対する傾きが調整、すなわち所定の角度に位置決めされ固定される。なお、濃度分布フィルタ18は、コリメータレンズ14の回折光および波面歪みなどによるサイドローブ60aが最小になるように、スロー軸を中心に図2中の矢印e方向に回転調整され、光軸に対して傾斜するように配置される。
複数の光源ユニットの濃度分布フィルタ18の回転調整は、濃度分布フィルタ通過後の光ビーム62に含まれるサイドローブ60aの大きさを確認しつつ、濃度分布フィルタ18が光ビーム24の光軸と直交する状態から行われた。いずれの場合も、濃度分布フィルタ18を上記状態から20〜30度回転調整したところ、サイドローブ60aの大きさを光ビーム62の大きさの1%以下とすることができた。
以上に、本実施形態の半導体レーザ光源ユニット10の基本構成および効果を説明した。以下に、この発明の特徴である濃度分布フィルタについて説明し、次に回転調整アッシイについて説明する。
このとき、コリメータレンズの端で生じる回折光は、濃度分布フィルタ18の濃度が高い部分に入射させられ、所定値まで低減される。また、コリメータレンズの端部近く(開口近傍)で生じる波面歪みも、濃度分布フィルタ18の濃度が高い部分に入射させられ、所定値まで低減される。
本発明においては、濃度分布フィルタ18は、光源12から出射される光ビーム24の放射角度が大きい方向(図2中のc方向)とその光透過率が変化する方向とが一致するように、すなわち、光ビーム24の放射角度が大きい方向と濃度分布フィルタ18の図3(a)中左右方向とを一致させるように配置される。
なお、本発明においては、光ビーム24に付随するサイドローブを所望の値まで低下させるために、濃度分布フィルタ18を回転調整している。このとき、濃度分布フィルタ18自体によって、サイドローブが生じないように、濃度分布フィルタ18の光透過率分布は、後述する第1および第2開口板20および32の開口20aおよび32aとは異なり、緩い変化を持たせておく、すなわち、緩く変化するようにしておくのが好ましい。
濃度分布フィルタ18の構成方法としては、この他にも、上述のような光透過率の分布を持たせる際に、所定の光透過率を有する材料(光吸収型遮光被膜材料)に厚みの差を持たせる方法、さらには、濃度分布フィルタ18の表面の光反射特性に分布を持たせる方法(光反射型遮光被膜材料を用いる方法)等も採用することが可能である。
すなわち、図4に示すように、濃度分布フィルタ18の透過前の光ビーム60を、中央部分は光透過率が高く外縁部分では光透過率が低い濃度分布フィルタ18に入射させると、濃度分布フィルタ18の中央に近い、光透過率が高い部分に入射した部分の光ビームはほとんど減衰せず、濃度分布フィルタ18の外縁部分の光透過率が低い部分に入射したサイドローブ60aは減衰し、濃度分布フィルタ透過後の光ビーム62は、サイドローブ60aが低減されたものとなる。
ネジ78はホルダ74を架台72に固定するための部材であり、頭部78aと、ホルダ74のネジ穴74dと螺合するネジ部78bとを有している。また、ネジ78は、頭部78aを架台72側として、平ワッシャ80を頭部78aと架台72との間に挟み、ホルダ74のネジ穴74dと螺合している。
本発明に用いられる回転調整アッシイは、光ビーム24に対する濃度分布フィルタ18等の傾きを調整し固定できるものであれば、いずれの構成を有するものでも良く、公知の回転調整機構であるレンズ支持台を用いて光ビーム24に対する傾きを調整した後、接着剤等により固定されるものであっても良い。
図6(a)および(b)は、それぞれ本発明の光源ユニットの他の実施形態を模式的に示すファスト軸と光軸とを含む面の説明図およびスロー軸と光軸とを含む面の説明図である。
本実施形態の光源ユニット10aは、光ビーム24のサイドローブの低減に加えて、戻り光ノイズを防ぎ、濃度分布フィルタ18透過後の光ビーム24を、整形された所定のビーム径の光ビームにしようとするものである。
