JP5002731B2 - ガラス板製造方法 - Google Patents
ガラス板製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5002731B2 JP5002731B2 JP2011542395A JP2011542395A JP5002731B2 JP 5002731 B2 JP5002731 B2 JP 5002731B2 JP 2011542395 A JP2011542395 A JP 2011542395A JP 2011542395 A JP2011542395 A JP 2011542395A JP 5002731 B2 JP5002731 B2 JP 5002731B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- molten glass
- temperature
- water vapor
- clarification
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 163
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 75
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 163
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 82
- 238000005352 clarification Methods 0.000 claims description 81
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 67
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 40
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 25
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 19
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 15
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 14
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 14
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 claims description 11
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical group O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 3
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 8
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 4
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000010446 mirabilite Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical group O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000413 arsenic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002594 arsenic trioxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- KTTMEOWBIWLMSE-UHFFFAOYSA-N diarsenic trioxide Chemical compound O1[As](O2)O[As]3O[As]1O[As]2O3 KTTMEOWBIWLMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N manganese(II) oxide Inorganic materials [Mn]=O VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
- C03B17/064—Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
(i)ガラス原料中に混入される再利用ガラス片中に含まれる水分によって、製造されるガラスの水分が高くなることがある。また、
(ii)ガラス内の水分量が高くなると、上述した溶融ガラス中の水素イオンの白金又は白金合金壁への移動が起こりやすくなり、これを抑制するためには、白金又は白金合金容器周辺の雰囲気中の水素分圧を高くするために、より多くの水蒸気を雰囲気中に供給しなければならなくなり、雰囲気における水蒸気の供給とガラス中の気泡形成の抑制との関係において悪循環となること、
(iii)ガラスが含む水分量の増加とトレードオフとなるガラス強度の低下のバランスを図る必要があること、
(iv) 白金又は白金合金製の収容部の周囲の雰囲気の水蒸気分圧が比較的高く、かつ溶融ガラスの温度が清澄に適する程度に高い状態では、溶融ガラス中のβ−OH値が上昇しやすく、ガラスの清澄に悪影響を及ぼすおそれがあること、
(v)原料を溶解するための炉が備える加熱装置周辺における過剰な水蒸気の供給が、ガラス製造装置の長寿命化を阻害する原因となること、さらに、
(vi)上記収容部が水蒸気に接すると熱が奪われるため、不必要な水蒸気の供給は、溶融ガラスの加熱を阻害し、溶融ガラスを加熱するための電力が必要以上に多くなる場合があること、を突き止めた。
(1−1)ガラスの概要
本実施形態のガラス板の製造方法で製造されるガラス板は、液晶表示装置等の表示装置のガラス基板として用いられる、液晶基板用ガラスである。しかし、後に示すとおり液晶基板用ガラス以外のガラスにも適用することが可能である。
(a)SiO2:50〜70質量%、
(b)B2O3:5〜18質量%、
(c)Al2O3:10〜25質量%、
(d)MgO:0〜10質量%、
(e)CaO:0〜20質量%、
(f)SrO:0〜20質量%、
(o)BaO:0〜10質量%、
(p)RO:5〜20質量%(但し、Rは、Mg、Ca、SrおよびBaから選ばれる少なくとも1種である)、
(q)R’ 2O:0〜2.0質量%(但し、R’は、Li、Na、およびKから選ばれる少なくとも1種である)、
(r)酸化スズ、酸化鉄、および、酸化セリウムなどから選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を合計で0.05〜1.5質量%。
