JP5025613B2

JP5025613B2 - 光導波路の製造方法

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Publication number: JP5025613B2
Application number: JP2008265213A
Authority: JP
Inventors: 和尚山本
Original assignee: Shinko Electric Industries Co Ltd
Current assignee: Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority date: 2008-10-14
Filing date: 2008-10-14
Publication date: 2012-09-12
Anticipated expiration: 2028-10-14
Also published as: JP2010096836A

Description

本発明は、光導波路の製造方法に係り、特に所定の角度とされた傾斜面を有する光導波路本体と、傾斜面に形成されたミラーとを備えた光導波路の製造方法に関する。

従来、光通信における光伝搬素子として、所定の角度とされた傾斜面を有する光導波路本体と、傾斜面に形成されたミラーとを備えた光導波路が用いられている。このような光導波路は、例えば、後述する図１〜図５に示す工程により製造される。

図１〜図５は、従来の光導波路の製造工程を示す図である。

図１〜図５を参照して、従来の光導波路２００の製造方法について説明する。始めに、図１に示す工程では、周知の手法により、支持体２０２上に、第１のクラッド層２０４と、コア部２０５と、第２のクラッド層２０６とを順次積層させて、第１のクラッド層２０４、コア部２０５、及び第２のクラッド層２０６からなる積層体２０３を形成する。

次いで、図２に示す工程では、ダイサーにより、積層体２０３の両端を切断することで、積層体２０３の両端に傾斜面２０７を形成する。これにより、積層体２０３と、傾斜面２０７とを有した光導波路本体２０８が形成される。

次いで、図３に示す工程では、第２のクラッド層２０６の面２０６Ａにレジスト膜２０９を形成する。このとき、傾斜面２０７に確実にミラーを形成するために、レジスト膜２０９の幅Ｗ_２の広さを第２のクラッド層２０２の幅Ｗ_１よりも狭くなるように設定されている。そのため、第２のクラッド層２０６の面２０６Ａの一部が、レジスト膜２０９から露出されている。

次いで、図４に示す工程では、成膜装置（図示せず）により、図３に示す構造体の上面側から、金属膜を成膜して、傾斜面２０７に金属膜からなるミラー２１１を形成する。このとき、レジスト膜２０９に覆われていない部分の第２のクラッド層２０６の面２０６Ａにも金属膜が形成される。

次いで、図５に示す工程では、図４に示すレジスト膜２０９を除去し、次いで、支持体２０２を除去する。これにより、光導波路本体２０８と、ミラー２１１とを備えた光導波路２００が製造される。

図６は、配線基板に接着された従来の光導波路を示す図である。図６において、図１〜図５に示す構造体と同一構成部分には、同一符号を付す。

図６に示すように、上記方法により製造された光導波路２００は、例えば、接着剤２２１（例えば、樹脂からなる接着剤）により、発光素子２１６及び受光素子２１７が実装された配線基板２１５の上面２１５Ａに接着され、発光素子２１６から照射された光信号を受光素子２１７に伝搬する。上記接着剤２２１は、金属膜が形成された第２のクラッド層２０６の面２０６Ａと配線基板２１５の上面２１５Ａとの間に配置される（例えば、特許文献１参照。）。
特開２０００−１９９８２７号公報

しかしながら、配線基板２１５に光導波路２００を接着する際に使用する接着剤２２１（例えば、樹脂からなる接着剤）は、ミラー２１１の母材となる金属膜との密着性が悪い。そのため、接着剤２２１により、第２のクラッド層２０６の面２０６Ａに金属膜が形成された光導波路２００と配線基板２１５とを接着した場合、光導波路２００と配線基板２１５との間の密着性が低下して、配線基板２１５から光導波路２００が剥がれてしまう虞があった。

そこで本発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであり、接着剤により配線基板に接着された光導波路と配線基板との間の密着性を向上させることのできる光導波路の製造方法を提供することを目的とする。

