JP5016005B2 - Capacitor having an epoxy derivative layer cured with aminophenylfluorene - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電気物品、電気物品の製造方法およびそれから作製された回路物品に関する。 The present invention relates to an electrical article, a method for producing the electrical article, and a circuit article made therefrom.
国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載された埋込み型コンデンサは、第１と第２の自立基板間にポリマー絶縁性または電気導電性層を有している。 The embedded capacitor described in WO 00/45624 has a polymer insulating or electrically conductive layer between first and second freestanding substrates.
絶縁層の誘電体材料は、一般的に、酸化タンタルのような金属酸化物、またはチタン酸バリウムのような高誘電率セラミックである。誘電体材料は、一般的に、エポキシのようなある程度熱的および機械的に安定なポリマーのマトリックス中に分散されている。エポキシ樹脂は、アミンやイミダゾールのような０．５〜８重量％の触媒を入れて処方してもよく、０．５〜１％の２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノールが実証されている。コンデンサは、表面に搭載された不連続コンデンサに変えて、印刷配線板やマルチチップモジュールの層として用いることができる。 The dielectric material of the insulating layer is typically a metal oxide such as tantalum oxide or a high dielectric constant ceramic such as barium titanate. The dielectric material is typically dispersed in a matrix of a polymer that is somewhat thermally and mechanically stable, such as an epoxy. Epoxy resins may be formulated with 0.5-8% by weight of a catalyst such as amine or imidazole, and 0.5-1% 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol has been demonstrated. Has been. The capacitor can be used as a layer of a printed wiring board or a multichip module in place of the discontinuous capacitor mounted on the surface.
一実施形態において、本発明は、８５℃および８５％の相対湿度で、６ボルトのバイアスを用いた誘電体層の漏れ電流が１００ｎＡ／ｃｍ2未満であるポリマー誘電体層を含むコンデンサである。 In one embodiment, the present invention is a capacitor comprising a polymer dielectric layer at 85 ° C. and 85% relative humidity with a dielectric layer leakage current of less than 100 nA / cm 2 using a 6 volt bias.
本発明において、ポリマー誘電体層は、エポキシ樹脂と９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤の反応生成物である。 In the present invention, the polymer dielectric layer is a reaction product of an epoxy resin and a 9,9-bis (aminophenyl) fluorene curing agent.
第２の実施形態において、コンデンサの室温〜１２５℃のキャパシタンスの温度係数の変化は１５％未満である。 In the second embodiment, the change in temperature coefficient of capacitance of the capacitor from room temperature to 125 ° C. is less than 15%.
第３の実施形態において、本発明は、硬化エポキシ樹脂組成物が式２の単位を含む硬化エポキシ樹脂組成物を含む誘電体層を備えた電気物品である。
第４の実施形態において、本発明は、誘電体層を含む電気物品であり、誘電体層は硬化エポキシ樹脂組成物で、樹脂組成物はエポキシ樹脂と式１の硬化剤とを含んでいる。
第５の実施形態において、本発明は、誘電体層を含む電気物品であって、誘電体層がエポキシ樹脂とアミノフェニルフルオレン硬化剤とを含む硬化エポキシ樹脂組成物を含み、組成物が１分当たり１℃の速度で硬化温度まで加熱されている。 In a fifth embodiment, the present invention is an electrical article including a dielectric layer, wherein the dielectric layer includes a cured epoxy resin composition including an epoxy resin and an aminophenylfluorene curing agent, and the composition is 1 minute. It is heated to the curing temperature at a rate of 1 ° C.
第６の実施形態において、本発明は、主面を有する第１の基板を提供する工程と、第１の基板の主面に、エポキシ樹脂とアミノフェニルフルオレン硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物をコーティングする工程と、第２の基板の主面にエポキシ樹脂組成物をラミネーティングしてラミネートを形成する工程と、エポキシ樹脂組成物を硬化するのに十分な時間および温度にわたってラミネートを加熱する工程とを含むコンデンサの製造方法である。 In a sixth embodiment, the present invention provides a step of providing a first substrate having a main surface, and an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and an aminophenylfluorene curing agent on the main surface of the first substrate. Coating, laminating the epoxy resin composition to the main surface of the second substrate to form a laminate, and heating the laminate for a time and temperature sufficient to cure the epoxy resin composition; Is a method of manufacturing a capacitor including
第７の実施形態において、本発明は、例えば、回路基板やフレキシブル回路のようなコンデンサを含む電気または電子デバイスである。 In a seventh embodiment, the present invention is an electrical or electronic device including a capacitor such as a circuit board or a flexible circuit.
アミンおよびイミダゾール触媒により作製されたエポキシ誘電体層に比べて、９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤を用いると、誘電体層中の水の吸着が減じる。さらに、９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤により作製されたエポキシ層は、誘電体層が硬化温度まで加熱される速度にあまり感受性がない。この水吸着の減少によって、湿度によるキャパシタンスの変化が減り、コンデンサ構造の損失係数および漏れ電流が減少する。 Compared to epoxy dielectric layers made with amine and imidazole catalysts, the use of 9,9-bis (aminophenyl) fluorene hardener reduces water adsorption in the dielectric layer. Furthermore, epoxy layers made with 9,9-bis (aminophenyl) fluorene hardener are not very sensitive to the rate at which the dielectric layer is heated to the cure temperature. This reduction in water adsorption reduces the change in capacitance due to humidity and reduces the loss factor and leakage current of the capacitor structure.
９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化誘電体層を有するコンデンサはまた、従来の触媒により作製された誘電体層を有するコンデンサに比べてキャパシタンスの温度係数が低い。得られるコンデンサ構造は、Ｘ７Ｒコンデンサ仕様を満足またはこれを超えるものである。 Capacitors having a 9,9-bis (aminophenyl) fluorene cured dielectric layer also have a lower temperature coefficient of capacitance than capacitors having a dielectric layer made with conventional catalysts. The resulting capacitor structure meets or exceeds the X7R capacitor specification.
９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤により作製されたエポキシ誘電体層は、コーティング後ロールに巻きつけたときに「ピックオフ」されにくく、印刷回路板製造中に用いられる多数のエポキシ硬化工程の一部として必要なことの多い長い硬化時間中の接着力損失に対する抵抗性がある。 Epoxy dielectric layers made with 9,9-bis (aminophenyl) fluorene hardener are less “picked off” when wrapped around a roll after coating, and many epoxy curing steps used during printed circuit board manufacture Resistant to adhesion loss during long cure times often required as part of
本発明の１つ以上の実施形態の詳細を、添付の図面および以下の説明に示す。本発明のその他の特徴、目的および利点は、説明、図面および請求項から明白となろう。 The details of one or more embodiments of the invention are set forth in the accompanying drawings and the description below. Other features, objects, and advantages of the invention will be apparent from the description and drawings, and from the claims.
様々な図面において同じ参照符号は同じ構成要素を示している。 Like reference symbols in the various drawings indicate like elements.
一実施形態において、本発明は、コンデンサのような電気物品に用いてよい誘電体層である。好適な電気物品は、国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載されている。国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載された電気物品は、２つの対向主面を有する第１の自立基板と、２つの対向主面を有する第２の自立基板とを含んでいる。第１および第２の基板間の誘電体層は、電気絶縁機能を与え、２つの基板を接合する。 In one embodiment, the present invention is a dielectric layer that may be used in electrical articles such as capacitors. Suitable electrical articles are described in WO 00/45624. The electrical article described in WO 00/45624 includes a first self-supporting substrate having two opposing main surfaces and a second self-supporting substrate having two opposing main surfaces. The dielectric layer between the first and second substrates provides an electrical insulation function and joins the two substrates.
１層以上の層からできていてもよい電気物品の誘電体層は、ポリマーでできている。一般的なはんだリフロー操作で用いられる温度、例えば、１８０〜２９０℃に耐えることのできるポリマーであれば何を用いてもよい。誘電体層に好適なポリマー材料としては、エポキシ樹脂およびそのブレンドが挙げられる。本発明の電気物品の誘電体層を作製するのに用いるエポキシ樹脂組成物は、少なくとも１種類の芳香族ポリエポキシド、および芳香族ポリエポキシドに存在するエポキシ基１個当たり０．１〜１．１個のアミノ基を与えるのに十分な量で存在する少なくとも１種類の９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン（「アミノフェニルフルオレン」とも呼ばれる）硬化剤を含んでいる。本出願において、芳香族ポリエポキシドとは、芳香族基に直接的または間接的に付加した２個以上のエポキシド基を含む分子のことを意味する。エポキシ樹脂組成物という用語は、芳香族ポリエポキシドと、硬化させると硬化エポキシ樹脂を形成可能な９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤とを含む未硬化組成物のことを指すのに用いられている。 The dielectric layer of the electrical article, which may be made of one or more layers, is made of a polymer. Any polymer that can withstand the temperatures used in typical solder reflow operations, such as 180-290 ° C., may be used. Suitable polymeric materials for the dielectric layer include epoxy resins and blends thereof. The epoxy resin composition used to make the dielectric layer of the electrical article of the present invention comprises at least one aromatic polyepoxide and 0.1 to 1.1 per epoxy group present in the aromatic polyepoxide. At least one 9,9-bis (aminophenyl) fluorene (also referred to as “aminophenylfluorene”) curing agent present in an amount sufficient to provide an amino group. In the present application, an aromatic polyepoxide means a molecule containing two or more epoxide groups directly or indirectly added to an aromatic group. The term epoxy resin composition is used to refer to an uncured composition comprising an aromatic polyepoxide and a 9,9-bis (aminophenyl) fluorene curing agent capable of forming a cured epoxy resin when cured. ing.
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、１種類以上の芳香族ポリエポキシドと、１種類以上の９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤とを含むのが好ましい。好ましい芳香族ポリエポキシドとしては、多価フェノールのポリ（グリシジルエーテル）が挙げられる。好適な芳香族ポリエポキシドとしては、テキサス州、ヒューストンのシェルケミカル社（Ｓｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ， Ｈｏｕｓｔｏｎ， ＴＸ）より、エポン（ＥＰＯＮ）１００１Ｆおよびエポン（ＥＰＯＮ）１０５０という商品名で入手可能なエポキシ樹脂が挙げられる。特に好ましい樹脂としては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルとノボラックエポキシ、例えば、樹脂の総重量に基づいて７５〜９０重量％のエポン（Ｅｐｏｎ）１００１Ｆと２５〜１０重量％のエポン（Ｅｐｏｎ）１０５０Ｆのブレンドが挙げられる。本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるのに好適な９，９−ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤は、米国特許第４，６８４，６７８号に記載されており、一般式１のものである。
各Ｒ0はＨ、ハロゲン、１〜６個の炭素原子を有する鎖状および分岐アルキル基、フェニル、ニトロ、アセチルおよびトリメチルシリルから独立に選択され、
各ＲはＨ、および１〜６個の炭素原子を有する鎖状および分岐アルキル基から独立に選択され、
各Ｒ1はＲ、Ｈ、フェニルおよびハロゲンから独立に選択される。
The thermosetting epoxy resin composition of the present invention preferably contains one or more aromatic polyepoxides and one or more 9,9-bis (aminophenyl) fluorene curing agents. Preferred aromatic polyepoxides include poly (glycidyl ether) s of polyhydric phenols. Suitable aromatic polyepoxides include epoxy resins available under the trade names EPON 1001F and EPON 1050 from Shell Chemical Company, Houston, TX. . Particularly preferred resins include a diglycidyl ether of bisphenol A and a novolac epoxy, such as a blend of 75-90% by weight Epon 1001F and 25-10% by weight Epon 1050F based on the total weight of the resin. Is mentioned. A 9,9-bis (aminophenyl) fluorene curing agent suitable for use in the epoxy resin composition of the present invention is described in US Pat. No. 4,684,678 and is of general formula 1.
Each R 0 is independently selected from H, halogen, chained and branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, phenyl, nitro, acetyl and trimethylsilyl;
Each R is independently selected from H and chain and branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms;
Each R 1 is independently selected from R, H, phenyl and halogen.
好ましい硬化剤としては、９，９ビス（アミノフェニル）フルオレンおよび９，９ビス（３−クロロ−４−アミノフェニル）フルオレン（ＣＡＦ）が挙げられ、９，９−ビス（３−メチル−４−アミノフェニル）フルオレン（ＯＴＢＡＦ）が特に好ましい。 Preferred curing agents include 9,9 bis (aminophenyl) fluorene and 9,9 bis (3-chloro-4-aminophenyl) fluorene (CAF), and 9,9-bis (3-methyl-4-). Aminophenyl) fluorene (OTBAF) is particularly preferred.
９，９ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤は、芳香族ポリエポキシド中のエポキシド基１個当たり、０．１〜１．１個のアミノ基、ＮＨ−Ｒを与えるのに十分な量でエポキシ樹脂組成物中に存在していなければならない。 The 9,9 bis (aminophenyl) fluorene curing agent is an epoxy resin composition in an amount sufficient to give 0.1-1.1 amino groups, NH-R, per epoxide group in the aromatic polyepoxide. Must exist in the object.
埋込み型コンデンサ材料を従来の印刷回路板にラミネートするとき、ラミネーション温度は通常約１７５℃である。ラミネーション時間は、必要なラミネーションサイクル数によって異なるが、一般的に約２時間超である。しかしながら、ある用途においては、埋込み型コンデンサ材料を含有するデバイスの製造のためのラミネーション温度はこれより高く、例えば、約２２５℃であってもよい。この温度だと、誘電体層と銅基板間の接着力は許容できないほど低くなる可能性がある。本発明の誘電体層の組成物を変性して、延長の２２５℃のラミネーションプロセス中の接着力損失が許容範囲となるようにすることができる。高温での誘電体層と銅基板間の接着力のような特定の特性は、例えば、硬化組成物中の架橋の量および／または速度を制御することによって調整してもよい。遅い架橋反応が好ましい場合には、エポキシ樹脂組成物中に存在する９，９ビス（アミノフェニル）フルオレン硬化剤の量を減じるのが好ましい場合がある。 When laminating embedded capacitor materials to conventional printed circuit boards, the lamination temperature is typically about 175 ° C. The lamination time varies depending on the number of lamination cycles required, but is generally more than about 2 hours. However, in some applications, the lamination temperature for the manufacture of devices containing embedded capacitor materials may be higher, for example about 225 ° C. At this temperature, the adhesion between the dielectric layer and the copper substrate may be unacceptably low. The dielectric layer composition of the present invention can be modified so that the adhesion loss during the extended 225 ° C. lamination process is acceptable. Certain properties, such as adhesion between the dielectric layer and the copper substrate at elevated temperatures, may be adjusted, for example, by controlling the amount and / or rate of crosslinking in the cured composition. If a slow crosslinking reaction is preferred, it may be preferred to reduce the amount of 9,9 bis (aminophenyl) fluorene curing agent present in the epoxy resin composition.
任意で、例えば、アミンやイミダゾールのようなその他の触媒をエポキシ樹脂組成物に用いてもよい。好適な助触媒は国際公開第００／４５６２４号パンフレットおよび米国特許第４，６８４，６７８号に記載されており、好ましい触媒としては、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノールおよび５−アミノベンゾトリアゾールが挙げられる。５−アミノベンゾトリアゾールを用いると、誘電体層と基板層間の接着力も改善できる。 Optionally, other catalysts such as, for example, amines and imidazoles may be used in the epoxy resin composition. Suitable cocatalysts are described in WO 00/45624 and US Pat. No. 4,684,678, and preferred catalysts include 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol and 5- Aminobenzotriazole is mentioned. When 5-aminobenzotriazole is used, the adhesion between the dielectric layer and the substrate layer can also be improved.
さらに、例えば、ポリアミン、ポリアミド、ポリフェノールおよびその誘導体のような従来のエポキシ樹脂硬化剤を、樹脂の１０〜１００重量％、好ましくは１０〜５０重量％の量でエポキシ樹脂組成物に添加してもよい。好適な硬化剤としては、１，３フェニレンジアミンが挙げられる。 Further, conventional epoxy resin curing agents such as polyamines, polyamides, polyphenols and derivatives thereof may be added to the epoxy resin composition in an amount of 10 to 100% by weight, preferably 10 to 50% by weight of the resin. Good. Suitable curing agents include 1,3 phenylenediamine.
エポキシ樹脂組成物はまた、分散剤や溶剤のような従来の添加剤を含んでいてもよい。好適な分散剤としては、例えば、デラウェア州ニューキャッスルのユニケマ（Ｕｎｉｑｅｍａ， Ｎｅｗ Ｃａｓｔｌｅ， ＤＥ）よりハイパーメール（ＨＹＰＥＲＭＥＥＲ）ＰＳ３という商品名で市販されているポリエステルとポリアミンのコポリマーが例示される。溶剤としては、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトンが例示される。粘度を変えたり、レベルコーティングを生成するための溶剤のようなその他の添加剤を用いることができる。 The epoxy resin composition may also contain conventional additives such as dispersants and solvents. Suitable dispersants include, for example, polyester and polyamine copolymers commercially available under the trade name HYPERMEER PS3 from Uniqema, New Castle, DE. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. Other additives such as solvents to change viscosity or produce level coatings can be used.
エポキシ樹脂組成物はまた、複数の粒子を含んでいるのが好ましい。好適な粒子は国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載されており、チタン酸バリウム、チタン酸バリウムストロンチウム、酸化チタン、チタン酸鉛ジルコニウムおよびこれらの混合物が挙げられる。好ましい市販のチタン酸バリウムは、ペンシルバニア州ボイヤータウンのカボットパフォーマンスマテリアルズ（Ｃａｂｏｔ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ， Ｂｏｙｅｒｔｏｗｎ， ＰＡ）よりＢＴ−８という商品名で入手可能である。粒子はどのような形状であってもよく、規則または不規則形状であってよい。具体的な形状としては、球、板、立方体、針、偏球、楕円体、角錐、プリズム、フレーク、ロッド、プレート、繊維、チップ、ウィスカおよびこれらの組み合わせが挙げられる。粒子サイズ、すなわち、粒子の最小寸法は、一般的には０．０５〜１１Ｔｍ、好ましくは０．０５〜３．０Ｔｍ、より好ましくは０．０５〜２Ｔｍである。粒子は、少なくとも２〜３個の粒子が絶縁層の厚さ内に垂直に積み重なるようなサイズであるのが好ましい。 It is preferable that the epoxy resin composition also contains a plurality of particles. Suitable particles are described in WO 00/45624 and include barium titanate, barium strontium titanate, titanium oxide, lead zirconium titanate and mixtures thereof. A preferred commercially available barium titanate is available under the trade name BT-8 from Cabot Performance Materials, Boyertown, PA. The particles can be of any shape, regular or irregular shapes. Specific shapes include spheres, plates, cubes, needles, oblate spheres, ellipsoids, pyramids, prisms, flakes, rods, plates, fibers, chips, whiskers and combinations thereof. The particle size, i.e. the minimum dimension of the particles, is generally 0.05-11 Tm, preferably 0.05-3.0 Tm, more preferably 0.05-2 Tm. The particles are preferably sized such that at least 2-3 particles are stacked vertically within the thickness of the insulating layer.
ポリマー中の粒子の充填量は、誘電体層の総体積に基づいて、一般的には２０〜７０体積％、好ましくは３０〜６０体積％、より好ましくは４０〜５５体積％である。 The filling amount of the particles in the polymer is generally 20 to 70% by volume, preferably 30 to 60% by volume, more preferably 40 to 55% by volume, based on the total volume of the dielectric layer.
国際公開第００／４５６２４号パンフレットに詳細が記載されているように、粒子は、エポキシ樹脂組成物に組み込まれる前は清浄で乾燥しているのが好ましい。 As described in detail in WO 00/45624, the particles are preferably clean and dry before being incorporated into the epoxy resin composition.
エポキシ樹脂組成物は、一般的に、エポキシ樹脂、アミノフェニルフルオレン硬化剤、粒子およびその他の任意の成分を混合することにより形成される。得られたほぼ均一の混合物を、続いて、好適な基板にコートして、揮発性成分を除去し、組成物を硬化するのに十分な時間および温度で加熱する。得られた硬化エポキシ樹脂組成物は、電気物品の誘電体層を形成する。硬化中、芳香族ポリエポキシドと、アミノフェニルフルオレン硬化剤が反応して、式２の単位を有する硬化エポキシ樹脂を形成する。
好ましい硬化エポキシ樹脂組成物は、２４時間で０．６重量パーセント未満の水分を吸収し、少なくとも９０℃のＴｇを有している。水吸収についての好適な試験は、ＩＰＣ−ＴＭ−６５０試験方法マニュアルの試験２．６．２．１である。 Preferred cured epoxy resin compositions absorb less than 0.6 weight percent moisture in 24 hours and have a Tg of at least 90 ° C. A suitable test for water absorption is test 2.6.2.1 in the IPC-TM-650 Test Method Manual.