図1は、本発明の実施形態に係るガラス板の製造方法の一例のフロー図を示したものである。図1に示すように、ガラスの製造方法は、溶解工程(ステップS101)、清澄工程(ステップS102)、均質化工程(ステップS103)、供給工程(ステップS104)、および、成形工程(ステップS105)を有する。
図2は、本発明の実施形態に係るガラス板製造装置100の一例を示したものである。ガラス板製造装置100は、溶解槽101、清澄槽102、攪拌槽103、成形装置104、導管105a、105b、105c、および、加湿装置106を有する。なお、収容部には、清澄槽102、攪拌槽103、および導管105a、105b、105cが含まれる。
(2−1)温度制御
図3は、本実施形態にかかるガラス板製造方法の一連の工程におけるガラスの温度勾配を示している。なお、溶融ガラスの温度は、図2においてTで示した位置に設置された温度計(熱電対)の測定値より求める。温度計は、収容部の外面の近傍に配置されるか又は収容部の外面に接触することで、収容部の温度を測定し、その温度に基づいて溶融ガラスの温度を求める。各温度計の間の溶融ガラスの温度は、温度勾配を推定することにより求めることができる。温度計の設置場所は、図2に示されているものに限られず、温度計をより多くの場所に設置すれば、より正確な温度変化を測定できる。
溶融ガラス中、特に溶融ガラスと収容部との界面付近の領域に気泡が形成され、当該気泡がガラス中に残存するのを抑制するために、雰囲気制御を行なう。雰囲気制御とは、収容部の周囲の雰囲気の水蒸気分圧の制御である。具体的には、収容部の周囲の雰囲気に水蒸気を供給したり、空調機やヒータ等により雰囲気の温度を制御し、白金又は白金合金製の収容部の内側に対して外側の水蒸気分圧が高くなるようにする。重量絶対湿度=(水の分子量[18.015]×水蒸気分圧)/(乾燥大気の平均分子量[29.064] ×(全大気圧−水蒸気分圧))であるから、水蒸気分圧は、雰囲気中の温度、湿度、及び全大気圧を測定すれば求めることができる。供給する水蒸気の制御は、収容部の外側に水蒸気を供給する装置から供給する水蒸気に含まれる水の単位時間当たりの重量を増減させることにより行う。このほか、収容部の内側の水蒸気分圧を調節するために、ガラス原料に含まれる水分の調節も行う。これにより、白金又は白金合金製の収容部の内側の水素イオン(H+)もしくは水素(H2)の外側への移動による溶融ガラス中の水酸化物イオン(OH-)からのO2発生を抑制し、気泡が溶融ガラス中、特に収容部との界面付近の領域に形成されるのを抑制することができる。
以上のとおり、本発明にかかるガラス板製造方法によるとガラス板が含有する気泡の数を効果的に抑えることができる。また、本発明にかかるガラス板製造方法によると、雰囲気に水蒸気を供給する収容部を特定しない場合に比べてβ−OH値として表されるガラス中の水分量を低く抑えることができると予想される。
(4−1)
上記実施形態では、清澄工程(ステップS102)は、溶融ガラスを1610℃〜1700℃の所定の温度まで加熱し、溶融ガラス中のガス成分から意図的に気泡を形成させることによりガス成分を溶融ガラスから除去する第1工程と、その後、溶融ガラス中に残った気泡からガス成分を溶融ガラス中に吸収させて気泡を消滅させる第2工程とを含む。当該所定の温度は、清澄工程、均質化工程、及び供給工程における、即ち清澄工程以後における最高温度である。第1工程と第2工程との境界Xは、溶融ガラスが清澄工程における最高温度に達した後、当該最高温度よりも30℃以上、例えば30℃〜70℃、又は40℃〜60℃、又は50℃低下した温度である。例えば、当該最高温度に達した後、50℃低下した温度にある溶融ガラスに接する清澄槽102の部位を、第1工程と第2工程との境界Xとして特定する。そして、第2工程が進行している清澄槽102の部位の少なくとも一部の周囲の雰囲気には、水蒸気分を供給している。第1工程が進行している清澄槽102の部位の周囲の雰囲気には、水蒸気を供給していない。また、第1工程が進行している清澄槽102の部位の周囲は、ブリキ板が設けられておらず、開放されている。これにより、上記境界Xの下流に供給した水蒸気によって溶融ガラス中の気泡の生成が抑制されることがなく、清澄の第1工程を滞りなく行うことができる。即ち、収容部の外側の水蒸気分圧が内側に対して低くし、あるいは必要以上に高くなることを防止し、溶融ガラス中から酸素等のガス成分の放出が抑えられないようにする。また、第1工程において水蒸気により収容部から熱が奪われるのを抑制でき、その結果、不必要な電力の消費を抑えることが出来る。また、第1工程において溶融ガラス中のβ−OH値の上昇を抑え、清澄作用への悪影響を抑えることができる。したがって、水蒸気によるガラス製造設備への悪影響を抑え、効果的に溶融ガラスを清澄でき、かつ、ガラス中に気泡が残存するのを効果的に抑えることが出来る。
上記実施形態においてガラス板製造方法は、原料が完全に溶解した溶融ガラスを清澄する清澄工程(ステップS102)と、溶融ガラスを均質化する均質化工程(ステップS103)と、溶融ガラスを成形装置104に供給する供給工程(ステップS104)と、を含む。これら一連の工程の少なくとも1つを白金又はその合金製の収容部の中で行う。上記実施形態に係るガラス板製造方法は、溶融ガラスの温度が、これら一連の工程において最高温度約1700〜1610℃(T1)に達した後、約1600〜1560℃以下にある当該溶融ガラスを収容する、白金又は白金合金製の収容部の周囲に水蒸気を供給することにより雰囲気の水蒸気分圧を制御する雰囲気制御を行うことを特徴としている。ここで、1600〜1560℃は、T1よりも50℃低い1650〜1560℃(T2)以下である。
(5−1)変形例A
上記実施形態においては、清澄工程(ステップS102)の第2工程、均質化工程(ステップS103)及び供給工程(ステップS104)が行われる、清澄槽102の一部、導管105b、105c、撹拌槽103の周囲の雰囲気に水蒸気を供給し、水蒸気分圧を制御していた。しかし、他の実施形態においては、これに加えて、清澄工程が行われる清澄槽102の周囲の雰囲気を次のように制御してもよい。即ち、上述の通り第1工程と第2工程との境界Xを特定し、第1工程が行われる清澄槽102の部位の周囲の雰囲気における水蒸気分圧を第2工程が行われる清澄槽102の部位の周囲の雰囲気における水蒸気分圧よりも低くする。具体的には、例えば、第1工程が行われる清澄槽102の部位においては、図7に示すように、当該部位を囲うブリキ等の囲い301を設ける。当該囲い301の内側の雰囲気を除湿機302により除湿し、当該囲いの内側の雰囲気の水蒸気分圧を囲いの外側の雰囲気の水蒸気分圧に対して低くする。また、第2工程が行われる清澄槽102の部位の周囲の雰囲気には、水蒸気分圧が高くなるように水蒸気を供給する。なお、第2工程が行われる清澄槽102の部位の周囲をブリキ等で囲い303をし、当該囲いの内側に水蒸気を供給してもよい。
上記実施形態においては、本発明にかかるガラス板製造方法を用いて製造されたガラスは、液晶基板用ガラスである。しかし、他の実施形態においては、本発明にかかるガラス板製造方法を他のガラス板を製造するのに用いても良い。例えば、アルカリ金属酸化物を含むカバーガラスを製造するのに用いてもよい。この場合、上記実施形態は、以下のように変形される。
101 溶解槽
102 清澄槽(収容部)
103 撹拌槽(収容部)
104 成形装置
105a、105b、105c 導管(収容部)
106 加湿装置
Claims (6)
- 原料が溶解した溶融ガラスを清澄する清澄工程と、
前記溶融ガラスを撹拌して均質化する均質化工程と、
前記溶融ガラスを成形装置に供給する供給工程と、
を含み、
前記一連の工程を白金又は白金合金製の収容部内で行う、
ガラス板の製造方法であって、
前記清澄工程は、
前記原料に含まれる清澄剤がガス成分を放出する第1の温度範囲内で前記溶融ガラス中の気泡を浮上させて除去する第1工程と、前記第1工程の後、前記第1の温度範囲の最高温度よりも低い温度で前記溶融ガラス中にガス成分を吸収させて気泡を除去する第2工程と、を含み、
前記第1工程における前記収容部の周囲の雰囲気の水蒸気分圧を、前記第2工程の少なくとも一部における前記収容部の周囲の雰囲気の水蒸気分圧よりも低くし、
前記第1工程と前記第2工程との境界を、前記溶融ガラスが前記最高温度に達した後、前記最高温度よりも30℃以上低下した温度とする、
ガラス板の製造方法。 - 前記第1工程において前記収容部の周囲の雰囲気に水蒸気を供給せず、前記第2工程の少なくとも一部において、前記収容部の周囲の雰囲気に水蒸気を供給する、
請求項1に記載のガラス板の製造方法。 - 前記第1工程において、前記収容部を囲む囲いを設け、前記囲いの内側の前記収容部の周囲の雰囲気の水蒸気分圧を、前記囲いの外側の外気の水蒸気分圧よりも低下させる、
請求項1に記載のガラス板の製造方法。 - 前記清澄剤が酸化スズ(SnO2)であり、前記第1の温度範囲が1610℃〜1700℃である請求項1に記載のガラス板の製造方法。
- 前記清澄剤がボウ硝(Na2SO4)であり、前記第1の温度範囲が1500℃〜1520℃である請求項1に記載のガラス板の製造方法。
- 前記溶融ガラスを板状に成形する成形工程をさらに含み、
前記成形工程において、前記溶融ガラスは、オーバーフローダウンドロー法により板状に成形される、
請求項1〜5のいずれかに記載のガラス板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011542395A JP5002731B2 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-29 | ガラス板製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010223083 | 2010-09-30 | ||
JP2010223083 | 2010-09-30 | ||
PCT/JP2011/072471 WO2012043769A1 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-29 | ガラス板製造方法 |
JP2011542395A JP5002731B2 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-29 | ガラス板製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5002731B2 true JP5002731B2 (ja) | 2012-08-15 |
JPWO2012043769A1 JPWO2012043769A1 (ja) | 2014-02-24 |
Family
ID=45893206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011542395A Active JP5002731B2 (ja) | 2010-09-30 | 2011-09-29 | ガラス板製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120125050A1 (ja) |
JP (1) | JP5002731B2 (ja) |
KR (1) | KR101305612B1 (ja) |
CN (1) | CN103118993B (ja) |
TW (1) | TWI504574B (ja) |
WO (1) | WO2012043769A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014083923A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5731437B2 (ja) * | 2012-04-06 | 2015-06-10 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法 |
JP5719797B2 (ja) | 2012-04-06 | 2015-05-20 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法及びガラス板の製造装置 |
CN103508654B (zh) * | 2012-06-29 | 2016-08-03 | 安瀚视特控股株式会社 | 玻璃基板的制造方法以及玻璃基板的制造装置 |
TWI565669B (zh) * | 2012-09-04 | 2017-01-11 | Avanstrate Inc | A method for manufacturing a glass substrate, and a manufacturing apparatus for a glass substrate |
WO2014119709A1 (ja) * | 2013-02-01 | 2014-08-07 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置 |
CN203625224U (zh) * | 2013-09-17 | 2014-06-04 | 安瀚视特控股株式会社 | 熔融玻璃处理装置及玻璃基板的制造装置 |
CN203513469U (zh) * | 2013-09-25 | 2014-04-02 | 安瀚视特控股株式会社 | 熔融玻璃的澄清槽及玻璃基板的制造装置 |
CN104903259B (zh) * | 2013-12-26 | 2017-09-29 | 安瀚视特控股株式会社 | 玻璃基板的制造方法以及玻璃基板制造装置 |
JPWO2015186486A1 (ja) * | 2014-06-04 | 2017-05-25 | 旭硝子株式会社 | 導光板用のガラス板 |
WO2016002814A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法、ガラス基板、及びガラス基板積層体 |
JP6577215B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2019-09-18 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
US10538449B2 (en) | 2015-06-10 | 2020-01-21 | Corning Incorporated | Apparatus and method for conditioning molten glass |
JP6730865B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2020-07-29 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法 |
TWI746726B (zh) * | 2016-12-15 | 2021-11-21 | 美商康寧公司 | 用於控制流入玻璃成形機之玻璃流的方法及設備 |
US11505487B2 (en) | 2017-03-16 | 2022-11-22 | Corning Incorporated | Method for decreasing bubble lifetime on a glass melt surface |
JP7025720B2 (ja) * | 2017-12-22 | 2022-02-25 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス物品の製造方法及びガラス溶融炉 |
US11760678B2 (en) | 2018-04-20 | 2023-09-19 | Corning Incorporated | Apparatus and method for controlling an oxygen containing atmosphere in a glass manufacturing process |
US11459263B2 (en) | 2019-10-01 | 2022-10-04 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Selective chemical fining of small bubbles in glass |
US11440829B2 (en) * | 2019-10-01 | 2022-09-13 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Utilization of sulfate in the fining of submerged combustion melted glass |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3476620A (en) * | 1962-12-13 | 1969-11-04 | Trw Semiconductors Inc | Fabrication of diffused junction semiconductor devices |
US3657784A (en) * | 1970-03-05 | 1972-04-25 | Johnson Matthey Co Ltd | Cladding of metals |
US3976460A (en) * | 1975-07-16 | 1976-08-24 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for introducing a protective atmosphere into a glass forming chamber |
US4340412A (en) * | 1981-01-05 | 1982-07-20 | Ppg Industries, Inc. | Float glass forming chamber with externally supported roof |
DE4324922C2 (de) * | 1993-07-24 | 1995-08-31 | Schott Glaswerke | Verwendung einer Metall/Metalloxid-Elektrode |
US5785726A (en) * | 1996-10-28 | 1998-07-28 | Corning Incorporated | Method of reducing bubbles at the vessel/glass interface in a glass manufacturing system |
DE10009425A1 (de) * | 2000-02-28 | 2001-09-06 | Schott Glas | Verfahren zur Sauerstoffläuterung von Glasschmelzen |
DE10017701C2 (de) * | 2000-04-08 | 2002-03-07 | Schott Glas | Gefloatetes Flachglas |
US6739155B1 (en) * | 2000-08-10 | 2004-05-25 | General Electric Company | Quartz making an elongated fused quartz article using a furnace with metal-lined walls |
DE10138108B4 (de) * | 2001-08-03 | 2005-02-24 | Schott Ag | Verfahren zur Verminderung der Blasenbildung beim Herstellen von Gläsern |
US7681414B2 (en) * | 2001-08-08 | 2010-03-23 | Corning Incorporated | Overflow downdraw glass forming method and apparatus |
US20060174655A1 (en) * | 2003-04-15 | 2006-08-10 | Hisashi Kobayashi | Process of fining glassmelts using helium bubblles |
JP4941872B2 (ja) * | 2003-09-02 | 2012-05-30 | 日本電気硝子株式会社 | 液晶ディスプレイ用透明無アルカリガラス基板 |
DE102004015577B4 (de) * | 2004-03-30 | 2012-08-23 | Schott Ag | Verfahren zum Herstellen von Glas unter Vermeidung von Blasen an Edelmetallbauteilen |
