JP2002309200A - Adhesive film - Google Patents

Adhesive film

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JP2002309200A
JP2002309200A JP2001118511A JP2001118511A JP2002309200A JP 2002309200 A JP2002309200 A JP 2002309200A JP 2001118511 A JP2001118511 A JP 2001118511A JP 2001118511 A JP2001118511 A JP 2001118511A JP 2002309200 A JP2002309200 A JP 2002309200A
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adhesive film
epoxy resin
weight
epoxy
resin composition
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JP2001118511A
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Japanese (ja)
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Shigeo Nakamura
茂雄 中村
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Ajinomoto Co Inc
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Ajinomoto Co Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive film which can introduce simply an insulating layer of high dielectric capacity onto a multilayer printed circuit board by a vacuum laminator and be plated onto the insulating layer of high dielectric capacity. SOLUTION: This adhesive film comprises being layered with an epoxy resin composition containing components (A)-(D): (A) an aromatic epoxy resin being liquid at an ordinary temperature having two or more epoxy groups in a molecule; (B) an epoxy curing agent; (C) a phenoxy resin having weight- average molecular weight of 5,000 to 100,000; and (D) an inorganic filler of a high dielectric constant, on a supporting base film, wherein a specific dielectric constant after heat-curing of the epoxy resin composition is 10 or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層プリント配線板に
おいて高誘電容量絶縁層を導入するための接着フィルム
に関し、更には該接着フィルムにより高誘電絶縁層が設
けられた多層プリント配線板、及び該多層プリント配線
板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive film for introducing a high dielectric capacity insulating layer in a multilayer printed wiring board, and further relates to a multilayer printed wiring board provided with a high dielectric insulating layer by the adhesive film. The present invention relates to a method for manufacturing the multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器、通信機器等に用いられ
るプリント配線板には、演算処理速度の高速化、配線の
高密度化の要求が強まっている。搭載されるデジタルI
C等の誤作動やノイズ防止に対応するため、多量のコン
デンサを配線板上に形成しているが、高密度実装化に伴
ってコンデンサについても小型化への改良が行われてい
る。一方、コンデンサを不要にするものとして特開平1
1−340636に記載されたような電源層と設置層の
間に高誘電容量絶縁層を設けたプリント配線板が提案さ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a growing demand for a printed wiring board used for electronic equipment, communication equipment and the like to have a higher arithmetic processing speed and a higher wiring density. Digital I mounted
A large number of capacitors are formed on a wiring board in order to cope with malfunctions of C and the like and noise prevention. However, with the high-density mounting, capacitors have been improved to be smaller. On the other hand, Japanese Unexamined Patent Publication No.
A printed wiring board in which a high dielectric capacitance insulating layer is provided between a power supply layer and an installation layer as described in 1-340636 has been proposed.

【0003】従来、このようなプリント配線板に設けら
れる高誘電容量絶縁層としては、エポキシ樹脂に高誘電
無機充填剤を配合しガラスクロスに含浸したプリプレグ
や、高誘電率ポリマーと高誘電率無機充填剤を組み合わ
せた組成物などにより導入されている。しかし、これら
のものは樹脂流れが悪く、貼り合わせに高温・高圧のプ
レス条件を必要とするなど、工業的生産において必ずし
も満足するものではなかった。
Conventionally, as a high dielectric capacity insulating layer provided on such a printed wiring board, a prepreg in which epoxy resin is mixed with a high dielectric inorganic filler and impregnated into a glass cloth, or a high dielectric polymer and a high dielectric inorganic material are mixed. It is introduced by a composition or the like in which a filler is combined. However, these materials are not always satisfactory in industrial production, for example, the resin flow is poor and high temperature and high pressure pressing conditions are required for bonding.

【0004】一方、多層プリント配線板用の接着フィル
ムとして、高温・高圧のプレスを必要とせず、真空ラミ
ネータにより多層プリント配線板に絶縁層を導入するこ
とができ、更に該絶縁層上にメッキすることを可能とす
る接着フィルムが知られている(特開平11−8792
7)。しかしながら、このような機能を有し、かつ高誘
電容量絶縁層を導入することができる接着フィルムは知
られていなかった。
On the other hand, as an adhesive film for a multilayer printed wiring board, an insulating layer can be introduced into the multilayer printed wiring board by a vacuum laminator without requiring a high-temperature and high-pressure press, and plating is further performed on the insulating layer. An adhesive film which makes it possible to do this is known (JP-A-11-8792).
7). However, an adhesive film having such a function and capable of introducing a high dielectric capacitance insulating layer has not been known.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、多層プリン
ト配線板に、真空ラミネータにより簡便に高誘電容量絶
縁層を導入することができ、また該高誘電容量絶縁層上
へのメッキが可能となる、接着フィルムを提供すること
にある。更には該接着フィルムにより製造される高誘電
容量絶縁層が導入された多層プリント配線板及び該多層
プリント配線板の製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a high dielectric capacity insulating layer can be easily introduced into a multilayer printed wiring board by a vacuum laminator, and plating can be performed on the high dielectric capacity insulating layer. An object of the present invention is to provide an adhesive film. It is still another object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board into which a high dielectric capacity insulating layer manufactured by the adhesive film is introduced, and a method for manufacturing the multilayer printed wiring board.

【0006】[0006]

【問題を解決するための手段】本発明者らは前記の課題
を解決すべく鋭意検討した結果、高誘電率無機充填剤を
含む特定の樹脂組成物が支持ベースフィルム上に層形成
された接着フィルムにより前記課題が解決されることを
見いだし本発明を完成させるに到った。すなわち本発明
は以下の内容を含むものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a specific resin composition containing a high dielectric constant inorganic filler is formed on a supporting base film as a layer. The inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by a film, and have completed the present invention. That is, the present invention includes the following contents.

【0007】(1)下記成分(A)〜(D): (A)1分子中に2以上のエポキシ基を有する常温で液
状の芳香族系エポキシ樹脂 (B)エポキシ硬化剤 (C)重量平均分子量が5000乃至100000であ
るフェノキシ樹脂 (D)高誘電率無機充填剤 を含有するエポキシ樹脂組成物が支持ベースフィルム上
に層形成された接着フィルムであって、該エポキシ樹脂
組成物の加熱硬化後の比誘電率が10以上となることを
特徴とする接着フィルム。
(1) The following components (A) to (D): (A) Aromatic epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and being liquid at room temperature (B) Epoxy curing agent (C) Weight average An adhesive film in which an epoxy resin composition containing a phenoxy resin having a molecular weight of 5,000 to 100,000 (D) a high dielectric constant inorganic filler is formed on a support base film, and the epoxy resin composition after heat curing. Wherein the relative dielectric constant of the adhesive film is 10 or more.