本発明の電気物品の基板は、ラミネート構造に配置された単一層、または複数層を含んでいてもよい。第１および第２の基板は、グラファイト、ポリマーマトリックス中の銀粒子のような複合体、銅やアルミニウムのような金属、これらの組み合わせまたはこれらのラミネートからできている。多層基板は、銅やアルミニウムのような金属の層を除去可能なキャリア層にコートすることにより作製される。例えば、銅層は、除去可能なポリエステルキャリアにコートしてもよい。第１および第２の基板は同一であっても異なっていてもよい。本発明の電気物品は、多数の内部デジタル化絶縁性および導電性層を含んでいてもよい。 The substrate of the electrical article of the present invention may include a single layer or a plurality of layers arranged in a laminate structure. The first and second substrates are made of graphite, a composite such as silver particles in a polymer matrix, a metal such as copper or aluminum, a combination thereof, or a laminate thereof. A multilayer substrate is produced by coating a removable carrier layer with a metal layer such as copper or aluminum. For example, the copper layer may be coated on a removable polyester carrier. The first and second substrates may be the same or different. The electrical article of the present invention may include a number of internal digitized insulating and conductive layers.
本発明の電気物品による基板は自立しているのが好ましい。「自立基板」という用語は、コートおよび取扱いが可能な十分な構造上の完全性を有する基板のことを指す。基板は可撓性であるのが好ましいが、剛性基板を用いてもよい。 The substrate of the electrical article of the present invention is preferably self-supporting. The term “self-supporting substrate” refers to a substrate having sufficient structural integrity that can be coated and handled. The substrate is preferably flexible, but a rigid substrate may be used.
一般的に、絶縁層と接触している第１の基板の主面および絶縁層と接触している第２の基板は、コンデンサを形成するとき導電性である。例えば、酸化やカップリング剤との反応により、これらの主面に材料を添加する表面処理を用いて、接着を促してもよい。あるいは、別個のコーティング工程を実施して、５−アミノベンゾトリアゾールのような接着力促進プライマーを適用してもよい。５−アミノベンゾトリアゾールによる基板表面の処理は、クロメート曇り止め表面処理のされていない銅ホイルに特に関係する。基板そのものの主面に得られる材料は必ずしも導電性である必要はないが、基板自身が導電性の場合にはコンデンサが形成される。 In general, the primary surface of the first substrate in contact with the insulating layer and the second substrate in contact with the insulating layer are conductive when forming the capacitor. For example, adhesion may be promoted by using a surface treatment in which a material is added to these main surfaces by oxidation or a reaction with a coupling agent. Alternatively, a separate coating step may be performed to apply an adhesion promoting primer such as 5-aminobenzotriazole. Treatment of the substrate surface with 5-aminobenzotriazole is particularly relevant for copper foils that are not chromated anti-fog surface treated. The material obtained for the main surface of the substrate itself is not necessarily conductive, but a capacitor is formed when the substrate itself is conductive.
基板の厚さは好ましくは０．５〜３ミル（約１０〜８０Ｔｍ）、より好ましくは０．５〜１．５ミル（約１０〜３８Ｔｍ）である。 The thickness of the substrate is preferably 0.5-3 mil (about 10-80 Tm), more preferably 0.5-1.5 mil (about 10-38 Tm).
基板が金属のときは、金属のアニール温度は、絶縁層を硬化する温度以下であるのが好ましい、または金属は絶縁層をコートする前にアニールする。 When the substrate is a metal, the metal annealing temperature is preferably below the temperature at which the insulating layer is cured, or the metal is annealed before coating the insulating layer.
好ましい基板は銅である。銅としては、ドイツ、ニュルンベルクのカールシュレンクＡＧ（Ｃａｒｌ Ｓｃｈｌｅｎｋ， ＡＧ， Ｎｕｒｎｂｅｒｇ， Ｇｅｒｍａｎｙ）より入手可能な銅ホイルが例示される。 A preferred substrate is copper. An example of copper is copper foil available from Karl Schlenk AG, Nuremberg, Germany (Carl Schlenk, AG, Nurnberg, Germany).
本発明の電気物品の製造方法には、詳細が国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載されているが、２つの対向する主面を有する第１の基板を提供することが含まれる。エポキシ樹脂組成物を第１の基板の第１の主面にコートする。２つの対向する主面を有する第２の基板を、第１の基板の第１の主面上のエポキシ樹脂組成物にラミネートする。得られたラミネートをエポキシ樹脂組成物を硬化するのに十分な時間および温度で加熱する。 The method for manufacturing an electrical article of the present invention, which is described in detail in WO 00/45624, includes providing a first substrate having two opposing major surfaces. The epoxy resin composition is coated on the first main surface of the first substrate. A second substrate having two opposing major surfaces is laminated to the epoxy resin composition on the first major surface of the first substrate. The resulting laminate is heated for a time and temperature sufficient to cure the epoxy resin composition.
あるいは、第２の基板もまた、その第１の主面にエポキシ樹脂組成物を含んでいてもよく、第１および第２の基板を併せてラミネートして、第１および第２の基板の夫々の第１の主面を結合する、すなわち、各基板のエポキシ樹脂のコートされた側を併せてラミネートしてもよい。 Alternatively, the second substrate may also include an epoxy resin composition on the first main surface thereof, and the first and second substrates are laminated together to form each of the first and second substrates. The first principal surfaces of the substrates may be bonded, that is, the epoxy-coated side of each substrate may be laminated together.
基板の主面は、絶縁層との接着を最大にするために、ごみや化学吸収または吸着材料が実際にないのが好ましい。具体的な方法は国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載されており、アルゴン−酸素プラズマまたはエアコロナ、または湿潤化学処理により処理することが含まれる。基板の両側に接合する微粒子は、例えば、コロラド州ボールダーのウェブシステムズ社（Ｗｅｂ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ．， Ｂｏｕｌｄｅｒ， ＣＯ）よりウルトラクリーナー（ＵＬＴＲＡＣＬＥＡＮＥＲ）という商品名で市販されている超音波／真空ウェブクリーニング装置を用いて除去することができる。あるいは、例えば、ニューヨーク州ロチェスターのポリマグテック（Ｐｏｌｙｍａｇ Ｔｅｃｈ ｏｆ Ｒｏｃｈｅｓｔｅｒ， ＮＹ）製の粘着ローラーシステムを用いて基板を清浄にしてもよい。コーティングが不均一になったり、物品が短絡、例えば、コンデンサが短絡する結果を招く恐れのある、起こり得るコーティングの問題やコーティングの不具合を避けるために、この表面処理工程中、基板を引っ掻いたり、窪ませたり、曲げたりしないようにするのが好ましい。 The main surface of the substrate is preferably practically free of debris and chemical absorbing or adsorbing materials to maximize adhesion with the insulating layer. Specific methods are described in WO 00/45624 and include treatment by argon-oxygen plasma or air corona or wet chemical treatment. Fine particles to be bonded to both sides of the substrate can be obtained, for example, by using an ultrasonic / vacuum web cleaning apparatus commercially available under the trade name ULTRACLEANER from Web Systems Inc., Boulder, CO., Boulder, Colorado. And can be removed. Alternatively, the substrate may be cleaned, for example, using an adhesive roller system made by Polymag Tech of Rochester, NY, Rochester, NY. To avoid possible coating problems or coating defects that could result in uneven coating or short circuiting of the article, e.g. capacitor short circuit, scratching the substrate during this surface treatment process, It is preferable not to be depressed or bent.
アミノフェニルフルオレンとフェノール触媒の混合物を用いる場合は、クロメート曇り止め表面仕上げのない銅ホイルのような金属基板だと、例えば、５−アミノベンゾトリアゾールのような接着促進プライマーを適用する別個のコーティング工程が必要な場合がある。フェノール触媒を完全に排除し、５−アミノベンゾトリアゾールと置換するのが好ましく、これによって硬化時間が短くなり、別個の下塗り工程が不要となる。この処方だと、クロメート曇り止め表面処理のなされた銅ホイルと曇り止め処理のされていないホイルを、同じプロセスを用いて使うことができる。 When using a mixture of aminophenylfluorene and phenolic catalyst, a separate coating process that applies an adhesion promoting primer such as 5-aminobenzotriazole, for example, a metal substrate such as a copper foil without a chromate anti-fog surface finish May be necessary. It is preferred to completely eliminate the phenol catalyst and replace it with 5-aminobenzotriazole, which reduces the cure time and eliminates the need for a separate primer step. With this formulation, a copper foil with a chromate anti-fog surface treatment and a foil with no anti-fog treatment can be used using the same process.
清浄にした銅ホイルを、好適な方法、例えば、グラビアコーターを用いてエポキシ樹脂組成物でコートしてもよい。樹脂組成物を乾燥して、残渣溶剤を除去する。コートされたエポキシ樹脂組成物の乾燥厚さは、組成物中の固体のパーセント、グラビアロールとコーティング基板の相対速度、および用いたグラビアのセル体積によって異なる。一般的に、０．５〜２Ｔｍの乾燥厚さを得るには、エポキシ樹脂組成物中の固体のパーセントは２０〜７５重量％である。コーティングは、コーターのオーブンでほぼ粘着性のない状態まで、一般的には約１００℃未満の温度で乾燥させるのが好ましい。コーティングは、約３０℃の温度で開始し、約１００℃の温度で終わる、多段で乾燥させて、ロールに巻きつけるのがより好ましい。これより高い最終乾燥温度、例えば、約２００℃までを用いることができるが必要ではない。 The cleaned copper foil may be coated with the epoxy resin composition using a suitable method, for example, a gravure coater. The resin composition is dried to remove the residual solvent. The dry thickness of the coated epoxy resin composition depends on the percent solids in the composition, the relative speed of the gravure roll and the coated substrate, and the gravure cell volume used. Generally, to obtain a dry thickness of 0.5-2 Tm, the percent solids in the epoxy resin composition is 20-75 wt%. The coating is preferably dried in the coater oven to a substantially non-sticky state, generally at temperatures below about 100 ° C. More preferably, the coating starts at a temperature of about 30 ° C. and ends at a temperature of about 100 ° C., is dried in multiple stages, and is wound on a roll. Higher final drying temperatures, for example up to about 200 ° C., can be used but are not required.
通常、乾燥工程中に架橋はほとんど生じず、その目的は主に、溶剤をできる限り除去することである。溶剤が残っていると、コートされたエポキシ樹脂組成物をロールで保管するときにブロッキング（すなわち、望ましくない内部層接着）を招いたり、ラミネートの接着力が乏しくなる恐れがある。より具体的には、コーティングに溶剤残渣があったり、銅ホイルが不均一だと、コーティングの小さな部分が近接するラップでホイルの逆側に粘着して、ピンホール状の欠陥（「ピックオフ」と呼ばれる）をコーティングに与える傾向がある。この欠陥は、電圧を印加したときに直接短絡または早期の破断につながる可能性がある。アミノフェニルフルオレン触媒化されたエポキシ樹脂組成物コーティングは、フェノール触媒により触媒化されたエポキシコーティングよりもこの欠陥を生じ難い。 Usually, little cross-linking occurs during the drying process, the purpose of which is mainly to remove as much solvent as possible. If the solvent remains, blocking (that is, undesired inner layer adhesion) may occur when the coated epoxy resin composition is stored on a roll, or the adhesive strength of the laminate may be poor. More specifically, if there is a solvent residue in the coating or if the copper foil is non-uniform, a small portion of the coating will stick to the opposite side of the foil with a nearby wrap, resulting in pinhole defects (“pickoff”). Tend to give the coating). This defect can lead to a direct short circuit or premature failure when a voltage is applied. Aminophenylfluorene catalyzed epoxy resin composition coatings are less prone to this defect than phenolic catalyzed epoxy coatings.
欠陥を排除するためのコーティング技術としては、コーティング混合物のインラインろ過および脱気（気泡除去）が挙げられる。さらに、誘電体層でコートされた２枚の基板をラミネートする前に、少なくとも１枚の誘電体層を、好ましくは空気中で、部分的に硬化するのが好ましい。特に、基板の接着力は、ラミネーションの前にコーティングを熱処理することにより改善される。熱処理の時間は、好ましくは短い、例えば、特に高温では、約１０分未満である。 Coating techniques to eliminate defects include in-line filtration and degassing (bubble removal) of the coating mixture. Furthermore, it is preferred that at least one dielectric layer is partially cured, preferably in air, before laminating the two substrates coated with the dielectric layer. In particular, the adhesion of the substrate is improved by heat treating the coating prior to lamination. The duration of the heat treatment is preferably short, for example less than about 10 minutes, especially at high temperatures.
ラミネーションは、上述したコートした２枚の基板を用いて実施されるのが好ましい。コートされた基板の一枚を、ラミネータに入れる前に、１２５〜１７５℃の温度で３０秒未満、より好ましくは１２５〜１６０℃の温度で、オーブンに通すか、加熱ローラにかける。この予備加熱工程は、コートした基材の一方または両方に行うことができる。本発明の電気物品を作製するために、コートした基材の誘電体層側同士を、１２０〜２００℃、好ましくは約１３５℃の温度まで加熱した２本のニップローラを備えたラミネータを用いてラミネートしてもよい。好適な空気圧、好ましくは５〜４０ｐｓｉ（３４〜２８０ｋＰａ）、好ましくは約１５ｐｓｉ（１００ｋＰａ）の圧力をラミネータロールに与える。ローラ速度は好適な値に設定でき、好ましくは１２〜３６インチ／分（０．５〜１．５ｃｍ／秒）、より好ましくは約１５インチ／分（０．６４ｃｍ／秒）である。このプロセスはバッチモードで実施することもできる。 Lamination is preferably performed using the two coated substrates described above. One piece of the coated substrate is passed through an oven or heated roller at a temperature of 125-175 ° C. for less than 30 seconds, more preferably 125-160 ° C., prior to entering the laminator. This preheating step can be performed on one or both of the coated substrates. In order to produce the electrical article of the present invention, a laminate is laminated using a laminator having two nip rollers in which the dielectric layer sides of the coated substrate are heated to a temperature of 120 to 200 ° C., preferably about 135 ° C. May be. A suitable air pressure is applied to the laminator roll, preferably 5-40 psi (34-280 kPa), preferably about 15 psi (100 kPa). The roller speed can be set to a suitable value, preferably 12 to 36 inches / minute (0.5 to 1.5 cm / second), more preferably about 15 inches / minute (0.64 cm / second). This process can also be carried out in batch mode.
