JP5007091B2 - 転写装置 - Google Patents
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本発明の第2の実施形態に係る転写装置は、紫外線エネルギーの総和量をまず決めてから、紫外線の強度を変更するようになっている点が、第1の実施形態に係る転写装置1と異なり、その他の点は、第1の実施形態に係る転写装置1とほぼ同様に構成されほぼ同様の効果を奏する。
9 紫外線ランプ
17 ロードセル
19 コントローラ
23 HMI
25 メモリ
M1 型
W1 被成形品
W3 基材
W5 被成形層
Claims (5)
- 転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写装置において、
前記型で前記被成形品を押圧する押圧手段と;
前記被成形品に照射するための所定の波長の電磁波を発生する発生装置と;
前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記押圧手段が押圧を開始する時から所定の時間だけ遡った時刻、または、前記押圧手段が押圧を開始した時、または、前記押圧手段が押圧を開始した時から所定の時間が経過した時刻から、前記所定の波長の電磁波の照射が開始されるように前記発生装置を制御する手段であることを特徴とする転写装置。 - 転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写装置において、
前記型で前記被成形品を押圧する押圧手段と;
前記被成形品に照射するための所定の波長の電磁波を発生する発生装置と;
前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する制御手段と;
前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量の変化パターンを入力する入力手段とを有し、
前記制御手段は、前記入力手段で入力された変化パターンに基づいて前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する手段であることを特徴とする転写装置。 - 請求項1に記載の転写装置おいて、
前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量の変化パターンを入力する入力手段を有し、
前記制御手段は、前記入力手段で入力された変化パターンに基づいて前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する手段であることを特徴とする転写装置。 - 転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写装置において、
前記型で前記被成形品を押圧する押圧手段と;
前記被成形品に照射するための所定の波長の電磁波を発生する発生装置と;
前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する制御手段と;
前記被成形品に照射する前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量の変化パターンを、複数記憶している記憶手段と;
前記記憶手段が記憶している各変化パターンのうちの1つの変化パターンを選択する選択手段とを有し、
前記制御手段は、前記選択手段で選択された変化パターンに基づいて、前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する手段であることを特徴とする転写装置。 - 請求項1に記載の転写装置において、
前記被成形品に照射する前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量の変化パターンを、複数記憶している記憶手段と;
前記記憶手段が記憶している各変化パターンのうちの1つの変化パターンを選択する選択手段とを有し、
前記制御手段は、前記選択手段で選択された変化パターンに基づいて、前記被成形品に照射される前記所定の波長の電磁波の照射エネルギー量が変化するように、前記発生装置を制御する手段であることを特徴とする転写装置。
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