【0008】(2)上記接着フィルムを使用して高誘電
容量絶縁層が導入されたことを特徴とする多層プリント
配線板。
(2) A multilayer printed wiring board wherein a high dielectric capacitance insulating layer is introduced using the above-mentioned adhesive film.

【0009】(3)上記接着フィルムを加圧・加熱条件
下で回路基板にラミネートし、必要により支持ベースフ
ィルムを剥離し、支持ベースフィルム上に形成されてい
たエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させた後、支持ベース
フィルムが存在する場合は必要によりそれを剥離し、必
要により酸化剤によって硬化したエポキシ樹脂組成物層
の表面を粗化し、導体層をメッキにより形成することを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
(3) The adhesive film was laminated on a circuit board under pressure and heating conditions, the support base film was peeled off if necessary, and the epoxy resin composition formed on the support base film was cured by heating. After that, if a supporting base film is present, it is peeled off if necessary, the surface of the epoxy resin composition layer cured by an oxidizing agent is roughened if necessary, and a conductive layer is formed by plating, thereby forming a multilayer printed wiring. Plate manufacturing method.

【0010】(4)上記製造方法に従って得られた多層
プリント配線板。
(4) A multilayer printed wiring board obtained according to the above manufacturing method.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0012】本発明における成分(A)1分子中に2以
上のエポキシ基を有する常温で液状の芳香族系エポキシ
樹脂としては、好ましいものとして、例えば、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂等の常温(23℃)で液状のエポキシ
樹脂を挙げることができる。これらの樹脂としては通常
25℃における粘度が5〜200ポイズ(poise)のも
のを使用できるが、(D)成分の高誘電率無機充填剤を
高充填する観点、及び真空ラミネートに適した接着フィ
ルムの熱流動性を達成する観点から、より低粘度のも
の、すなわち25℃における粘度が5乃至100ポイズ
のものを用いるのが好ましい。
As the aromatic epoxy resin which is liquid at room temperature and has two or more epoxy groups in one molecule of the component (A), bisphenol A epoxy resin and bisphenol F epoxy resin are preferable. And epoxy resins which are liquid at normal temperature (23 ° C.) such as naphthalene type epoxy resin and phenol novolak type epoxy resin. As these resins, those having a viscosity of usually 5 to 200 poise at 25 ° C. can be used. However, from the viewpoint of highly filling the high dielectric constant inorganic filler (D), an adhesive film suitable for vacuum lamination From the viewpoint of achieving the thermal fluidity of the above, it is preferable to use one having a lower viscosity, that is, one having a viscosity of 5 to 100 poise at 25 ° C.

【0013】本発明における成分(B)であるエポキシ
硬化剤としては、アミン系硬化剤、グアニジン系硬化
剤、イミダゾール系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無
水物系硬化剤、又はこれらのエポキシアダクトが挙げら
れる。これらの硬化剤はマイクロカプセル化され、室温
以下でのポットライフが長いものが好ましい。
The epoxy curing agent which is the component (B) in the present invention includes an amine curing agent, a guanidine curing agent, an imidazole curing agent, a phenol curing agent, an acid anhydride curing agent, or an epoxy adduct thereof. Is mentioned. Preferably, these curing agents are microencapsulated and have a long pot life at room temperature or lower.

【0014】エポキシ硬化剤の中でも窒素原子を含有す
るフェノール系硬化剤を使用すれば、本発明のエポキシ
樹脂組成物の絶縁層として要求される耐熱性、難燃性、
接着性が向上する。窒素原子を有するフェノール系硬化
剤としては、例えばトリアジン構造含有ノボラック樹脂
(例えば、フェノライト7050シリーズ:大日本イン
キ化学工業(株)製)、メラミン変性フェノールノボラ
ック樹脂(例えば、ジャパンエポキシレジン(株)製:
YLH828)などがある。これらのエポキシ硬化剤は
各々単独で用いても、2種以上を組み合わせて使用して
もよい。
If a phenolic curing agent containing a nitrogen atom is used among the epoxy curing agents, the heat resistance and flame retardancy required for the insulating layer of the epoxy resin composition of the present invention can be obtained.
The adhesion is improved. Examples of the phenolic curing agent having a nitrogen atom include novolak resins containing a triazine structure (for example, phenolite 7050 series: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and melamine-modified phenol novolak resins (for example, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Made:
YLH828). These epoxy curing agents may be used alone or in combination of two or more.

【0015】これらエポキシ硬化剤の配合量は、フェノ
ール系硬化剤以外の場合は、エポキシ樹脂に対して2〜
12重量%の範囲にあるのが好ましい。一方、フェノー
ル系硬化剤の配合量については、エポキシ樹脂組成物中
の1エポキシ当量に対し0.5〜1.3フェノール性水酸
基当量に相当するフェノール系硬化剤を配合することが
望ましい。これらの範囲を外れると硬化後得られるエポ
キシ樹脂組成物において、耐熱性、機械強度の点で性能
が十分でない場合がある。
[0015] The compounding amount of these epoxy curing agents is 2 to 2 parts with respect to the epoxy resin except for the phenolic curing agent.
Preferably it is in the range of 12% by weight. On the other hand, as for the blending amount of the phenolic curing agent, it is desirable to blend a phenolic curing agent corresponding to 0.5 to 1.3 phenolic hydroxyl group equivalents with respect to 1 epoxy equivalent in the epoxy resin composition. Outside of these ranges, the epoxy resin composition obtained after curing may not have sufficient performance in terms of heat resistance and mechanical strength.

【0016】次に、本発明における成分(C)である重
量平均分子量が5000乃至100000であるフェノ
キシ樹脂について説明する。
Next, the phenoxy resin having a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000, which is the component (C) in the present invention, will be described.

【0017】重量平均分子量が5000乃至10000
0であるフェノキシ樹脂としては、例えばフェノトート
YP50(東都化成(株)製)、E−1256(ジャパ
ンエポキシレジン(株)製)などが挙げられる。
The weight average molecular weight is 5,000 to 10,000
Examples of the phenoxy resin which is 0 include phenothoto YP50 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and E-1256 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.).