ラミネートした材料を所望の長さのシートへと切断したり、好適な巻心に巻きつけることができる。 The laminated material can be cut into sheets of the desired length or wound around a suitable core.
得られた材料をエポキシ樹脂組成物が硬化するのに十分な時間および温度で加熱する。硬化温度は１５０〜２２５℃、好ましくは１６０〜２００℃であり、硬化時間は９０〜１８０分、好ましくは９０〜１２０分である。 The resulting material is heated at a time and temperature sufficient for the epoxy resin composition to cure. The curing temperature is 150 to 225 ° C, preferably 160 to 200 ° C, and the curing time is 90 to 180 minutes, preferably 90 to 120 minutes.
誘電体層の金属基板への接着力は、金属がコーティング時に十分に軟らかい、またはラミネーションおよび／または硬化中に軟化する、すなわち、コーティング前にホイルをアニールする、または後の処理中にアニールされる場合に向上する。金属アニール温度がエポキシ樹脂組成物の硬化温度以下である場合は、アニーリングは、コーティング工程の前に基板を加熱することにより、または硬化または乾燥工程の結果成される。硬化が生じる温度より低いアニール温度で金属基板を用いるのが好ましい。アニール条件は、用いる金属基板によって異なる。銅の場合には、プロセスのこれらの段階のいずれかにおいて、１０ｇの荷重を用いたときに、金属基板が約７５ｋｇ／ｍｍ2未満のビッカース硬度を得るのが好ましい。この硬度を得るための銅の好ましい温度範囲は１００〜１８０℃、より好ましくは１２０〜１６０℃である。 The adhesion of the dielectric layer to the metal substrate is sufficiently soft during coating, or softens during lamination and / or curing, i.e. anneals the foil before coating or anneals during subsequent processing If you improve. If the metal annealing temperature is below the curing temperature of the epoxy resin composition, annealing is accomplished by heating the substrate prior to the coating process or as a result of a curing or drying process. It is preferred to use the metal substrate at an annealing temperature lower than the temperature at which curing occurs. The annealing conditions vary depending on the metal substrate used. In the case of copper, it is preferred that at any of these stages of the process, the metal substrate obtains a Vickers hardness of less than about 75 kg / mm 2 when a 10 g load is used. The preferable temperature range of copper for obtaining this hardness is 100 to 180 ° C, more preferably 120 to 160 ° C.
硬化後、９０度剥離角度で電気物品の第１および第２の基板を分離するのに必要な力は、電子回路の内部接続およびパッケージング協会が１９８８年１０月に発行したＩＰＣ試験方法マニュアル、ＩＰＣ−ＴＭ−６５０、試験番号２．４．９に従って測定したとき、約３ポンド／インチ（約０．５キロニュートン／メートル（ｋＮ／ｍ））を超える、好ましくは４ポンド／インチ（０．７ｋＮ／ｍ）を超える、より好ましくは６ポンド／インチ（１ｋＮ／ｍ）を超える。３枚以上の基板が本発明の電気物品に存在する場合には、絶縁性または導電性層によりいずれか一対の基板を分離するのにこの力が必要である。 After curing, the force required to separate the first and second substrates of the electrical article at a 90 degree peel angle is the IPC test method manual published in October 1988 by the Electronic Circuits Interconnection and Packaging Association, When measured according to IPC-TM-650, test number 2.4.9, greater than about 3 pounds / inch (about 0.5 kilonewtons / meter (kN / m)), preferably 4 pounds / inch (0. 7 kN / m), more preferably 6 pounds / inch (1 kN / m). When more than two substrates are present in the electrical article of the present invention, this force is required to separate either pair of substrates by an insulating or conductive layer.
本発明の電気物品は、製造しただけで機能させることができるが、電気物品は後述するようにパターニングさせて、例えば、側部の導電性を制限するために、別個の島を形成したり、領域を除去するのが好ましい。パターニングされた電気物品は、後述するように、回路物品そのものとして、または回路物品中のコンポーネントとして用いることができる。 The electrical article of the present invention can be made to function just by being manufactured, but the electrical article can be patterned as described below to form separate islands, for example, to limit side conductivity, It is preferable to remove the region. The patterned electrical article can be used as a circuit article itself or as a component in the circuit article, as will be described later.
接触可能な電気物品の第１または第２の基板の表面を、例えば、電気トレースにより接触させて、第１または第２の基板が電極として作用するように電気的接続を作製してもよい。さらに、誘電体層と接触している第１または第２の基板の主面と電気的接触を作製したり、スルーホール接触を与えるのが望ましい。電気デバイスと相互作用しないのが望ましいときはスルーホール接触が有用である。さらに、誘電体層と接触している第１または第２の基板の主面に到達させたり、スルーホール接触を与えるために、電気物品をパターニングしてもよい。 The surface of the first or second substrate of the accessible electrical article may be contacted by, for example, an electrical trace to make an electrical connection such that the first or second substrate acts as an electrode. Furthermore, it is desirable to make electrical contact with the major surface of the first or second substrate that is in contact with the dielectric layer, or to provide through-hole contact. Through-hole contact is useful when it is desirable not to interact with electrical devices. Furthermore, the electrical article may be patterned to reach the major surface of the first or second substrate that is in contact with the dielectric layer or to provide a through-hole contact.
業界に知られた好適なパターニング技術のいずれかを用いることができる。好適なパターニング技術は、国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載されている。 Any suitable patterning technique known in the art can be used. Suitable patterning techniques are described in WO 00/45624.
ある修正を行うことで本発明の電気物品自体が回路物品として機能する。一例として、電気物品をパターニングする。この場合、本発明の電気物品を提供し、上述した通りにしてこの電気物品をパターニングすることによって、電気接続のための接触を与えて、回路物品を作製することができる。電気物品の片側または両側のいずれかをパターニングして、第１および第２の基板の各主面と接触させて、スルーホール接触を与える。 By making a certain correction, the electrical article itself of the present invention functions as a circuit article. As an example, the electrical article is patterned. In this case, by providing the electrical article of the present invention and patterning the electrical article as described above, a contact for electrical connection can be provided to produce a circuit article. Either one or both sides of the electrical article are patterned to contact each major surface of the first and second substrates to provide through-hole contact.
他の実施形態において、本発明の電気物品を提供する工程と、少なくとも１つの電気的接触を与える工程と、接触を電気物品の少なくとも１つの基板に接続する工程とを含む方法により回路物品を作製してもよい。 In another embodiment, a circuit article is made by a method that includes providing an electrical article of the present invention, providing at least one electrical contact, and connecting the contact to at least one substrate of the electrical article. May be.
本発明の電気物品はさらに、例えば、ＰＷＢまたはフレキシブル回路を作製するために１層以上の追加の層を含んでいてもよい。追加の層は剛性であっても可撓性であってもよい。剛性層としては、ニューハンプシャー州フランクリンのポリクラッド（Ｐｏｌｙｃｌａｄ， Ｆｒａｎｋｌｉｎ， ＮＨ）よりＰＣＬ−ＦＲ−２２６という商品名で市販されているファイバーガラス／エポキシ複合体、セラミック、金属またはこれらの組み合わせが例示される。フレキシブル層は、ポリイミドまたはポリエステル、金属ホイルまたはこれらの組み合わせのようなポリマーフィルムを含む。ポリイミドは、デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）よりカプトン（ＫＡＰＴＯＮ）という商品名で市販されており、ポリエステルはミネソタ州セントポールの３Ｍ社（３Ｍ、Ｓｔ． Ｐａｕｌ， ＭＮ）よりスコッチパー（ＳＣＯＴＣＨＰＡＲ）という商品名で市販されている。これらの追加の層はまた、層の上部または層内に埋め込まれた導電性トレースを含有していてもよい。導電性トレースとは、電流が流れるにように設計された導電性材料のストリップまたはパターンのことを指す。導電性トレースに好適な材料は、銅、アルミニウム、錫、はんだ、銀ペースト、金およびこれらの組み合わせを含む。 The electrical article of the present invention may further include one or more additional layers, for example to make a PWB or flexible circuit. The additional layer may be rigid or flexible. Examples of rigid layers include fiberglass / epoxy composites, ceramics, metals, or combinations thereof that are commercially available under the trade name PCL-FR-226 from Polyclad, Franklin, NH, New Hampshire. The flexible layer includes a polymer film such as polyimide or polyester, metal foil, or combinations thereof. Polyimide is commercially available under the trade name KAPTON from DuPont, and polyester is available under the trade name SCOTCHPAR from 3M Company, St. Paul, Minn. (3M, St. Paul, MN). Has been. These additional layers may also contain conductive traces embedded on top of or within the layer. A conductive trace refers to a strip or pattern of conductive material designed to allow current to flow. Suitable materials for the conductive traces include copper, aluminum, tin, solder, silver paste, gold and combinations thereof.
本実施形態において、回路物品の好ましい製造方法は、本発明の電気物品を提供する工程と、電気物品の少なくとも一方の側をパターニングする工程と、追加の層を提供する工程と、層を電気物品に取り付ける工程と、電気物品の少なくとも１つの基板に少なくとも１つの電気的接触を提供する工程とを含む。好ましくは、第２の追加の層を与え、電気物品に取り付ける。 In this embodiment, a preferred method for manufacturing a circuit article includes the steps of providing an electrical article of the present invention, patterning at least one side of the electrical article, providing an additional layer, and applying the layer to the electrical article. And attaching at least one electrical contact to at least one substrate of the electrical article. Preferably, a second additional layer is provided and attached to the electrical article.
本発明の電気物品は、ＰＷＢ、例えば、フレキシブル回路において、コンデンサとして機能するコンポーネントとして用いることができる。物品の１２５℃でのキャパシタンスは、室温の値の１５％以内であり、８５℃および８５％の相対湿度で、６ボルトのバイアスを用いて、漏れ電流が１００ｎＡ未満である。 The electrical article of the present invention can be used as a component that functions as a capacitor in a PWB, for example, a flexible circuit. The capacitance of the article at 125 ° C. is within 15% of the room temperature value, and the leakage current is less than 100 nA with a bias of 6 volts at 85 ° C. and 85% relative humidity.
電気物品は、ＰＷＢまたはフレキシブル回路内に埋め込む、または集積されていてもよい。本発明の電気物品を用いてフレキシブル回路またはＰＷＢを製造する方法は、国際公開第００／４５６２４号パンフレットに記載されており、ここに参考文献として組み込まれる。 The electrical article may be embedded or integrated within the PWB or flexible circuit. A method for producing a flexible circuit or PWB using the electrical article of the present invention is described in WO 00/45624, which is incorporated herein by reference.
本発明にはまた、回路基板（ＰＷＢ）の電気回路またはフレキシブル回路内で機能する本発明の電気物品を含む電気デバイスも包含される。電気装置は、容量性コンポーネントを有するＰＷＢまたはフレキシブル回路を用いる電気デバイスを含んでいてもよい。電気装置としては、携帯電話、電話、ファックス機、コンピュータ、プリンタ、ポケットベル（登録商標）および当業者に認識されているその他装置が例示される。本発明の電気物品は、空間が重要である、または１ＧＨｚを超える周波数で操作される電気装置に特に有用である。 The present invention also includes an electrical device comprising an electrical article of the present invention that functions within an electrical circuit or flexible circuit of a circuit board (PWB). The electrical device may include an electrical device that uses a PWB or flexible circuit with capacitive components. Examples of electrical devices include cell phones, telephones, fax machines, computers, printers, pagers, and other devices recognized by those skilled in the art. The electrical article of the present invention is particularly useful for electrical devices where space is important or operated at frequencies above 1 GHz.
本発明を以下の実施例によりさらに説明するが、これらの実施例に挙げられた特定の材料および量、その他条件および詳細は本発明を不当に限定するものではない。 The present invention is further illustrated by the following examples, which are not intended to unduly limit the present invention to the specific materials and amounts, other conditions and details listed in these examples.
実施例１：５−アミノベンゾトリアゾールを含有する、（アミノフェニル）フルオレン硬化絶縁層を備えた電気物品 Example 1: Electrical article with (aminophenyl) fluorene cured insulating layer containing 5-aminobenzotriazole
グラビアまたはダイコーティング技術を用いて上記の分散液を銅ホイル（ホイル１オンス、厚さ３５μｍ）にコートした。分散液は、別個の下塗り工程を必要とせずに未処理の銅ホイルにコートすることができる。誘電体の乾燥厚さは約２．０〜５．０μｍであった。コーティングを乾燥させて粘着性のない表面とし、ロールに巻きつけた。２本のロールを続いてラミネートし、加熱した２本のニップローラを用いて側部同士をコートした。小さな試料には標準フォトレジストラミネータが向いている。ラミネートした材料を１８０℃で約１．５〜２時間硬化した。硬化したパネルを、従来のフォトレジストおよびエッチング液を用いて片側または両側をパターニングして、個々のコンデンサを生成した。 The above dispersion was coated on copper foil (1 oz foil, 35 μm thick) using gravure or die coating techniques. The dispersion can be coated onto untreated copper foil without the need for a separate primer step. The dry thickness of the dielectric was about 2.0-5.0 μm. The coating was dried to a non-stick surface and wrapped around a roll. Two rolls were subsequently laminated and the sides were coated using two heated nip rollers. Standard photoresist laminators are suitable for small samples. The laminated material was cured at 180 ° C. for about 1.5-2 hours. The cured panel was patterned on one or both sides using conventional photoresist and etchants to produce individual capacitors.