図示例の光源ユニット10aは、基本的に、レーザ光源12と、コリメータレンズ14と、ビーム整形光学系16と、濃度分布フィルタ18と、第1開口板20とを有する。
ビーム整形光学系16は、光ビーム24を一旦集光し、その後発散させて、所定のビーム径の略円形に調整して濃度分布フィルタ18に入射させるためのものであり、上流側レンズ26と、第1のシリンドリカルレンズ28と、第2のシリンドリカルレンズ30と、第2開口板32とを有する。
上流側レンズ26は、コリメータレンズ14に対して光ビームの進行方向下流側(以下、単に下流側という)に配置され、コリメータレンズ14を透過した略平行光を集光するために用いられる凸レンズである。上流側レンズ26の光軸とコリメータレンズ14の光軸とが一致するように配置されるのはもちろんである。
こうして、第1および第2のシリンドリカルレンズ28および30を透過した光ビーム24は、ファスト軸およびこれに直交するスロー軸の両方向においてそのビーム径が所定のビーム径となる略円形の平行光に調整される。この後、略円形に整形された光ビーム24は、濃度分布フィルタ18に入射する。
なお、本実施形態では、第1および第2のシリンドリカルレンズ28および30によって、ファスト軸およびスロー軸の両方向において、光ビーム24のビーム径を独立に調整できる。このため、ビーム整形光学系16に入射する光ビーム24が略円形からのずれが大きい楕円形状であっても、略円形のビーム形状と、所定のビーム径とを持つ光ビームに調整することができる。
ここで、本実施形態では、コリメータレンズ14と濃度分布フィルタ18とを、ビーム整形光学系16に対して共役な位置に配置しても良い。この配置により、コリメータレンズ14端でのけられによる回折光や端部近くの応力歪みによる波面歪みなどを、濃度分布フィルタ18の位置において作ることができるので、濃度分布フィルタ18によって、回折光や波面歪みなどによるサイドローブをより低減させることができる。
なお、本実施形態においては、上述したように、ビーム整形光学系16に第2開口板32を備えているので、スロー軸を中心に回転調整され、所定角度傾斜させられた濃度分布フイルタ18の表面で反射され、レーザ光源12の側に向かう戻り光24aを第2開口板32の非開口部にてカットし、戻り光ノイズを防止することもできる。
第1開口板20は、傾斜された濃度分布フィルタ18を透過した光ビーム24のファスト軸方向のビーム径とスロー軸方向のビーム径を略均等、好ましくはできるだけ均等となるように調整するために、濃度分布フィルタ18で調整されていないスロー軸方向のビーム径を調整するための円形の開口20aを備えるものである。また、第1開口板20は、濃度分布フィルタ18の下流側に、光ビーム24に略円形の開口20aを一致させ、光ビーム24の光軸および光ビーム24の進行方向に対する放射角度が小さい方向(図6(b)中のd方向)に対して直交する軸(以下、ファスト軸という)を中心に回転調整する回転調アッシイを用いて、光ビーム24に対する傾きが調整される。
ここで、光は第一開口板によってけられるために回折光が生じることが懸念される。しかしこの回折によって生じるサイドローブは集光位置で円環状となるため、ファスト軸方向に強くでるサイドローブとは違って記録上問題となり難い。
複数の光源ユニットの第1開口板20の回転調整は、第1開口板20を通過した光ビーム24の形状を確認しつつ、第1開口板20が光ビーム24の光軸と直交する状態から行われた。いずれの場合も、第1開口板20を上記状態から回転調整したところ、第1開口板20を通過した光ビーム24のビーム径をファスト軸およびスロー軸の両方向に略均等な略円形とすることができた。
なお、本実施形態では、ビーム整形光学系16によって濃度分布フィルタ18に入射する光ビーム24の形状を予め、略円形に整形している。このため、濃度分布フィルタ18を透過した光ビーム24の形状の円形からのずれは小さく、第1開口板20によってカットされる部分を少なく、もしくは、無くすことができ、レーザ光源12から出射された光ビーム24を効率よく、光源ユニット10aから出射することができる。