【0018】成分(C)としては、特にビスフェノール
S骨格を有する重量平均分子量が5000乃至1000
00であるフェノキシ樹脂が好ましい。このようなフェ
ノキシ樹脂の具体例としては、YL6746H30(ジ
ャパンエポキシレジン(株)製)[ビキシノール型エポ
キシ樹脂(エピコートYX4000)とビスフェノール
Sからなるフェノキシ樹脂のシクロヘキサノンワニス:
不揮発分30重量%、重量平均分子量45000程
度]、YL6747H30(ジャパンエポキシレジン
(株)製)[ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコ
ート828)とビスフェノールSからなるフェノキシ樹
脂のシクロヘキサノンワニス:不揮発分30重量%、重
量平均分子量47000程度]を挙げることができる。
As the component (C), particularly, a bisphenol S skeleton having a weight average molecular weight of 5,000 to 1,000
Phenoxy resins that are 00 are preferred. Specific examples of such a phenoxy resin include YL6746H30 (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.) [cyclohexanone varnish of a phenoxy resin composed of a bixinol type epoxy resin (Epicoat YX4000) and bisphenol S:
YL6747H30 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) [cyclohexanone varnish of a phenoxy resin composed of bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828) and bisphenol S: 30% by weight of nonvolatile content, 30% by weight of nonvolatile content, Weight average molecular weight of about 47000].

【0019】フェノキシ樹脂がスルホン基を有すること
によりエポキシ樹脂との相溶性が悪くなるため、エポキ
シ樹脂組成物を溶媒に溶解した樹脂ワニス中では相溶で
あるが、加熱硬化後エポキシ樹脂硬化物中で相分離し海
島構造が形成される。そのため、ゴム成分等の粗化成分
を添加することなくとも良好な粗化面を容易に得ること
が可能である。またフェノキシ樹脂そのもののガラス転
移点が高く、また難燃性にも優れるため、本発明のエポ
キシ樹脂組成物における耐熱性及び難燃性の性能をより
優れたものとすることができるという利点もある。
Since the phenoxy resin has a sulfone group, the compatibility with the epoxy resin is deteriorated. Therefore, the phenoxy resin is compatible in a resin varnish obtained by dissolving the epoxy resin composition in a solvent. Phase separates to form a sea-island structure. Therefore, a good roughened surface can be easily obtained without adding a roughening component such as a rubber component. In addition, since the phenoxy resin itself has a high glass transition point and excellent flame retardancy, there is also an advantage that the epoxy resin composition of the present invention can have better heat resistance and flame retardancy performance. .

【0020】なお、フェノキシ樹脂の重量平均分子量が
5000未満であると、本発明のエポキシ樹脂組成物に
おける粗化性の性能が十分でなく、100000を超え
ると有機溶剤への溶解性が著しく低下し、実際上の使用
が困難となる。
When the weight average molecular weight of the phenoxy resin is less than 5,000, the epoxy resin composition of the present invention has insufficient roughening performance, and when it exceeds 100,000, the solubility in an organic solvent is significantly reduced. , Making practical use difficult.

【0021】また成分(C)の該フェノキシ樹脂の配合
量については、フェノキシ樹脂の種類によっても異なる
が、成分(A)の該エポキシ樹脂と成分(B)の該フェ
ノール系硬化剤との合計量100重量部に対し、好まし
くは5〜100重量部の範囲である。5重量%未満であ
ると接着フィルムの取り扱い性の観点から可とう性が不
充分であるし、導体層形成における十分な粗化性が得ら
れないことがある。一方、100重量%を超えると樹脂
ワニス自体が相分離を起こしたり、硬化物の海島構造が
逆転するなどの問題を生じることがある。
The amount of the phenoxy resin of component (C) varies depending on the type of phenoxy resin, but the total amount of the epoxy resin of component (A) and the phenolic curing agent of component (B) is different. It is preferably in the range of 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight. If the amount is less than 5% by weight, the flexibility is insufficient from the viewpoint of the handleability of the adhesive film, and sufficient roughening property in forming the conductor layer may not be obtained. On the other hand, when the content exceeds 100% by weight, problems such as phase separation of the resin varnish itself and inversion of the sea-island structure of the cured product may occur.

【0022】本発明における成分(D)の高誘電率無機
充填剤としては、チタン酸バリウム、チタン酸ストロン
チウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、
チタン酸鉛、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン
酸バリウム、ジルコン酸カルシウムから選択される。特
にチタン酸バリウムが好ましい。これらの無機充填剤は
比誘電率100以上であり、各々単独で用いてもよく、
2種以上を組み合わせて使用してもよい。また、形状は
球状、板状、ウィスカー(繊維)状いずれのものであっ
てもよい。
As the high dielectric constant inorganic filler of the component (D) in the present invention, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate,
It is selected from lead titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, and calcium zirconate. Particularly, barium titanate is preferable. These inorganic fillers have a relative dielectric constant of 100 or more, and each may be used alone,
Two or more kinds may be used in combination. The shape may be spherical, plate-like, or whisker (fiber) -like.

【0023】高誘電率無機充填剤を添加することによ
り、エポキシ樹脂組成物を高誘電率化することができ、
コンデンサとしての機能を具備することができるように
なる。
By adding a high dielectric constant inorganic filler, the epoxy resin composition can have a high dielectric constant,
The function as a capacitor can be provided.

【0024】無機充填剤の配合量は、加熱硬化後に望ま
れる比誘電率により変化し、(A)の該エポキシ樹脂と
成分(B)のエポキシ硬化剤の合計量100重量部に対
し70〜900重量部の範囲が好ましい。少なすぎると
高誘電率化の効果が十分でないし、多すぎると接着フィ
ルムとしての取り扱いが困難となる。
The amount of the inorganic filler varies depending on the relative dielectric constant desired after heat curing, and is 70 to 900 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the epoxy resin (A) and the epoxy curing agent (B). A range of parts by weight is preferred. If the amount is too small, the effect of increasing the dielectric constant is not sufficient, and if the amount is too large, handling as an adhesive film becomes difficult.

【0025】更に本発明のエポキシ樹脂組成物には上記
必須成分の他に、本発明の効果を阻害しない範囲で必要
に応じて他の熱硬化性樹脂や添加剤を用いることができ
る。熱硬化性樹脂としては、(A)以外の多官能エポキ
シ樹脂、希釈剤としての単官能エポキシ樹脂の他、ブロ
ックイソシアネート樹脂、キシレン樹脂、ラジカル発生
剤と重合性樹脂などが挙げられる。添加剤としては、例
えば(D)以外の無機充填剤としてシリカ、アルミナ、
硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミ
ニウム、水酸化マグネシウムが挙げられる。その他、シ
リコンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素パウダー等
の有機充填剤、アスベスト、オルベン、ベントン等の増
粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系の消泡剤又は
レベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリア
ゾール系、シランカップリング剤等の密着性付与剤、フ
タロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、ア
イオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、カーボンブラ
ック等の着色剤等を挙げることができる。
Further, in addition to the above-mentioned essential components, other thermosetting resins and additives can be used in the epoxy resin composition of the present invention, as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the thermosetting resin include a polyfunctional epoxy resin other than (A), a monofunctional epoxy resin as a diluent, a blocked isocyanate resin, a xylene resin, a radical generator and a polymerizable resin. Examples of the additives include silica, alumina, and the like as inorganic fillers other than (D).
Examples include barium sulfate, talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide. In addition, organic fillers such as silicon powder, nylon powder, and fluorine powder, thickeners such as asbestos, orben, and bentone, silicone-based, fluorine-based, polymer-based antifoaming agents or leveling agents, imidazole-based, thiazole-based, Adhesion imparting agents such as triazoles and silane coupling agents, and coloring agents such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, and carbon black can be used.

【0026】次に本発明の接着フィルムについて説明す
る。
Next, the adhesive film of the present invention will be described.

【0027】本発明におけるエポキシ樹脂組成物を有機
溶剤に溶解して樹脂ワニスとした後、これを支持体であ
るベースフィルム(支持ベースフィルム)上に塗布し、
熱風吹き付け等により溶剤を乾燥させて、接着フィルム
を製造することができる。好ましくは10〜200μm
厚の支持ベースフィルムに、エポキシ樹脂組成物層の厚
みをラミネートする回路基板の導体厚以上で、好ましく
は10〜100μmの範囲で層形成させる。特に電気容
量を向上させるためには樹脂層の厚みを薄く形成するこ
とが好ましい。乾燥後における樹脂層の残留溶剤量は5
重量%以下が好ましい。残留溶剤が多すぎると支持ベー
スフィルム付きで加熱硬化させる場合に、樹脂中にボイ
ドが発生する場合がある。なお、エポキシ樹脂組成物層
の支持ベースフィルムが密着していない面には1〜40
μm厚の支持フィルムに準じた保護フィルムをさらに積
層し、ロール状に巻きとって貯蔵することもできる。
After dissolving the epoxy resin composition of the present invention in an organic solvent to form a resin varnish, the resin varnish is applied on a base film (support base film) as a support,
The solvent can be dried by blowing hot air or the like to produce an adhesive film. Preferably 10 to 200 μm
The thickness of the epoxy resin composition layer is formed on the thick supporting base film in a thickness not less than the conductor thickness of the circuit board to be laminated, preferably in the range of 10 to 100 μm. Particularly, in order to improve the electric capacity, it is preferable to form the resin layer thin. The amount of residual solvent in the resin layer after drying is 5
% By weight or less is preferred. If the amount of the residual solvent is too large, voids may be generated in the resin when the resin is cured by heating with a supporting base film. The surface of the epoxy resin composition layer on which the supporting base film is not in close contact is 1 to 40.
A protective film conforming to a μm-thick support film may be further laminated, wound up in a roll shape, and stored.

【0028】支持ベースフィルムとしては、ポリエチレ
ン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリイミド、更には離型紙
や銅箔、アルミニウム箔等の金属箔などを挙げることが
できる。
Examples of the support base film include polyolefins such as polyethylene and polyvinyl chloride; polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polycarbonates and polyimides; and release papers and metal foils such as copper foil and aluminum foil. Can be.

【0029】なお、支持ベースフィルムにはマッド処
理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。
有機溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸
ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテー
ト等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルセロソルブ
等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール
等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等を挙げることができる。これらの有機溶剤は各々単独
で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
The supporting base film may be subjected to a mold release treatment in addition to a mud treatment and a corona treatment.
Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, acetic acid esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, cellosolves such as cellosolve and butyl cellosolve, and carbitol. And carbitols such as butyl carbitol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide and the like. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0030】次に本発明の接着フィルムを用いて本発明
の多層プリント配線板を製造する方法について説明す
る。
Next, a method for producing the multilayer printed wiring board of the present invention using the adhesive film of the present invention will be described.

【0031】本発明の接着フィルムをパターン加工され
た回路基板にラミネートする。ラミネートにおいて、接
着フィルムが保護フィルムを有している場合には該保護
フィルムを除去した後、接着フィルムを加圧及び加熱し
ながら回路基板に圧着する。
The adhesive film of the present invention is laminated on a patterned circuit board. In the lamination, when the adhesive film has a protective film, after removing the protective film, the adhesive film is pressure-bonded to the circuit board while applying pressure and heat.

【0032】ラミネートの条件は、接着フィルム及び回
路基板を必要によりプレヒートし、圧着温度を好ましく
は70〜130℃、圧着圧力を好ましくは1〜11kgf/
cm2とし、減圧下で積層するのが好ましい。また、ラミ
ネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式で
あってもよい。ラミネート後、室温付近に冷却してから
支持ベースフィルムを剥離し、回路基板上に本発明のエ
ポキシ樹脂組成物を加熱硬化させる。
The laminating conditions are as follows: the adhesive film and the circuit board are preheated as necessary, and the pressing temperature is preferably 70 to 130 ° C., and the pressing pressure is preferably 1 to 11 kgf /
cm 2, and preferably laminated under reduced pressure. The lamination method may be a batch method or a continuous method using a roll. After lamination, the support base film is peeled off after cooling to around room temperature, and the epoxy resin composition of the present invention is cured by heating on a circuit board.

【0033】また、離型処理の施された支持フィルムを
使用した場合には、加熱硬化させた後に支持フィルムを
剥離してもよい。一方、金属箔を使用した場合は支持フ
ィルムがそのまま導体層として使用できるため必ずしも
剥離する必要はない。
When a support film subjected to a release treatment is used, the support film may be peeled off after being cured by heating. On the other hand, when a metal foil is used, the supporting film can be used as it is as the conductor layer, and thus does not necessarily need to be peeled off.