実施例２：２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノールを含有する、（アミノフェニル）フルオレン硬化絶縁層を備えた電気物品 Example 2: Electrical article with (aminophenyl) fluorene cured insulating layer containing 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol
グラビアまたはダイコーティング技術を用いて上記の分散液を銅ホイル（ホイル１オンス、厚さ３５μｍ）にコートした。５−アミノベンゾトリアゾールのような接着促進剤を、エポキシによるコーティングの前に基材にコートしてもよい。一般的に、希釈溶液、例えば、０．０５〜０．１５重量％のメタノールのようなアルコールを、標準コーティング技術により適用し、基板を乾燥した。誘電体の乾燥厚さは約２．０〜５．０μｍであった。コーティングを乾燥させて粘着性のない表面とし、ロールに巻きつけた。２本のロールを続いてラミネートし、加熱した２本のニップローラを用いて側部同士をコートした。小さな試料には標準フォトレジストラミネータが向いている。ラミネートした材料を１８０℃で約２時間硬化した。硬化したパネルを、従来のフォトレジストおよびエッチング液を用いて片側または両側をパターニングして、個々のコンデンサを生成した。 The above dispersion was coated on copper foil (1 oz foil, 35 μm thick) using gravure or die coating techniques. An adhesion promoter such as 5-aminobenzotriazole may be coated on the substrate prior to coating with the epoxy. In general, a dilute solution, for example 0.05-0.15 wt% alcohol such as methanol, was applied by standard coating techniques and the substrate was dried. The dry thickness of the dielectric was about 2.0-5.0 μm. The coating was dried to a non-stick surface and wrapped around a roll. Two rolls were subsequently laminated and the sides were coated using two heated nip rollers. Standard photoresist laminators are suitable for small samples. The laminated material was cured at 180 ° C. for about 2 hours. The cured panel was patterned on one or both sides using conventional photoresist and etchants to produce individual capacitors.
キャパシタンスおよび損失係数の温度依存性を図１および図２に示す。８５℃、８５％相対湿度の環境で、電圧バイアスをコンデンサに与えて漏れ電流を測定した。例えば、標準処方のコンデンサに６ボルトのバイアスをこれらの条件下で与えると、漏れ電流は１００ｎＡ／ｃｍ2であった。アミノフェニルフルオレン架橋エポキシの同様のコンデンサの漏れ電流は僅か１０ｎＡ／ｃｍ2であり、大幅に改善された。 The temperature dependence of capacitance and loss factor is shown in FIGS. The leakage current was measured by applying a voltage bias to the capacitor in an environment of 85 ° C. and 85% relative humidity. For example, when a 6 volt bias was applied to a standard prescription capacitor under these conditions, the leakage current was 100 nA / cm 2 . The leakage current of a similar capacitor of aminophenylfluorene cross-linked epoxy was only 10 nA / cm 2 , a significant improvement.
実施例３：高温用途の、５−アミノベンゾトリアゾールを含有する、（アミノフェニル）フルオレン硬化絶縁層を備えたコンデンサ Example 3: Capacitor with (aminophenyl) fluorene cured insulating layer containing 5-aminobenzotriazole for high temperature applications
本実施例は、同原材料だが、触媒を存在させてフルオレン化合物対エポキシの比率および初期硬化温度を変えて作製した２つのパネルを比べるものである。グラビアまたはダイコーティング技術を用いて上記の分散液を銅ホイル（ホイル１オンス、厚さ３５μｍ）にコートした。分散液は、別個の下塗り工程を必要とせずに未処理の銅ホイルにコートすることができる。誘電体の乾燥厚さは約２．０〜５．０μｍであった。コーティングを乾燥させて粘着性のない表面とし、ロールに巻きつけた。２本のロールを続いてラミネートし、加熱した２本のニップローラを用いて側部同士をコートした。小さな試料には標準フォトレジストラミネータが向いている。ラミネートした材料を１８０℃（試料Ａ）または２２５℃（試料Ｂ）で約１．５〜２時間硬化した。硬化したパネルを、従来のフォトレジストおよびエッチング液を用いて片側または両側をパターニングして、個々のコンデンサを生成した。上述した通り、９０度の剥離強度を用いて接着力を測定した。 This example compares two panels made of the same raw material but with a catalyst present and varying the ratio of fluorene compound to epoxy and the initial curing temperature. The above dispersion was coated on copper foil (1 oz foil, 35 μm thick) using gravure or die coating techniques. The dispersion can be coated onto untreated copper foil without the need for a separate primer step. The dry thickness of the dielectric was about 2.0-5.0 μm. The coating was dried to a non-stick surface and wrapped around a roll. Two rolls were subsequently laminated and the sides were coated using two heated nip rollers. Standard photoresist laminators are suitable for small samples. The laminated material was cured at 180 ° C. (Sample A) or 225 ° C. (Sample B) for about 1.5-2 hours. The cured panel was patterned on one or both sides using conventional photoresist and etchants to produce individual capacitors. As described above, the adhesive strength was measured using a peel strength of 90 degrees.
本発明の多くの実施形態について説明してきた。しかしながら、本発明の技術思想および範囲から逸脱することなく様々な修正が行えるものと考えられる。従って、これ以外の実施形態が特許請求の範囲に含まれる。 A number of embodiments of the invention have been described. However, it is believed that various modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Accordingly, other embodiments are within the scope of the claims.
Claims (2)
各Ｒ0は、Ｈ、ハロゲン、１〜６個の炭素原子を有する鎖状および分岐アルキル基、フェニル、ニトロ、アセチルおよびトリメチルシリルから独立に選択され、
各Ｒは、Ｈ、および１〜６個の炭素原子を有する鎖状および分岐アルキル基から独立に選択され、
各Ｒ1は、Ｒ、Ｈ、フェニルおよびハロゲンから独立に選択される）
の硬化剤とから得られる硬化エポキシ樹脂組成物である誘電体層を含むコンデンサであって、
前記誘電体層が、８５℃および８５％の相対湿度で６ボルトのバイアスを用いて漏れ電流が１００ｎＡ／ｃｍ 2 未満であり、かつ、前記コンデンサが、室温と１２５℃の間のキャパシタンスの温度係数の変化が１５％未満である、コンデンサ。 Epoxy resin and formula 1
Each R 0 is independently selected from H, halogen, chained and branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, phenyl, nitro, acetyl and trimethylsilyl;
Each R is independently selected from H and chain and branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms;
Each R 1 is independently selected from R, H, phenyl and halogen)
A capacitor comprising a dielectric layer that is a cured epoxy resin composition obtained from the curing agent of
The dielectric layer has a leakage current of less than 100 nA / cm 2 with a bias of 6 volts at 85 ° C. and 85% relative humidity , and the capacitor has a temperature coefficient of capacitance between room temperature and 125 ° C. The capacitor has a change of less than 15%.
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