本発明の一観点によれば、第１のクラッド層、コア部、及び第２のクラッド層が積層された積層体と、前記積層体の両端に形成された第１の傾斜面とを有する光導波路本体と、前記第１の傾斜面に形成されたミラーと、を備え、前記コア部が形成されていない側の前記第２のクラッド層の面と前記第１の傾斜面との成す角度が所定の角度とされており、前記第１のクラッド層と配線基板との間に配置される接着剤により前記配線基板に接着される光導波路の製造方法であって、支持体上に、前記第１のクラッド層と、前記コア部と、前記第２のクラッド層とを順次積層して前記積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体が形成されていない側の前記支持体の面と研磨部材の上面とを対向させると共に、前記支持体の面と前記研磨部材の上面とが成す角度を前記所定の角度にした状態で、前記研磨部材により前記支持体及び前記積層体の両端を研磨して、前記積層体の両端に前記第１の傾斜面を有した前記光導波路本体を形成すると共に、前記支持体の両端に前記第１の傾斜面と略同一平面上に配置された第２の傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記傾斜面形成工程後に、成膜装置のステージの上面と前記第２のクラッド層の面とが接触するように、前記ステージに前記支持体に形成された前記光導波路本体を載置し、その後、前記成膜装置により前記第１の傾斜面に金属膜を成膜することで、前記ミラーを形成するミラー形成工程と、前記ミラーが形成された前記光導波路本体から前記支持体を除去する支持体除去工程と、を含むことを特徴とする光導波路の製造方法が提供される。

本発明によれば、支持体上に、第１のクラッド層と、コア部と、第２のクラッド層とを順次積層して積層体を形成し、次いで、積層体が形成されていない側の支持体の面と研磨部材の上面とを対向させると共に、支持体の面と研磨部材の上面とが成す角度を所定の角度にした状態で、研磨部材により支持体及び積層体の両端を研磨することで、積層体の両端に第１の傾斜面を有した光導波路本体を形成すると共に、支持体の両端に第１の傾斜面と略同一平面上に配置された第２の傾斜面を形成することで、第１の傾斜面にミラーの母材となる金属膜を成膜可能な状態で、支持体により、光導波路を配線基板に接着する際に使用する接着剤が形成される第１のクラッド層１７の面を覆うことが可能となる。

これにより、傾斜面形成工程後に、成膜装置のステージの上面と第２のクラッド層とが接触するように、成膜装置のステージ上に支持体に形成された光導波路本体を載置し、その後、成膜装置により第１の傾斜面に金属膜を成膜してミラーを形成することで、接着剤が形成される第１のクラッド層の面に不要な金属膜が形成されることがなくなるため、接着剤により接着される配線基板と光導波路との間の密着性を向上させることができる。

また、前記積層体形成工程と前記傾斜面形成工程との間に、前記第２のクラッド層と接触する板体を配置して、前記支持体と前記板体とで前記積層体を挟み込む積層体挟込工程を設け、前記傾斜面形成工程では、前記支持体と前記板体とで前記積層体を挟み込んだ状態で、前記支持体、前記積層体、及び前記板体を研磨して、前記第１及び第２の傾斜面を形成してもよい。

このように、支持体と板体とで積層体を挟み込んだ状態で、支持体、積層体、及び板体を研磨することにより、積層体（具体的には、第２のクラッド層）の破損を防止できると共に、研磨時における積層体の変形が抑制されるため、第１の傾斜面の形状を良好な形状にすることができる。

本発明によれば、接着剤により配線基板に接着された光導波路と配線基板との間の密着性を向上させることができる。

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。

（実施の形態）
図７は、本発明の実施の形態に係る光導波路の側面図である。

図７を参照するに、本実施の形態の光導波路１０は、光導波路本体１１と、ミラー１２，１３とを有する。光導波路本体１１は、第１のクラッド層１７、光信号を伝搬するコア部１８、及び第２のクラッド層１９が積層された積層体１５と、積層体１５の一方の端部に形成された傾斜面２１Ａ（第１の傾斜面）と、積層体１５の他方の端部に形成された傾斜面２１Ｂ（第１の傾斜面）とを有する。

第１のクラッド層１７の面１７Ａは、コア部１８が形成された第１のクラッド層１７の面とは反対側に位置する面である。第１のクラッド層１７の面１７Ａは、後述する接着剤２９（例えば、樹脂からなる接着剤）により光導波路１０を配線基板２５に接着させる際、接着剤２９が設けられる面である（後述する図８参照）。第２のクラッド層１９の面１９Ａは、コア部１８が形成された第２のクラッド層１９の面とは反対側に位置する面である。