【0034】次に本発明の多層プリント配線板の製造法
について説明する。なお、回路基板に用いられる基板と
しては、ガラスエポキシ基板、金属基板、ポリエステル
基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリ
フェニレンエーテル基板等を使用することができる。
Next, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention will be described. Note that as a substrate used for the circuit substrate, a glass epoxy substrate, a metal substrate, a polyester substrate, a polyimide substrate, a BT resin substrate, a thermosetting polyphenylene ether substrate, or the like can be used.

【0035】本発明において回路基板とは上記のような
基板の片面又は両面にパターン加工された導体層(回
路)が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交
互に層形成してなる多層プリント配線板において、該多
層プリント配線板の最外層の片面又は両面がパターン加
工された導体層(回路)となっているものも本発明にい
う回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理
等により予め粗化処理が施されていてもよい。
In the present invention, the circuit board refers to a board on which a patterned conductor layer (circuit) is formed on one or both sides of the board. The present invention also relates to a multilayer printed wiring board in which conductor layers and insulating layers are alternately formed, wherein one or both outermost layers of the multilayer printed wiring board are patterned conductor layers (circuits). Included in the circuit board. The surface of the conductive circuit layer may be previously subjected to a roughening treatment such as a blackening treatment.

【0036】該エポキシ樹脂組成物の加熱硬化後、必要
に応じてドリル、レーザー又はプラズマ等により穴開け
を行いビアホールを形成し、次いで乾式メッキ又は湿式
メッキにより導体層をを形成する。乾式メッキとしては
蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の公知
慣用の方法が使用できる。
After the epoxy resin composition is cured by heating, a via hole is formed by drilling, if necessary, laser or plasma to form a via hole, and then a conductor layer is formed by dry plating or wet plating. Known methods such as vapor deposition, sputtering, and ion plating can be used as the dry plating.

【0037】湿式法の場合は、まず過マンガン酸塩、重
クロム酸塩、オゾン、過酸化水素/硫酸、硝酸等の酸化
剤で硬化したエポキシ樹脂組成物層(絶縁層)の表面を
粗化処理し、凸凹のアンカーを形成する。次いで無電解
メッキと電解メッキを組み合わせた方法で導体層を形成
する。また導体層とは逆パターンのメッキレジストを形
成し、無電解メッキのみで導体層を形成することもでき
る。その後のパターン形成の方法として具体的には、例
えば当業者に公知のサブトラクティブ法、セミアディデ
ィブ法などを用いることができる。
In the case of the wet method, first, the surface of the epoxy resin composition layer (insulating layer) cured with an oxidizing agent such as permanganate, dichromate, ozone, hydrogen peroxide / sulfuric acid, nitric acid or the like is roughened. Processing to form a rough anchor. Next, a conductor layer is formed by a method combining electroless plating and electrolytic plating. Alternatively, a plating resist having a pattern opposite to that of the conductor layer may be formed, and the conductor layer may be formed only by electroless plating. As a method for forming a pattern thereafter, for example, a subtractive method, a semi-additive method, or the like known to those skilled in the art can be used.

【0038】本発明におけるエポキシ樹脂組成物は加熱
硬化後、比誘電率10以上の高電気容量絶縁層となり、
該エポキシ樹脂組成物が支持ベースフィルム上に層形成
された接着フィルムをもちいて多層プリント配線板を製
造することにより、多層プリント配線板中に自由にコン
デンサを内臓させることが可能になる。これによりコン
デンサ取り付け面積の確保が不要となり高実装密度が可
能となるばかりでなく、従来のようにチップコンデンサ
を介して電源供給を行っていたものに比べて、電子部品
をつなぐ経路が短縮され高速信号回路基板においても輻
射ノイズを抑制できるようになる。また、高温・高圧の
プレスを必要とせず、真空ラミネータにより多層プリン
ト配線板に高電気容量絶縁層を導入することができ、更
に該絶縁層上にメッキすることが可能であるため極めて
工業的かつ簡便な方法により高電気容量絶縁層を有する
多層プリント配線板を製造することができる。
The epoxy resin composition of the present invention becomes a high-capacity insulating layer having a relative dielectric constant of 10 or more after heat curing.
By manufacturing a multilayer printed wiring board using an adhesive film in which the epoxy resin composition is formed on a supporting base film, a capacitor can be freely incorporated in the multilayer printed wiring board. This eliminates the need to secure a capacitor mounting area, and not only enables high mounting density, but also shortens the path for connecting electronic components and reduces the speed compared to the conventional case where power is supplied via chip capacitors. The radiation noise can be suppressed even in the signal circuit board. In addition, a high-temperature, high-pressure press is not required, and a high-capacity insulating layer can be introduced into a multilayer printed wiring board by a vacuum laminator, and furthermore, plating can be performed on the insulating layer. A multilayer printed wiring board having a high electric capacity insulating layer can be manufactured by a simple method.

【0039】[0039]

【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0040】<実施例1>成分(A)として液状ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量176、ジャ
パンエポキシレジン(株)製 エピコート825)30
重量部、(B)としてジシアンジアミド(ジャパンエポ
キシレジン(株)製 DICY7)2部、2,4−ジア
ミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)−
1,3,5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物(四国
化成(株)製2MA−OK−PW)1部、成分(C)と
してフェノキシ樹脂ワニス(東都化成(株)製 YP5
0−EK35)30重量部と成分(D)として酸化チタ
ン酸(チタン工業(株)製KR−380)100重量
部、さらにメチルエチルケトン30部、ジメチルホルム
アミド5部を添加しスパイクミルで混練してエポキシ樹
脂組成物を作製した。そのワニス状のエポキシ樹脂組成
物を厚さ18μmの銅箔に、乾燥後の厚みが50μmと
なるようにダイコーターにて塗布し、80〜120℃で
10分乾燥させ、接着フィルムを得た。
Example 1 A liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 176, Epicoat 825 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 30 as the component (A) 30
Parts by weight, 2 parts of dicyandiamide (DICY7 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) as 2, (B), 2,4-diamino-6- (2-methyl-1-imidazolylethyl)-
1 part of 1,3,5-triazine / isocyanuric acid adduct (2MA-OK-PW manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.), phenoxy resin varnish as component (C) (YP5 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.)
0-EK35), 100 parts by weight of titanic oxide (KR-380 manufactured by Titanium Industry Co., Ltd.) as component (D), 30 parts of methyl ethyl ketone, and 5 parts of dimethylformamide were added and kneaded with a spike mill to obtain epoxy. A resin composition was prepared. The varnish-like epoxy resin composition was applied to a copper foil having a thickness of 18 µm by a die coater so that the thickness after drying became 50 µm, and dried at 80 to 120 ° C for 10 minutes to obtain an adhesive film.

【0041】<実施例2>成分(A)として液状ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量166、ジャ
パンエポキシレジン(株)製 エピコート806)30
重量部、成分(B)としてトリアジン構造含有フェノー
ルノボラック樹脂のMEKワニス(大日本インキ化学工
業(株)製 フェノライトLA−7052、不揮発分6
0%、不揮発分のフェノール性水酸基当量120)20
重量部、成分(C)としてエピコート828とビスフェ
ノールSからなるフェノキシ樹脂のシクロヘキサノンワ
ニス(ジャパンエポキシレジン(株)製 YL6747
H30、不揮発分30重量%、重量平均分子量4700
0)30重量部、成分(D)としてチタン酸バリウム
(富士チタン工業(株)製BT−100P)80重量
部、さらにメチルエチルケトン25部、ジメチルホルム
アミド5部を添加しスパイクミルで混練してエポキシ樹
脂組成物を作製した。そのワニス状のエポキシ樹脂組成
物を厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルム上に、乾燥後の厚みが30μmとなるよう
にダイコーターにて塗布し、80〜120℃で8分乾燥
させ、接着フィルムを得た。
Example 2 A liquid bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 166, Epicoat 806 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 30 as the component (A) 30
Parts by weight, MEK varnish of phenol novolak resin containing triazine structure as component (B) (Phenolite LA-7052, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Ltd., nonvolatile content 6)
0%, nonvolatile phenolic hydroxyl equivalent weight 120) 20
Part by weight, cyclohexanone varnish of phenoxy resin comprising Epicoat 828 and bisphenol S as component (C) (YL6747 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
H30, non-volatile content 30% by weight, weight average molecular weight 4700
0) 30 parts by weight, 80 parts by weight of barium titanate (BT-100P manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd.) as the component (D), 25 parts of methyl ethyl ketone, and 5 parts of dimethylformamide were added and kneaded with a spike mill to obtain an epoxy resin. A composition was made. The varnish-like epoxy resin composition was treated with a 38 μm-thick polyethylene terephthalate (PE).
T) The composition was applied on a film by a die coater so that the thickness after drying was 30 μm, and dried at 80 to 120 ° C. for 8 minutes to obtain an adhesive film.

【0042】<比較例1>成分(A)として液状ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量176、ジャ
パンエポキシレジン(株)製 エピコート825)30
重量部、(B)としてジシアンジアミド(ジャパンエポ
キシレジン(株)製 DICY7)2部、2,4−ジア
ミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)−
1,3,5−トリアジンイソシアヌル酸付加物(四国化
成(株)製2MA−OK−PW)1部、成分(C)とし
てフェノキシ樹脂ワニス(東都化成(株)製 YP50
−EK35)30重量部と成分(D)として酸化チタン
酸(チタン工業(株)製KR−380)20重量部
((A)、(B)合計量の61重量%)、さらにメチル
エチルケトン10部、ジメチルホルムアミド5部を添加
しスパイクミルで混練してエポキシ樹脂組成物を作製し
た。そのワニス状のエポキシ樹脂組成物を厚さ18μm
の銅箔に、乾燥後の厚みが50μmとなるようにダイコ
ーターにて塗布し、80〜120℃で10分乾燥させ、
接着フィルムを得た。
<Comparative Example 1> Liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 176, Epicoat 825 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 30 as component (A) 30
Parts by weight, 2 parts of dicyandiamide (DICY7 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) as 2, (B), 2,4-diamino-6- (2-methyl-1-imidazolylethyl)-
1 part of 1,3,5-triazine isocyanuric acid adduct (2MA-OK-PW manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.), phenoxy resin varnish as component (C) (YP50 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.)
30 parts by weight of EK35) and 20 parts by weight of titanium oxide (KR-380 manufactured by Titanium Industry Co., Ltd.) (61% by weight of the total amount of (A) and (B)) as component (D), and 10 parts of methyl ethyl ketone; 5 parts of dimethylformamide was added and kneaded with a spike mill to prepare an epoxy resin composition. The varnish-like epoxy resin composition has a thickness of 18 μm.
On a copper foil, applied with a die coater so that the thickness after drying is 50 μm, and dried at 80 to 120 ° C. for 10 minutes,
An adhesive film was obtained.

【0043】<比較例2>成分(A)として液状ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量166、ジャ
パンエポキシレジン(株)製 エピコート806)30
重量部、成分(B)としてトリアジン構造含有フェノー
ルノボラック樹脂のMEKワニス(大日本インキ化学工
業(株)製 フェノライトLA−7052、不揮発分6
0%、不揮発分のフェノール性水酸基当量120)20
重量部、成分(D)としてチタン酸バリウム(富士チタ
ン工業(株)製BT−100P)80重量部、さらにメ
チルエチルケトン20部、ジメチルホルムアミド5部を
添加しスパイクミルで混練してエポキシ樹脂組成物を作
製した。そのワニス状のエポキシ樹脂組成物を厚さ38
μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム
上に、乾燥後の厚みが30μmとなるようにダイコータ
ーにて塗布し、80〜120℃で8分乾燥させ、接着フ
ィルムを得た。
<Comparative Example 2> Liquid bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 166, Epicoat 806 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 30 as component (A) 30
Parts by weight, MEK varnish of phenol novolak resin containing triazine structure as component (B) (Phenolite LA-7052, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Ltd., nonvolatile content 6)
0%, nonvolatile phenolic hydroxyl equivalent weight 120) 20
80 parts by weight of barium titanate (BT-100P manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd.), 20 parts of methyl ethyl ketone and 5 parts of dimethylformamide were added as a component (D), and the mixture was kneaded with a spike mill to obtain an epoxy resin composition. Produced. The varnish-like epoxy resin composition was applied to a thickness of 38.
It was applied to a μm polyethylene terephthalate (PET) film by a die coater so that the thickness after drying became 30 μm, and dried at 80 to 120 ° C. for 8 minutes to obtain an adhesive film.

【0044】<実施例3>外層導体厚18μm、板厚
0.8mmの6層回路基板を作製し、実施例1で得られ
た接着フィルムを真空ラミネーターにより、温度110
℃、圧力8kgf/cm2、気圧5mmHg以下の条件で両面にラ
ミネートした後、120℃で30分さらに170℃で3
0分加熱硬化させた。その後、レーザーにより穴開けを
行いビアホールを形成させ、次いで無電解及び電解メッ
キしサブトラクティブ法に従ってパターン形成を行い、
所定の位置にコンデンサを内蔵した多層プリント配線板
を得た。得られたプリント配線板を260℃で60秒半
田付け処理し耐熱性を観察したが異常は無かった。
Example 3 A six-layer circuit board having an outer conductor thickness of 18 μm and a thickness of 0.8 mm was prepared, and the adhesive film obtained in Example 1 was heated at a temperature of 110 ° C. using a vacuum laminator.
After laminating on both sides under the conditions of a temperature of 8 ° C., a pressure of 8 kgf / cm 2 , and a pressure of 5 mmHg or less, the laminate was heated at 120 ° C. for 30 minutes and further at 170 ° C. for 3 minutes.
It was cured by heating for 0 minutes. After that, a via hole is formed by drilling with a laser, and then electroless and electrolytic plating is performed to form a pattern according to a subtractive method,
A multilayer printed wiring board having a built-in capacitor at a predetermined position was obtained. The printed wiring board obtained was soldered at 260 ° C. for 60 seconds and the heat resistance was observed. No abnormality was found.

【0045】<実施例4>実施例2で得られた接着フィ
ルムを用いて実施例3と同様にしてラミネートした後、
PETフィルムを剥離し、170℃で30分加熱硬化さ
せた。その後、レーザーにより穴開けを行いビアホール
を形成させ、過マンガン酸塩のアルカリ性酸化剤で表面
を粗化処理し、全面に無電解及び電解メッキにより導体
層を形成した。150℃で30分エージング後のメッキ
ピール強度は0.8kgf/cmであった。次いでサブ
トラクティブ法に従ってパターン形成し、所定の位置に
コンデンサを内蔵した多層プリント配線板を得た。得ら
れたプリント配線板を260℃で60秒半田付け処理し
耐熱性を観察したが異常は無かった。
Example 4 After laminating in the same manner as in Example 3 using the adhesive film obtained in Example 2,
The PET film was peeled off and cured by heating at 170 ° C. for 30 minutes. Thereafter, a via hole was formed by drilling with a laser, the surface was roughened with an alkaline oxidizing agent of permanganate, and a conductor layer was formed on the entire surface by electroless plating and electrolytic plating. The plating peel strength after aging at 150 ° C. for 30 minutes was 0.8 kgf / cm. Next, a pattern was formed according to the subtractive method to obtain a multilayer printed wiring board having a capacitor built in a predetermined position. The printed wiring board obtained was soldered at 260 ° C. for 60 seconds and the heat resistance was observed. No abnormality was found.

【0046】<比較例3>比較例2で得られた接着フィ
ルムを用いて実施例3と同様にしてラミネートした。本
接着フィルムは実施例1、2に比べてコシが悪く取り扱
い性に劣っていた。次いで、実施例4と同様にして該エ
ポキシ樹脂組成物層全面に無電解及び電解メッキにより
導体層を形成したが、メッキの密着性が弱くメッキ後の
エージング(aging)中にブリスター(blister)が発生
した。
<Comparative Example 3> The adhesive film obtained in Comparative Example 2 was laminated in the same manner as in Example 3. This adhesive film had poor stiffness and inferior handleability as compared with Examples 1 and 2. Next, a conductor layer was formed on the entire surface of the epoxy resin composition layer by electroless and electrolytic plating in the same manner as in Example 4. However, the adhesion of the plating was weak and blisters were generated during aging after plating. Occurred.

【0047】<エポキシ樹脂組成物の比誘電率測定>実
施例1の場合は接着フィルムの樹脂面同士を併せてラミ
ネートする。実施例2、比較例1の場合は接着フィルム
を銅板上にラミネート後PETフィルムを剥離し、さら
にもう2回その樹脂上に接着フィルムを同様にラミネー
トし、最後に18μm厚銅箔をラミネートする。このよ
うにして得られる導体層にサンドイッチされた100μ
m厚程度のエポキシ樹脂組成物を、120℃で30分、
170℃で30分熱硬化しサンプルを作製した。室温、
測定周波数1MHzでの結果を下記表1に示す。
<Measurement of relative permittivity of epoxy resin composition> In the case of Example 1, the resin surfaces of the adhesive film are laminated together. In the case of Example 2 and Comparative Example 1, the PET film was peeled off after laminating the adhesive film on the copper plate, and the adhesive film was laminated two more times on the resin, and finally, an 18 μm thick copper foil was laminated. 100 μm sandwiched in the conductor layer thus obtained
m thickness of the epoxy resin composition at 120 ° C. for 30 minutes,
The sample was thermoset at 170 ° C. for 30 minutes to prepare a sample. room temperature,
The results at a measurement frequency of 1 MHz are shown in Table 1 below.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】表1より、本発明のエポキシ樹脂組成物
が、高誘電率であり高電気容量絶縁層となることがわか
る。また、本発明の接着フィルムを使用して簡便にコン
デンサを内蔵した多層プリント配線板を製造できる。
(実施例3,4)また粗化によっても密着性に優れた銅
メッキが形成されていることが分かる(実施例4)。一
方、比較例1の樹脂組成物では、比誘電率が低く高電気
容量絶縁層とはならないし、比較例2の接着フィルムは
取り扱い性に劣っていた。また、比較例3により製造さ
れた多層プリント配線板では絶縁層が粗化性を有してい
ないので、銅メッキのピール強度が低く使用に耐え得る
ものではなかった。
Table 1 shows that the epoxy resin composition of the present invention has a high dielectric constant and becomes a high electric capacity insulating layer. Further, a multilayer printed wiring board having a built-in capacitor can be easily manufactured using the adhesive film of the present invention.
(Examples 3 and 4) Further, it can be seen that copper plating having excellent adhesion was formed even by roughening (Example 4). On the other hand, the resin composition of Comparative Example 1 had a low relative dielectric constant and did not become a high-capacity insulating layer, and the adhesive film of Comparative Example 2 was inferior in handleability. Further, in the multilayer printed wiring board manufactured according to Comparative Example 3, since the insulating layer did not have a roughening property, the peel strength of copper plating was low and the copper plating was not usable.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の接着フィルムは、多層プリント
配線板等の製造において真空ラミネータにより簡便に絶
縁層を形成させることができ、かつ絶縁層にメッキによ
り導体層を形成させることができる。また本発明の接着
フィルムにより導入される絶縁層は、比誘電率10以上
の高電気容量絶縁層となり、多層プリント配線板中に自
由にコンデンサを内臓することが可能となるため、多層
プリント配線板の高実装密度化が可能となる。
According to the adhesive film of the present invention, an insulating layer can be easily formed by a vacuum laminator in the production of a multilayer printed wiring board and the like, and a conductive layer can be formed on the insulating layer by plating. Further, the insulating layer introduced by the adhesive film of the present invention becomes a high-capacitance insulating layer having a relative dielectric constant of 10 or more, and a capacitor can be freely incorporated in the multilayer printed wiring board. Can be mounted at a high density.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 E T Fターム(参考) 4J004 AA02 AA11 AA13 AA18 FA05 4J040 EC051 EC061 EC071 EC171 EE062 HA116 HB36 HC25 KA16 KA42 LA01 LA09 MB03 NA20 5E343 AA07 AA15 AA16 AA17 AA18 BB24 BB67 CC03 CC07 CC48 DD32 DD33 DD43 EE37 EE38 GG01 GG11 5E346 AA16 CC04 CC08 CC09 CC10 CC12 CC32 CC43 DD12 DD22 DD25 EE06 EE19 FF15 FF45 GG15 HH25 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 ETF term (Reference) 4J004 AA02 AA11 AA13 AA18 FA05 4J040 EC051 EC061 EC071 EC171 EE062 HA116 HB36 HC25 KA16 KA42 LA01 LA09 MB03 NA20 5E343 AA07 AA15 AA16 AA17 AA18 BB24 BB67 CC03 CC07 CC48 DD32 DD33 DD43 EE37 EE38 GG01 GG11 5E346 AA16 CC04 CC08 CC09 CC10 CC12 CC32 CC43 DD12 DD22 DD25 EE06 EE19 FF15 H15

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記成分(A)〜(D): (A)1分子中に2以上のエポキシ基を有する常温で液
状の芳香族系エポキシ樹脂 (B)エポキシ硬化剤 (C)重量平均分子量が5000乃至100000であ
るフェノキシ樹脂 (D)高誘電率無機充填剤 を含有するエポキシ樹脂組成物が支持ベースフィルム上
に層形成された接着フィルムであって、該エポキシ樹脂
組成物の加熱硬化後の比誘電率が10以上となることを
特徴とする接着フィルム。
1. The following components (A) to (D): (A) an aromatic epoxy resin which has two or more epoxy groups in one molecule and is liquid at room temperature, (B) an epoxy curing agent, and (C) a weight average molecular weight. Is an adhesive film in which an epoxy resin composition containing a phenoxy resin (D) a high dielectric constant inorganic filler is 5000 to 100000 is formed on a supporting base film, and the epoxy resin composition after heat curing An adhesive film having a relative dielectric constant of 10 or more.
【請求項2】 (A)1分子中に2以上のエポキシ基を
有する常温で液状の芳香族系エポキシ樹脂の25℃にお
ける粘度が5〜100ポイズである請求項1記載の接着
フィルム。
2. The adhesive film according to claim 1, wherein the viscosity at 25 ° C. of the (A) aromatic epoxy resin which is liquid at room temperature and has two or more epoxy groups in one molecule is 5 to 100 poise.
【請求項3】 (B)エポキシ硬化剤がトリアジン変性
フェノール系硬化剤である請求項1記載の接着フィル
ム。
3. The adhesive film according to claim 1, wherein the epoxy curing agent (B) is a triazine-modified phenolic curing agent.
【請求項4】 (C)重量平均分子量が5000乃至1
00000であるフェノキシ樹脂がビスフェノールS骨
格を有するものである請求項1記載の接着フィルム。
(C) a weight average molecular weight of 5000 to 1
2. The adhesive film according to claim 1, wherein the phenoxy resin of 00000 has a bisphenol S skeleton.
【請求項5】 (D)高誘電率無機充填剤が、チタン酸
バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウ
ム、チタン酸マグネシウム、チタン酸鉛、チタン酸ビス
マス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カ
ルシウムから選ばれる少なくとも1種である請求項1記
載の接着フィルム。
5. The high dielectric constant inorganic filler (D) is barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, lead titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, calcium zirconate. The adhesive film according to claim 1, wherein the adhesive film is at least one member selected from the group consisting of:
【請求項6】 (A)1分子中に2以上のエポキシ基を
有する常温で液状の芳香族系エポキシ樹脂と(B)エポ
キシ硬化剤の合計量100重量部に対し、(C)重量平
均分子量が5000乃至100000であるフェノキシ
樹脂を5乃至100重量部、(D)高誘電率無機充填剤
を70乃至900重量部配合してなる請求項1記載の接
着フィルム。
6. A weight average molecular weight of (C) based on 100 parts by weight of a total amount of (A) an aromatic epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and liquid at room temperature and (B) an epoxy curing agent. 2. The adhesive film according to claim 1, comprising 5 to 100 parts by weight of a phenoxy resin having a molecular weight of 5,000 to 100,000 and 70 to 900 parts by weight of (D) a high dielectric constant inorganic filler.
【請求項7】 請求項1乃至6記載の接着フィルムを使
用して高誘電容量絶縁層が導入されたことを特徴とする
多層プリント配線板。
7. A multilayer printed wiring board wherein a high dielectric capacity insulating layer is introduced using the adhesive film according to claim 1.
【請求項8】 請求項1乃至6記載の接着フィルムを加
圧・加熱条件下で回路基板にラミネートし、必要により
支持ベースフィルムを剥離し、支持ベースフィルム上に
形成されていたエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させた
後、支持ベースフィルムが存在する場合は必要によりそ
れを剥離し、必要により酸化剤によって硬化したエポキ
シ樹脂組成物層の表面を粗化し、導体層をメッキにより
形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方
法。
8. An epoxy resin composition formed on a supporting base film by laminating the adhesive film according to claim 1 on a circuit board under pressure and heating conditions, and peeling off the supporting base film if necessary. After the heat curing, the support base film is peeled off if necessary, if necessary, the surface of the epoxy resin composition layer cured by the oxidizing agent is roughened if necessary, and the conductor layer is formed by plating. Of manufacturing a multilayer printed wiring board.
【請求項9】 請求項8記載の製造方法に従って得られ
た多層プリント配線板。
9. A multilayer printed wiring board obtained according to the method of claim 8.
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