本実施形態の光源ユニット10aは、基本的に以上のように構成される。
本実施形態の光源ユニット10aは、光ビーム24のサイドローブの低減に加えて、戻り光ノイズを防ぎ、濃度分布フィルタ18透過後の光ビーム24を、整形された所定のビーム径の光ビームにできる。
図7(a)および(b)は、それぞれ本発明の光源ユニットのさらに他の実施形態を模式的に示すファスト軸と光軸とを含む面の説明図およびスロー軸と光軸とを含む面の説明図である。
本実施形態の光源ユニット10bは、光源ユニット10aに比して簡易な構成により、光ビーム24のサイドローブの低減に加えて、戻り光ノイズを防ごうとするものである。
図示例の光源ユニット10bは、基本的に、レーザ光源12と、コリメータレンズ14と、リレーレンズ系34と、濃度分布フィルタ18と、第1開口板20とを有し、上述したように、リレーレンズ系34は、光源側レンズ36と、反光源側レンズ38と、第2開口板32とを有する。
一方、反光源側レンズ38は、光源側レンズ36と同じ焦点距離を持ち、図7(a)に示すファスト軸方向および図7(b)に示すスロー軸方向に対しても、同様に、すなわち、光ビームの中心である光軸に直交する面の全半径方向に対してレンズパワーを持つ凸レンズであり、光源側レンズ36を透過し、一旦集光されて再び発散された光ビーム24を、平行光とするものである。光源側レンズ36および反光源側レンズ38は、両者の光軸が一致するように配置されるのはもちろんである。また、光源側レンズ36および反光源側レンズ38は、両者の間の距離が、両者の焦点距離の合計となるように配置されても良い。
第2開口板32は、レーザ光源12から濃度分布フィルタ18に向かう光ビーム24を透過させ、濃度分布フィルタ18の表面によって反射された光ビーム24の反射光、すなわち、図中点線で示される、レーザ光源12側への戻り光24aをカットする。このようにして、、戻り光24aがレーザ光源12に戻り、レーザ光源12に悪影響を与える戻り光ノイズを防止することができる。
本実施形態の光源ユニット10bは、光源ユニット10aに比して簡易な構成により、光ビーム24のサイドローブの低減に加えて、戻り光ノイズを防ぐことができる。
12 半導体レーザ光源(レーザ光源)
14 コリメータレンズ
16 ビーム整形光学系
18 濃度分布フィルタ
20 第1開口板
20a 開口
22 集光レンズ
24 光ビーム
24a 戻り光
26 上流側レンズ
28 第1のシリンドリカルレンズ
30 第2のシリンドリカルレンズ
32 第2開口板
32a 開口
34 リレーレンズ系
36 光源側レンズ
38 反光源側レンズ
40 インナードラム露光装置
42 モノゴン
44 反射鏡部材
44a 反射鏡面
46 スピナ
48 ドラム
50 PS版
60 濃度分布フィルタ透過前の光ビーム
60a サイドローブ
62 濃度分布フィルタ透過後の光ビーム
64 濃度分布フィルタの光透過率(光源から出射された光ビームの放射角の広い方向)
68 回折光照射位置
70 回転調整アッシイ
72 架台
72a、72b、74a、74b 平板部
72c、74c ピン穴
72d 長穴
74 ホルダ
74d ネジ穴
74e 窓部
76 ピン
78、82 ネジ
78a 頭部
78b ネジ部
80 平ワッシャ
84 側面
Claims (14)
- 一方向に放射角度が大きい光ビームを出射する半導体レーザ光源と、
この光源から出射された光ビームを略コリメートするためのコリメータレンズと、
前記コリメータレンズの前記光ビームの進行方向の下流側に配置され、前記コリメータレンズを透過した前記光ビームの光軸中心から前記一方向に向かって濃度が次第に高くなるように設定された濃度分布を持つ濃度分布フィルタと、
前記濃度分布フィルタを、前記光軸および前記一方向に対して直交する方向を軸に回転調整する機構と、
前記コリメータレンズと濃度分布フィルタとの間に配置される、前記光ビームを、所定のビーム径の略円形の光ビームに整形するビーム整形光学系とを有することを特徴とする半導体レーザ光源ユニット。 - 前記コリメータレンズおよび濃度分布フィルタが、前記ビーム整形光学系に対して共役な位置に配置される請求項1に記載の半導体レーザ光源ユニット。
- さらに、前記ビーム整形光学系の中に、前記光源から出射された光ビームが通過する開口を備える、前記濃度分布フィルタで反射された戻り光をカットするための開口板が配置される請求項1または2に記載の半導体レーザ光源ユニット。
- 前記濃度分布フィルタは、前記コリメータレンズの端部で生じる回折光および波面歪みを1/2以下に低減するためのものである請求項1〜3のいずれかに記載の半導体レーザ光源ユニット。
- さらに、前記濃度分布フィルタの前記光ビームの進行方向の下流側に配置された、円形の開口を備える開口板を有する請求項1〜4のいずれかに記載の半導体レーザ光源ユニット。
- さらに、前記濃度分布フィルタの前記光ビームの進行方向の下流側に配置された開口板を、前記光軸および前記濃度分布フィルタの回転軸と直交する軸を中心に回転調整する機構を有する請求項5に記載の半導体レーザ光源ユニット。
- 前記ビーム整形光学系は、前記コリメータレンズを透過した前記光ビームを、一旦集光し、その後、発散させるものである請求項1〜6のいずれかに記載の半導体レーザ光源ユニット。
- 前記ビーム整形光学系は、
前記コリメータレンズを透過した前記光ビームを一旦集光し、その後、発散させる集光レンズと、
前記集光レンズを透過した光ビームを、前記一方向に集光して、この一方向に略平行で前記所定のビーム径にする第1のシリンドリカルレンズと、
前記第1のシリンドリカルレンズを透過した光ビームを、前記一方向と直交する方向に集光して、この一方向と直交する方向に略平行で前記所定のビーム径にする第2のシリンドリカルレンズとを有するものである請求項1〜7のいずれかに記載の半導体レーザ光源ユニット。 - 前記ビーム整形光学系は、リレーレンズである請求項1〜7のいずれかに記載の半導体レーザ光源ユニット。
- 前記ビーム整形光学系の中に配置される開口板は、前記光ビーム整形光学系において、前記光ビームが最も集光された位置に配置される請求項3〜9のいずれかに記載の半導体レーザユニット。
- 一方向に放射角度が大きい光ビームを出射する半導体レーザ光源から出射され、コリメータレンズにより略コリメートされた光ビームを集光した時に生じるサイドローブを低減させる方法であって、
前記コリメータレンズの前記光ビームの進行方向の下流側に、前記コリメータレンズを透過した前記光ビームの光軸中心から前記一方向に向かって濃度が次第に高くなるように設定された濃度分布を持つ濃度分布フィルタを配置し、
前記コリメータレンズと濃度分布フィルタとの間に、前記光ビームを、所定のビーム径の略円形の光ビームに整形するビーム整形光学系を配置し、
前記濃度分布フィルタを、前記光軸および前記一方向に対して直交する方向を軸として回転する回転調整を、光ビームが含むサイドローブの大きさを確認しつつ行うことを特徴とする光ビームのサイドローブの低減方法。 - 前記コリメータレンズおよび濃度分布フィルタを、前記ビーム整形光学系に対して共役な位置に配置する請求項11に記載の光ビームのサイドローブの低減方法。
- さらに、前記ビーム整形光学系の中に、前記光源から出射された光ビームが通過する開口を備える、前記濃度分布フィルタで反射された戻り光をカットするための開口板を配置する請求項11または12に記載の光ビームのサイドローブの低減方法。
- さらに、前記濃度分布フィルタの前記光ビームの進行方向の下流側に、円形の開口を備える開口板を配置し、
前記濃度分布フィルタの前記光ビームの進行方向の下流側に配置された開口板を、前記光軸および前記濃度分布フィルタの回転軸と直交する軸を中心に回転する回転調整を行う請求項11〜13のいずれかに記載の光ビームのサイドローブの低減方法。
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