傾斜面２１Ａは、ミラー１２が形成される面である。傾斜面２１Ａは、第２のクラッド層１９の面１９Ａ（コア部１８が形成される第２のクラッド層１９の面とは反対側に位置する面）との成す角度が所定の角度θ_１（具体的には、例えば、４５度）となるように形成されている。

傾斜面２１Ｂは、ミラー１３が形成される面である。傾斜面２１Ｂは、第２のクラッド層１９の面１９Ａとの成す角度が所定の角度θ_１（具体的には、例えば、４５度）となるように形成されている。

ミラー１２は、傾斜面２１Ａに設けられている。ミラー１２は、傾斜面２１Ａに対応する部分のコア部１８と接触する反射面１２Ａを有する。反射面１２Ａは、光信号を反射する面である。ミラー１３は、傾斜面２１Ｂに設けられている。ミラー１３は、傾斜面１３Ａに対応する部分のコア部１８と接触する反射面１３Ａを有する。反射面１３Ａは、光信号を反射する面である。ミラー１２，１３としては、例えば、Ａｕ膜（例えば、厚さ０．２μｍ）やＡｌ膜（例えば、厚さ０．２μｍ）等を用いることができる。

図８は、配線基板に接着された本実施の形態の光導波路を示す図である。図８において、本実施の形態の光導波路１０と同一構成部分には同一符号を付す。

図８に示すように、上記構成とされた光導波路１０は、例えば、発光素子２６及び受光素子２７が実装された配線基板２５の上面２５Ａと、光導波路１０に設けられた第１のクラッド層１７の面１７Ａとの間に配置された接着剤２９により、配線基板２５の上面２５Ａに接着される。この場合、光導波路１０は、発光素子２６の発光面２６Ａから照射される光信号を、反射面１２Ａによりコア部１８に向かう方向に反射すると共に、コア部１８により伝搬された光信号を、反射面１３Ａにより受光素子２７の受光面２７Ａに向けて反射する。

図９〜図１６は、本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図である。図９〜図１６において、本実施の形態の光導波路１０と同一構成部分には同一符号を付す。

図９〜図１６を参照して、本実施の形態の光導波路１０の製造方法について説明する。始めに、図９に示す工程では、支持体３３の上面３３Ａに、周知の手法により、第１のクラッド層１７と、コア部１８と、第２のクラッド層１９とを順次積層させて、第１のクラッド層１７、コア部１８、及び第２のクラッド層１９からなる積層体１５を形成する（積層体形成工程）。

支持体３３の材料としては、例えば、ポリカーボネートやアクリル等の樹脂を用いることができる。このように、支持体３３の材料として樹脂を用いることにより、後述する傾斜面形成工程において、積層体１５と共に支持体３３を研磨することができる。支持体３３の材料として樹脂を用いた場合、支持体３３の厚さは、例えば、１ｍｍ〜２ｍｍとすることができる。

次いで、図１０に示す工程では、支持体３３の下面３３Ｂ（積層体１５が形成されていない側の支持体３３の面）と研磨装置３５に設けられた研磨部材４１の上面４１Ａとを対向させると共に、支持体３３の下面３３Ｂと研磨部材４１の上面４１Ａとが成す角度が所定の角度θ_１となるように、支持アーム４４により支持体３３及び積層体１５を支持する。

ここで、研磨装置３５の構成について説明する。研磨装置３５は、回転軸３７と、研磨盤３８と、研磨部材４１と、支持アーム４４とを有する。

回転軸３７は、研磨盤３８の下面側に設けられている。回転軸３７は、研磨盤３８を回転可能に支持している。研磨盤３８は、研磨部材４１が貼り付けられる研磨部材貼付面３８Ａを有する。研磨盤３８は、回転軸３７が図示していない駆動装置により回転させられた際、回転軸３７と共に回転する。

研磨部材４１としては、例えば、紙やすり及びバフ用研磨布等を用いることができる。紙やすりとしては、例えば、２２０番、１０００番、及び４０００番等の紙やすりを用いることができる。

支持アーム４４は、研磨部材４１の上方に配置されている。支持アーム４４は、支持体３３及び積層体１５を挟持する挟持部４５を有する。挟持部４５は、支持体３３の下面３３Ｂと研磨部材４１の上面４１Ａが成す角度が所定の角度θ_１となるように積層体１５を挟持する。上記構成とされた支持アーム４４は、支持体３３及び積層体１５を挟持した状態で、研磨部材４１の上面４１Ａと直交するＡ方向に移動可能な構成とされている。

次いで、図１１に示す工程では、研磨部材４１が貼り付けられた研磨盤３８を回転させた状態で、支持体３３及び積層体１５を挟持した支持アーム４４をＡ方向（研磨部材４１の上面４１Ａと直交する方向）に移動させて、積層体１５及び支持体３３を研磨して、積層体１５の一方の端部に第２のクラッド層１９の面１９Ａとの成す角度が所定の角度θ_１（例えば、４５度）とされた傾斜面２１Ａ（第１の傾斜面）を形成すると共に、支持体３３の一方の端部に傾斜面２１Ａと略同一平面上に配置された傾斜面４８（第２の傾斜面）を形成する。

具体的には、傾斜面２１Ａ，４８は、例えば、始めに、目の粗い２２０番の紙やすり（研磨部材）で積層体１５及び支持体３３を研磨して表面の荒れた傾斜面２１Ａ，４８を形成し、次いで、２２０番よりも目の細かい１０００番の紙やすり（研磨部材）で表面の荒れた傾斜面２１Ａ，４８を研磨し、続いて、さらに目の細かい４０００番の紙やすり（研磨部材）で研磨を行い、その後、バフ研磨（粒径１μｍのダイヤモンド粒子を含んだ研磨液を用いた研磨）を行うことで形成する。

このように、目の粗さの異なる複数の紙やすりとバフ研磨とを組み合わせて積層体１５及び支持体３３を研磨することにより、ミラー１２が形成される傾斜面２１Ａを平滑な面に加工することが可能となる。これにより、傾斜面２１Ａに形成されるミラー１２の光信号の伝搬損失を小さくすることができる。

次いで、図１２に示す工程では、図１１に示す傾斜面２１Ａ，４８が形成された積層体１５及び支持体３３を挟持部４５から取外し、挟持部４５により、傾斜面２１Ａ，４８が形成された側の積層体１５及び支持体３３の一方の端部を挟持する。その後、先に説明した図１０及び図１１に示す工程と同様な処理を行うことで、積層体１５及び支持体３３の他方の端部を研磨して、積層体１５の他方の端部に第２のクラッド層１９の面１９Ａとの成す角度が所定の角度θ_１（例えば、４５度）とされた傾斜面２１Ｂ（第１の傾斜面）を形成すると共に、支持体３３の他方の端部に傾斜面２１Ｂと略同一平面上に配置された傾斜面４９（第２の傾斜面）を形成する（図１０〜図１２に示す工程が「傾斜面形成工程」に相当する工程）。

これにより、傾斜面４８，４９を有した支持体３３に、積層体１５と、積層体１５の一方の端部に形成された傾斜面２１Ａと、積層体１５の他方の端部に形成された傾斜面２１Ｂとを有した光導波路本体１１が形成される。

このように、目の粗さの異なる複数の紙やすりとバフ研磨とを組み合わせて積層体１５及び支持体３３を研磨することにより、傾斜面２１Ｂを平滑な面に加工することが可能となる。これにより、傾斜面２１Ｂに形成されるミラー１３の光信号の伝搬損失を小さくすることができる。

また、光導波路本体１１が形成された支持体３３の一方の端部に傾斜面２１Ａと略同一平面上に配置された傾斜面４８を形成すると共に、支持体３３の他方の端部に傾斜面２１Ｂと略同一平面上に配置された傾斜面４９を形成することにより、傾斜面２１Ａ，２１Ｂにミラー１２，１３の母材となる金属膜５４（図１５参照）を成膜可能な状態で、接着剤２９（図８参照）が形成される第１のクラッド層１７の面１７Ａを覆うことが可能となる。

