JP5017860B2 - ポリアリーレンサルフォン微粒子の分散液 - Google Patents
ポリアリーレンサルフォン微粒子の分散液 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5017860B2 JP5017860B2 JP2005379472A JP2005379472A JP5017860B2 JP 5017860 B2 JP5017860 B2 JP 5017860B2 JP 2005379472 A JP2005379472 A JP 2005379472A JP 2005379472 A JP2005379472 A JP 2005379472A JP 5017860 B2 JP5017860 B2 JP 5017860B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- dispersion
- surfactant
- mass
- sulfone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
(一)一般式(1)
(二)ポリアリーレンサルフォンが、ポリ(フェニレンサルフォン)であることを特徴とする(一)記載の分散液。
(三)界面活性剤がカチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性イオン界面活性剤、非イオン系界面活性剤から選ばれる1種以上の化合物であることを特徴とする(一)または(二)に記載の分散液。
(四)界面活性剤の添加量が水100質量部に対し、0.01〜100質量部であることを特徴とする(一)〜(三)のいずれかに記載の分散液。
(五)分散液中のポリアリーレンサルフォン微粒子の量が、水と界面活性剤の合計量100質量部に対して0.1〜50質量部の範囲であることを特徴とする(一)〜(四)のいずれかに記載の分散液。
等で表される少量の分岐結合または架橋結合を含むこともできる。
等で表される少量の分岐結合または架橋結合を含むこともできる。
(1)ポリアリーレンサルファイドを作る。
(2)ポリアリーレンサルファイドの微粒子を作る。
(3)ポリアリーレンサルファイド微粒子を酸化する。
引き続き、ポリアリーレンサルフォン微粒子を作る。
まず、ポリアリーレンサルファイド微粒子を反応容器に入れ、酸化反応に必要な液体を入れる。
また、過酸の濃度は工業的製法における安全性管理の上で重要で、本酸化反応系では液体中の過酸濃度が10質量%以下であることが好ましく、中でも3〜10質量%が好ましい。この範囲の濃度において良好な反応結果を与え、かつ安全性の高いプロセスが構築できる。これより高いとその安定性や安全性が温度に影響を受けやすくなり、特に20〜40質量%の高濃度過酸はその安定性やプロセスの安全性の管理が難しいため、注意を要する。
本酸化処理は、使用される液体の沸点以下の温度で行われる。沸点以上の温度では系が加圧になり、酸化剤の分解が促進されたり、煩雑な設備となったり、また安全面からも好ましくない。具体的な反応温度は、0℃から80℃の間、中でも室温付近から60℃の間が好ましい。この範囲の温度において良好な反応結果を与える。
機種名:セイコーインスツルメント ロボットDSCを用い、下記の温度プログラムで測定を行った。
測定温度プログラム条件: 30℃→(20℃/min)→350℃。
機種名:セイコーインスツルメント TG/DTA 200を用い、下記の温度プログラムで測定を行った。
測定温度プログラム条件: 50℃→(20℃/min)→650℃。
回折式粒度分布計(島津製作所製 SALD−2100)を用い、その粒子の平均粒径の測定を行った。
50ccの耐圧容器内に、ポリフェニレンサルファイド(東レ株式会社製、グレード名M3910、平均粒径50μm)100mg、溶媒としてN−メチルピロリジノン(関東化学社製)10gを加え、窒素下に密閉後、320℃まで上昇させた。320℃まで上昇したことを確認した後に、30分間攪拌しながらその状態を維持した後に、耐圧容器を氷水で冷却した。
酢酸(関東化学社製)にて9質量%に調整した過酢酸溶液20.0g(三菱ガス化学社製)を反応容器に投入し、60℃で攪拌した。次に参考例1で得られた、ポリ−p−フェニレンサルファイド(PPS)微粒子70.6mg(平均粒径7.26μm)をその反応溶液に浸漬させて60℃、3時間反応させた。得られた混合液を吸引ろ過を行った。60℃、真空下にて12時間乾燥をおこなったところ、91.6mgのポリ−p−フェニレンスルホキシド(PPSO)微粒子を得た。本微粒子を示差走査熱量計(DSC)にて測定を行ったところ、PPSの融点(285℃)が消失し、不融化した微粒子であり、高耐熱微粒子であることがわかった。
300℃における耐熱性の評価を行うために、ホットプレート上に微粒子を置き、その性状変化を顕微鏡にて観察を行った。
参考例2にて得られたポリ−p−フェニレンスルホキシド微粒子50mgを5%ポリオキシエチレン(10)イソオクチルシクロヘキシルエーテル( 商品名;TritonX-100 アルドリッチ社製)水溶液50gに加え、超音波照射を2分行い、攪拌を行った。その結果、良好な分散液が得られた。
Claims (5)
- ポリアリーレンサルフォンが、ポリ(フェニレンサルフォン)であることを特徴とする請求項1記載の分散液。
- 界面活性剤がカチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性イオン界面活性剤、非イオン系界面活性剤から選ばれる1種以上の化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の分散液。
- 界面活性剤の添加量が水100質量部に対し、0.01〜100質量部であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の分散液。
- 分散液中のポリアリーレンサルフォン微粒子の量が、水と界面活性剤の合計量100質量部に対して0.1〜50質量部の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の分散液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005379472A JP5017860B2 (ja) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | ポリアリーレンサルフォン微粒子の分散液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005379472A JP5017860B2 (ja) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | ポリアリーレンサルフォン微粒子の分散液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007177155A JP2007177155A (ja) | 2007-07-12 |
JP5017860B2 true JP5017860B2 (ja) | 2012-09-05 |
Family
ID=38302640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005379472A Expired - Fee Related JP5017860B2 (ja) | 2005-12-28 | 2005-12-28 | ポリアリーレンサルフォン微粒子の分散液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5017860B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017095564A (ja) * | 2015-11-20 | 2017-06-01 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィドと全芳香族リニアポリマーからなる複合粒子分散体、粉体粒子、及びそれらの製造方法 |
JP2017095563A (ja) * | 2015-11-20 | 2017-06-01 | Dic株式会社 | ポリアリーレンスルフィドと全芳香族リニアポリマーからなる複合粒子分散体、粉体粒子、及びそれらの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0032630A1 (en) * | 1980-01-21 | 1981-07-29 | Imperial Chemical Industries Plc | Production of aqueous dispersion of aromatic polyethersulphone |
DE4314737A1 (de) * | 1993-05-04 | 1994-11-10 | Hoechst Ag | Zweistufige Oxidation von Polyarylensulfiden |
DE4314738A1 (de) * | 1993-05-04 | 1994-11-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur Oxidation von Thioethergruppen enthaltenden Polyarylenverbindungen |
JP4159665B2 (ja) * | 1998-09-03 | 2008-10-01 | 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 | ポリエーテルスルホン水性分散液の製造方法 |
-
2005
- 2005-12-28 JP JP2005379472A patent/JP5017860B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007177155A (ja) | 2007-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5186752B2 (ja) | 分散液およびポリアリーレンサルファイド微粒子 | |
JP6810100B2 (ja) | ポリアリーレンスルフィドを含むペレットを含有するコンパウンディング組成物の射出物である製品 | |
EP2147733A1 (en) | Method for production of silver-containing nano-structure, and silver-containing nano-structure | |
TW200844143A (en) | Method for production of polyarylene sulfide resin with excellent luminosity and the polyarylene sulfide resin | |
KR20110138266A (ko) | 염소 저함유 폴리비페닐 술폰 중합체의 제조 방법 | |
WO2014156946A1 (ja) | ポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法およびポリアリーレンスルフィド樹脂組成物 | |
JPH073024A (ja) | ポリアリーレンスルフィドの二段階酸化 | |
JP6697644B1 (ja) | 液晶性樹脂微粒子の製造方法 | |
JP5017860B2 (ja) | ポリアリーレンサルフォン微粒子の分散液 | |
JP5283080B2 (ja) | ポリイミド微粒子分散液、ポリイミド微粒子及びそれらの製造方法 | |
JP2017197665A (ja) | ポリエーテルスルホン樹脂粒子の製造方法およびポリエーテルスルホン樹脂粒子 | |
JP2008231250A (ja) | ポリフェニレンスルフィド微粒子、その製造方法および分散液 | |
JP2010254784A5 (ja) | ||
JP7404238B2 (ja) | 表面修飾ナノダイヤモンドの製造方法、及び複合材料の製造方法 | |
JP6274548B2 (ja) | ポリアリーレンスルフィド分散体及び微粒子、並びにそれらの製造方法 | |
JP5481797B2 (ja) | ポリフェニレンサルファイド微粒子の製造方法 | |
WO2019240013A1 (ja) | 組成物 | |
JPWO2015111546A1 (ja) | ポリフェニレンスルフィド樹脂微粒子、その製造方法および分散液 | |
JPH04202431A (ja) | ポリアリルエーテルの製造法 | |
JP2010001448A (ja) | 芳香族ポリエーテルスルホン粒子の製造方法および芳香族ポリエーテルスルホン粒子 | |
JP5194488B2 (ja) | 金属表面処理用塗工液及び表面処理金属部品の製造方法 | |
JP2008231139A (ja) | 高誘電性樹脂組成物、錠剤の製造方法およびそれからなる成形品 | |
JP3953639B2 (ja) | ポリアルキレンスルホキシドの製造方法、および、ポリエチレンスルホキシド | |
WO2022244576A1 (ja) | 溶融加工用材料及び溶融加工品 | |
JP2008231251A (ja) | ポリフェニレンスルフィド酸化物、固体物品およびそれを製造する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120515 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120528 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |