JP2017178713A - ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
白金製または白金合金製からなる清澄管に、熔融ガラスを加熱しながら上流側から下流側へと流し、前記熔融ガラス中の気泡を、前記熔融ガラスの界面と前記清澄管の内壁とによって囲まれる気相空間に向けて放出させる清澄工程を有し、
前記清澄管は、前記気相空間に存在する白金を含む気体を前記清澄管の外部へと導く通気管と、前記熔融ガラスの界面より上方、かつ、前記通気管の上端より下方に設けられる受け部と、を有し、
前記通気管は、偏円形状からなる水平断面を有し、前記気体を取り込んで計測するための計測管が前記偏円の一辺に設けられ、
前記計測管に接続され、前記気体の酸素濃度を計測する酸素濃度計を有し、
前記受け部は、前記通気管に析出して落下してきた前記白金を受け止める、
ことを特徴とする。
白金製または白金合金製からなり、熔融ガラスを加熱しながら上流側から下流側へと流し、前記熔融ガラス中の気泡を、前記熔融ガラスの界面と内壁とによって囲まれる気相空間に向けて放出させる清澄管を有し、
前記清澄管は、前記気相空間に存在する白金を含む気体を前記清澄管の外部へと導く通気管と、前記熔融ガラスの界面より上方、かつ、前記通気管の上端より下方に設けられる受け部と、を有し、
前記通気管は、偏円形状からなる水平断面を有し、前記気体を取り込んで計測するための計測管が前記偏円の一辺に設けられ、
前記計測管に接続され、前記気体の酸素濃度を計測する酸素濃度計を有し、
前記受け部は、前記通気管に析出して落下してきた前記白金を受け止める、
ことを特徴とする。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)、清澄工程(ST2)、均質化工程(ST3)、供給工程(ST4)、成形工程(ST5)、徐冷工程(ST6)、および、切断工程(ST7)を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有してもよい。製造されたガラス基板は、必要に応じて梱包工程で積層され、納入先の業者に搬送される。
清澄工程(ST2)では、熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が発生する。この泡が熔融ガラス中に含まれる清澄剤(酸化スズ等)の還元反応により生じた酸素を取り込んで(吸収して)成長し、熔融ガラスの液面に浮上して放出される。その後、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。
なお、清澄工程は、熔融ガラスに存在する泡を減圧雰囲気で成長させて脱泡させる減圧脱泡方式を用いることもできる。減圧脱泡方式は、清澄剤を用いない点で有効である。しかし、減圧脱泡方式は装置が複雑化及び大型化する。このため、清澄剤を用い、熔融ガラス温度を上昇させる清澄方法を採用することが好ましい。
供給工程(ST4)では、撹拌された熔融ガラスが成形装置に供給される。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形には、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、徐冷後のシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。
図2に示す熔解槽101には、図示されないバーナー等の加熱手段が設けられている。熔解槽には清澄剤が添加されたガラス原料が投入され、熔解工程(ST1)が行われる。熔解槽101で熔融した熔融ガラスは、ガラス供給管104を介して清澄管120に供給される。
清澄管120では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスの清澄工程(ST2)が行われる。具体的には、清澄管120内の熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じた酸素を取り込んで(吸収して)成長し、熔融ガラスの液面に浮上して気相空間に放出される。その後、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄後の熔融ガラスは、ガラス供給管105を介して撹拌槽103に供給される。
撹拌槽103では、撹拌子103aによって熔融ガラスが撹拌されて均質化工程(ST3)が行われる。撹拌槽103で均質化された熔融ガラスは、ガラス供給管106を介して成形装置200に供給される(供給工程ST4)。
成形装置200では、オーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスからシートガラスSGが成形され(成形工程ST5)、徐冷される(徐冷工程ST6)。
切断装置300では、シートガラスSGから切り出された板状のガラス基板が形成される(切断工程ST7)。
次に、図3、図4を参照して、清澄管120の構成について説明する。図3は、実施の形態の清澄管120の構成を示す概略斜視図であり、図4は、通気管124を有する清澄管120の長手方向における鉛直断面図である。
図3、図4に示すように、清澄管120の長手方向の両端の外周面には、電極121a、121bが設けられており、清澄管120の気相空間120a(図4参照)と接する壁には、通気管124が設けられている。
なお、本明細書において、「白金族金属」は、白金族元素からなる金属を意味し、単一の白金族元素からなる金属のみならず白金族元素の合金を含む用語として使用する。ここで、白金族元素とは、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)の6元素を指す。白金族金属は高価ではあるが、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性にも優れている。また、清澄管120が白金族金属から構成されている場合を具体例として説明するが、清澄管120の一部が、耐火物や他の金属などから構成されていてもよい。
また、電極121a、121bには、図示しない温度計測装置(熱電対等)が設けられていてもよい。温度計測装置は電極121a、121bの温度を計測し、計測した結果を、制御装置123に出力する。
制御装置123は電源装置122が清澄管120に通電させる電流量を制御し、これにより清澄管120を通過する熔融ガラスMGの温度および流速を制御する。制御装置123は、CPU、メモリ等を含むコンピュータである。
SiO2:55−80質量%
Al2O3:8−20質量%
B2O3:0−18質量%
RO 0〜17モル%(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)、
R’2O 0〜2モル%(R’2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量)。
ROのうち、MgOが0〜10質量%、CaOが0〜10質量%、SrOが0〜10質量%、BaOが0〜10質量%であることが好ましい。
さらに、熔融ガラス中で価数変動する金属の酸化物(酸化スズ、酸化鉄)を合計で0.05〜1.5質量%含んでいることが好ましい。
AS2O3、Sb2O3、PbOを実質的に含まないことが好ましいが、これらを任意に含んでいてもよい。
また、ガラス中で価数変動する金属の酸化物(酸化スズ、酸化鉄)を合計で0.05〜1.5質量%含み、As2O3、Sb2O3及びPbOを実質的に含まないということは必須ではなく任意である。
また、本実施形態で製造されるガラス基板は、カバーガラス、磁気ディスク用ガラス、太陽電池用ガラス基板などにも適用することが可能である。
101 熔解槽
103 撹拌槽
103a 撹拌子
104、105、106 ガラス供給管
120 清澄管
120a 気相空間
121a、121b 電極
122 電源装置
123 制御装置
124 通気管
125 計測管
126 酸素濃度計
200 成形装置
300 切断装置
MG 熔融ガラス
SG シートガラス
Claims (4)
- 白金製または白金合金製からなる清澄管に、熔融ガラスを加熱しながら上流側から下流側へと流し、前記熔融ガラス中の気泡を、前記熔融ガラスの界面と前記清澄管の内壁とによって囲まれる気相空間に向けて放出させる清澄工程を有し、
前記清澄管は、前記気相空間に存在する白金を含む気体を前記清澄管の外部へと導く通気管と、前記熔融ガラスの界面より上方、かつ、前記通気管の上端より下方に設けられる受け部と、を有し、
前記通気管は、偏円形状からなる水平断面を有し、前記気体を取り込んで計測するための計測管が前記偏円の一辺に設けられ、
前記計測管に接続され、前記気体の酸素濃度を計測する酸素濃度計を有し、
前記受け部は、前記通気管に析出して落下してきた前記白金を受け止める、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記計測管は、前記白金の析出が抑制されるよう加熱される、
ことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記受け部は、前記受け部の底面と前記清澄管の内管面とが平坦になるよう設けられる、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。 - 白金製または白金合金製からなり、熔融ガラスを加熱しながら上流側から下流側へと流し、前記熔融ガラス中の気泡を、前記熔融ガラスの界面と内壁とによって囲まれる気相空間に向けて放出させる清澄管を有し、
前記清澄管は、前記気相空間に存在する白金を含む気体を前記清澄管の外部へと導く通気管と、前記熔融ガラスの界面より上方、かつ、前記通気管の上端より下方に設けられる受け部と、を有し、
前記通気管は、偏円形状からなる水平断面を有し、前記気体を取り込んで計測するための計測管が前記偏円の一辺に設けられ、
前記計測管に接続され、前記気体の酸素濃度を計測する酸素濃度計を有し、
前記受け部は、前記通気管に析出して落下してきた前記白金を受け止める、
ことを特徴とするガラス基板の製造装置。
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Cited By (1)
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014047124A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Avanstrate Inc | ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置 |
WO2015099143A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 |
JP2016034894A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-17 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2014047124A (ja) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Avanstrate Inc | ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置 |
WO2015099143A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 |
JP2016034894A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-17 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020011855A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置 |
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