次いで、図１３に示す工程では、図１２に示す支持アーム４４から支持体３３及び光導波路本体１１を取り外す。

次いで、図１４に示す工程では、成膜装置のステージ５３の上面５３Ａと第２のクラッド層１９の面１９Ａとが接触するように、ステージ５３に支持体３３及び光導波路本体１１を載置し、その後、成膜装置により、平滑化された傾斜面２１Ａ，２１Ｂに金属膜５４を成膜する。これにより、傾斜面２１Ａに金属膜５４を母材とするミラー１２が形成されると共に、傾斜面２１Ｂに金属膜５４を母材とするミラー１３が形成される（ミラー形成工程）。このとき、金属膜５４は、傾斜面２１Ａ、２１Ｂだけでなく、支持体３３の傾斜面４８，４９及び支持体３３の下面３３Ｂにも形成される。

このように、成膜装置のステージ５３の上面５３Ａと第２のクラッド層１９の面１９Ａとが接触するように、成膜装置のステージ５３上に支持体３３に形成された光導波路本体１１を載置し、その後、成膜装置により傾斜面２１Ａ，２１Ｂに金属膜５４を成膜してミラー１２，１３を形成することにより、接着剤２９が形成される第１のクラッド層１７の面１７Ａに金属膜５４が形成されることがなくなるため、接着剤２９により接着される配線基板２５と光導波路１０との間の密着性を向上させることができる（図８参照）。

上記ミラー形成工程で使用する成膜装置としては、例えば、蒸着装置やスパッタ装置等を用いることができる。金属膜５４としては、例えば、Ａｕ膜（例えば、厚さが０．２μｍ）やＡｌ膜（例えば、厚さが０．２μｍ）等を用いることができる。

次いで、図１５に示す工程では、成膜装置から金属膜５４が成膜された支持体３３及びミラー１２，１３が形成された光導波路本体１１を取り出す。

次いで、図１６に示す工程では、図１５に示すミラー１２，１３が形成された光導波路本体１１から金属膜５４が成膜された支持体３３を除去することで、光導波路本体１１と、ミラー１２，１３とを備えた光導波路１０が製造される（支持体除去工程）。

本実施の形態の光導波路の製造方法によれば、樹脂からなる支持体３３上に、第１のクラッド層１７と、コア部１８と、第２のクラッド層１９とを順次積層してなる積層体１５を形成し、次いで、積層体１５が形成されていない側の支持体３３の面３３Ｂと研磨部材４１の上面４１Ａとを対向させると共に、支持体３３の面３３Ｂと研磨部材４１の上面４１Ａとが成す角度を所定の角度θ_１にした状態で、研磨部材４１により支持体３３及び積層体１５の両端を研磨することで、積層体１５の両端に傾斜角度が所定の角度θ_１とされた傾斜面２１Ａ，２１Ｂを有した光導波路本体１１を形成すると共に、支持体３３の両端に傾斜面２１Ａ，２１Ｂと略同一平面上に配置された傾斜面４８，４９を形成することにより、傾斜面２１Ａ，２１Ｂにミラー１２，１３の母材となる金属膜５４を成膜可能な状態で、光導波路１０を配線基板２５に接着する際に使用する接着剤２９が形成される第１のクラッド層１７の面１７Ａを覆うことが可能となる。

これにより、傾斜面形成工程後に、成膜装置のステージ５３の上面５３Ａと第２のクラッド層１９とが接触するように、成膜装置のステージ５３上に支持体３３に形成された光導波路本体１１を載置した状態で、成膜装置により傾斜面２１Ａ，２１Ｂに金属膜５４を成膜してミラー１２，１３を形成することにより、光導波路１０を配線基板２５に接着する際に使用する接着剤２９（図８参照）が形成される第１のクラッド層１７の面１７Ａに金属膜５４が形成されることがなくなるため、接着剤２９により接着された配線基板２５と光導波路１０との間の密着性を向上させることができる。

図１７〜図２２は、本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図である。図１７〜図２２において、先に説明した図９〜図１６に示す構造体と同一構成部分には同一符号を付す。

図１７〜図２２を参照して、本実施の形態の変形例に係る光導波路１０の製造方法について説明する。始めに、先に説明した図９に示す工程と同様な処理を行うことで、図９に示す構造体を形成する。次いで、図１７に示す工程では、図９に示す構造体に設けられた第２のクラッド層１９の面１９Ａと接触するように板体６１を配置して、支持体３３と板体６１とで積層体１５を挟み込む（積層体挟込工程）。なお、板体６１は、第２のクラッド層１９の面１９Ａに載置されているのみであり、第２のクラッド層１９の面１９Ａとは接着されていない。板体１６の材料としては、例えば、ポリカーボネートやアクリル等の樹脂を用いることができる。このように、板体６１の材料として樹脂を用いることにより、後述する傾斜面形成工程において、積層体１５及び支持体３３と共に板体６１を研磨することができる。

板体６１の材料として樹脂を用いた場合、板体６１の厚さは、例えば、１ｍｍ〜２ｍｍとすることができる。

次いで、図１８に示す工程では、図１７に示す構造体を支持アーム４４で挟み込んだ状態（一方の挟持部４５と支持体３３とが接触し、他方の挟持部４５と板体６１とが接触した状態）で、支持体３３の下面３３Ｂと研磨装置３５に設けられた研磨部材４１の上面４１Ａとを対向させると共に、支持体３３の下面３３Ｂと研磨部材４１の上面４１Ａとが成す角度が所定の角度θ_１となるように設定する。

次いで、図１９に示す工程では、先に説明した図１１に示す工程と同様な処理により、積層体１５、支持体３３、及び板体６１の一方の端部を研磨することで、傾斜面２１Ａ，４８を形成すると共に、板体６１の一方の端部に傾斜面２１Ａ，４８と略同一平面上に配置された傾斜面６３を形成する。

このように、支持体３３と板体６１とで積層体１５を挟み込んだ状態で、支持体３３、積層体１５、及び板体６１の一方の端部を研磨することにより、積層体１５（具体的には、第２のクラッド層１９）の破損を防止できると共に、研磨時における積層体１５の変形が抑制されるため、ミラー１２が形成される傾斜面２１Ａの形状を良好な形状にすることができる。

次いで、図２０に示す工程では、図１９に示す傾斜面２１Ａ，４８，６３が形成された構造体を挟持部４５から取外し、その後、挟持部４５により、傾斜面２１Ａ，４８，６３が形成された側の図９に示す構造体の端部を挟持する。次いで、先に説明した図１８及び図１９に示す工程と同様な処理により、積層体１５、支持体３３、及び板体６１の他方の端部を研磨して、傾斜面２１Ｂ，４９を形成すると共に、板体６１の他方の端部に傾斜面２１Ｂ，４９と同一平面上に配置された傾斜面６４を形成する。（図１８〜図２０に示す工程が「傾斜面形成工程」に相当する工程）。これにより、支持体３３と板体６１との間に、積層体１５と、積層体１５の両端に形成された傾斜面２１Ａ，２１Ｂとを備えた光導波路本体１１が形成される。

このように、支持体３３と板体６１とで積層体１５を挟み込んだ状態で、支持体３３、積層体１５、及び板体６１の他方の端部を研磨することにより、積層体１５（具体的には、第２のクラッド層１９）の破損を防止できると共に、研磨時における積層体１５の変形が抑制されるため、ミラー１３が形成される傾斜面２１Ｂの形状を良好な形状にすることができる。

次いで、図２１に示す工程では、図２０に示す支持アーム４４から傾斜面４８，４９が形成された支持体３３、光導波路本体１１、及び傾斜面６３，６４が形成された板体６１を取り外す。

次いで、図２２に示す工程では、図２１に示す板体６１を光導波路本体１１から除去する（板体除去工程）。その後、先に説明した図１４〜図１６に示す工程（ミラー形成工程及び支持体除去工程を含む）の処理を行うことで、図１６に示す本実施の形態の光導波路１０が製造される。

本実施の形態の変形例に係る光導波路の製造方法によれば、支持体３３と板体６１とで積層体１５を挟み込んだ状態で、支持体３３、積層体１５、及び板体６１の両端を研磨することにより、積層体１５（具体的には、第２のクラッド層１９）の破損を防止できると共に、研磨時における積層体１５の変形が抑制されるため、ミラー１２，１３が形成される傾斜面２１Ａ，２１Ｂの形状を良好な形状にすることができる。

以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。

従来の光導波路の製造工程を示す図（その１）である。従来の光導波路の製造工程を示す図（その２）である。従来の光導波路の製造工程を示す図（その３）である。従来の光導波路の製造工程を示す図（その４）である。従来の光導波路の製造工程を示す図（その５）である。配線基板に接着された従来の光導波路を示す図である。本発明の実施の形態に係る光導波路の側面図である。配線基板に接着された本実施の形態の光導波路を示す図である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その１）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その２）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その３）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その４）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その５）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その６）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その７）である。本実施の形態の光導波路の製造工程を示す図（その８）である。本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図（その１）である。本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図（その２）である。本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図（その３）である。本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図（その４）である。本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図（その５）である。本発明の実施の形態の変形例に係る光導波路の製造工程を示す図（その６）である。

符号の説明

１０光導波路
１１光導波路本体
１２，１３ミラー
１２Ａ，１３Ａ反射面
１５積層体
１７第１のクラッド層
１８コア部
１９第２のクラッド層
１７Ａ，１９Ａ面
２１Ａ，２１Ｂ，４８，４９，６３，６４傾斜面
２５配線基板
２５Ａ，３３Ａ，４１Ａ，５３Ａ上面
２６発光素子
２６Ａ発光面
２７受光素子
２７Ａ受光面
２９接着剤
３３支持体
３３Ｂ下面
３５研磨装置
３７回転軸
３８研磨盤
３８Ａ研磨部材貼付面
４１研磨部材
４４支持アーム
４５挟持部
５３ステージ
５４金属膜
６１板体
θ_１所定の角度

Claims

第１のクラッド層、コア部、及び第２のクラッド層が積層された積層体と、前記積層体の両端に形成された第１の傾斜面とを有する光導波路本体と、前記第１の傾斜面に形成されたミラーと、を備え、
前記コア部が形成されていない側の前記第２のクラッド層の面と前記第１の傾斜面との成す角度が所定の角度とされており、前記第１のクラッド層と配線基板との間に配置される接着剤により前記配線基板に接着される光導波路の製造方法であって、
支持体上に、前記第１のクラッド層と、前記コア部と、前記第２のクラッド層とを順次積層して前記積層体を形成する積層体形成工程と、
前記積層体が形成されていない側の前記支持体の面と研磨部材の上面とを対向させると共に、前記支持体の面と前記研磨部材の上面とが成す角度を前記所定の角度にした状態で、前記研磨部材により前記支持体及び前記積層体の両端を研磨して、前記積層体の両端に前記第１の傾斜面を有した前記光導波路本体を形成すると共に、前記支持体の両端に前記第１の傾斜面と略同一平面上に配置された第２の傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、
前記傾斜面形成工程後に、成膜装置のステージの上面と前記第２のクラッド層の面とが接触するように、前記ステージに前記支持体に形成された前記光導波路本体を載置し、その後、前記成膜装置により前記第１の傾斜面に金属膜を成膜することで、前記ミラーを形成するミラー形成工程と、
前記ミラーが形成された前記光導波路本体から前記支持体を除去する支持体除去工程と、を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
前記支持体の材料は、樹脂であることを特徴とする請求項１記載の光導波路の製造方法。
前記積層体形成工程と前記傾斜面形成工程との間に、前記第２のクラッド層と接触する板体を配置して、前記支持体と前記板体とで前記積層体を挟み込む積層体挟込工程を設け、
前記傾斜面形成工程では、前記支持体と前記板体とで前記積層体を挟み込んだ状態で、前記支持体、前記積層体、及び前記板体を研磨して、前記第１及び第２の傾斜面を形成することを特徴とする請求項１または２記載の光導波路の製造方法。
前記傾斜面形成工程と前記ミラー形成工程との間に、前記板体を除去する板体除去工程を設けたことを特徴とする請求項３記載の光導波路の製造方法。
前記板体の材料は、樹脂であることを特徴とする請求項３または４記載の光導波路の製造方法。