US20060242996A1 (en) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Gilbert Deangelis | System and method for controlling the environment around one or more vessels in a glass manufacturing system |
US7475568B2 (en) * | 2005-04-27 | 2009-01-13 | Corning Incorporated | Method of fining glass |
US7854144B2 (en) * | 2005-07-28 | 2010-12-21 | Corning Incorporated | Method of reducing gaseous inclusions in a glass making process |
US7584632B2 (en) * | 2005-07-28 | 2009-09-08 | Corning Incorporated | Method of increasing the effectiveness of a fining agent in a glass melt |
TWI327559B (en) * | 2005-12-08 | 2010-07-21 | Corning Inc | Method of eliminating blisters in a glass making process |
US8925353B2 (en) * | 2007-11-08 | 2015-01-06 | Corning Incorporated | Process and system for fining glass |
-
2011
- 2011-09-29 CN CN201180045369.9A patent/CN103118993B/zh active Active
- 2011-09-29 JP JP2011542395A patent/JP5002731B2/ja active Active
- 2011-09-29 KR KR1020137009243A patent/KR101305612B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-29 WO PCT/JP2011/072471 patent/WO2012043769A1/ja active Application Filing
- 2011-09-29 US US13/383,789 patent/US20120125050A1/en not_active Abandoned
- 2011-09-30 TW TW100135482A patent/TWI504574B/zh active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014083923A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012043769A1 (ja) | 2012-04-05 |
KR101305612B1 (ko) | 2013-09-09 |
TWI504574B (zh) | 2015-10-21 |
CN103118993B (zh) | 2015-09-23 |
US20120125050A1 (en) | 2012-05-24 |
KR20130045419A (ko) | 2013-05-03 |
CN103118993A (zh) | 2013-05-22 |
JPWO2012043769A1 (ja) | 2014-02-24 |
TW201217280A (en) | 2012-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5002731B2 (ja) | ガラス板製造方法 | |
JP5552551B2 (ja) | ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置 | |
KR101730743B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
JP5752648B2 (ja) | ガラス基板の製造方法及び製造装置 | |
JP6082779B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
JP6204405B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2017178714A (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JPWO2014050824A1 (ja) | ガラス基板の製造装置及びガラス基板の製造方法 | |
JP5731437B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
JP2017065973A (ja) | ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置 | |
KR20160023631A (ko) | 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판 및 유리 기판 적층체 | |
JP6616183B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP2017178649A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2017178708A (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP6630217B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
KR20160093537A (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
KR101743375B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
JP2017178713A (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP2015193501A (ja) | ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120515 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120521 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5002731 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |