JP4996116B2 - 欠陥検査装置 - Google Patents

Description

本発明は、光散乱を利用したレティクル／マスクなどの欠陥検査装置に関するものである。

従来、簡単な構成で且つ受光光学系を大型化することなく、正確に異物検査を行えるようにした異物検査装置が知られている。

具体的にこの種の異物検査装置は、例えば、光ビームを射出するレーザ光源と、光ビームを走査偏光するガルバノスキャナミラーと、走査レンズと、測定対象（例えば、レティクル）を載置するステージと、このステージをＸ方向およびＹ方向に移動する駆動装置とを具備して成る。そして、レーザ光源より射出された光ビームを、ガルバノスキャナミラーにより走査偏向した後、走査レンズに向かわせ、走査レンズから射出した光ビームが測定対象であるレチクルの表面を走査線上をＸ方向に走査させる一方、ガルバノスキャナミラーにより光ビームを走査線上でＸ方向に走査するのと同期して、或る一定の速度でステージをＹ方向に移動させることにより、測定対象の表面全面の異物検査を行えるようにしてある（例えば、特許文献１参照）。

また、迷光の影響を防止して正確に異物検査を行うために、受光レンズと検査面との間又は受光レンズと光検出器との間に、少なくとも１個のスリットを受光レンズの光軸と直交する面内に配置した異物検査装置が知られている（例えば、特許文献２参照）。
特開平７−２２９８４４ 特開平８−１５１６８

しかしながら、従来の構成、特に特許文献１の構成では、パターンからの回折光等は、非常に強度が強く、例えば、受光光学系内で反射、散乱したものが光検出器に入射すると誤検出の原因となり、光検出器で精度良く測定表面上の異物を検出（判別）できないといった問題点を有している。

一方、特許文献２の構成では、受光レンズと検査面又は受光レンズと光検出器との間で、如何にしてスリットを固定しておくか、といったスリットの配置上の問題があり、適宜位置に配置できない場合には迷光の影響が残ってしまう。たとえスリットを適宜位置に配置できたとしても、外部から進入していくる光に対しては何ら対策がなされておらず、この外部進入光の影響を受けて精度良く異物を検出することができない。

本発明は、このような課題に着目してなされたものであって、主たる目的は、簡単で安価な構成でありながらも高精度で高速に測定表面上の欠陥を検出可能な、優れた欠陥検査装置を提供することにある。

すなわち本発明に係る欠陥検査装置は、測定表面及びこの測定表面に平行なパターン面を有する測定対象に対して測定光を照射する光源と、前記測定光を前記測定対象に対して走査する光走査部と、前記光走査部で走査された測定光を前記測定対象に照射した際に、前記測定表面から回折及び／または散乱する光を検出光として検出し且つ前記パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配して成る光検出器と、前記測定対象と前記光検出器との間に配して成り、前記パターン面で回折及び／または散乱した迷光が、前記光検出器に到達して検出されることを少なくとも防止する遮光筒とを具備して成ることを特徴とする。

ここで、「検出光」とは、測定光を測定対象に照射した際に、その測定表面に、欠陥がある場合にはその欠陥によって反射、回折または散乱などされた光を含む概念である。また、「欠陥」とは、例えば測定対象に付着したゴミ等の「測定対象とは別体のもの」を指すのは無論のこと、測定対象の表面にあるキズ等の「測定対象自体にあるもの」をも含む概念である。

また、「光検出器を、パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配する」とは、これらの入射光量を弱めるように光検出器を配することを含む。

また、「迷光」には、パターン面で回折等し直接光検出器へ向けて射出される光だけでは無く、パターン面で回折等により発生し、パターン面と測定対象表面との間で多重回折等し、光検出器に向けて射出される光等が含まれる。

このようなものであれば、光検出器を、パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配しているため、パターンからの回折光及び／または散乱光の影響を回避して、該光検出器で精度良く測定表面上の欠陥を検出することが可能となる。加えて、前記測定対象と前記光検出器との間に配した遮光筒で、前記パターン面で回折及び／または散乱した迷光および外部から進入してくる光の影響を好適に排除して、精度良く欠陥を検出することができる。

このように、光検出器を、パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配し且つ測定対象と光検出器との間に遮光筒を配置するといった簡単で安価な構成でありながらも、特にどこから来るか予測困難な多重回折／散乱によるものも含めて、迷光や外部進入光が光検出器に到達することを好適に防止して、光検出器では検出光のみを好適に検出することができる。したがって、パターン面からの回折光及び／または散乱光や迷光や外部進入光による誤検出を可及的に防止し、精度の良く且つ高速に測定表面上の欠陥を検出することが可能となる。

すなわち、簡単で安価な構成でありながらも高精度で高速に測定表面上の欠陥を検出可能な、優れた欠陥検査装置を提供することができる。

なお、簡単な構成でありながら、迷光が光検出器に到達することを、効果的に防止するには、前記遮光筒の少なくとも一部が、前記測定対象近傍に位置付けられていることが好ましい。

測定対象と光検出器との間から進入してくる光を、効果的に遮光するには、前記遮光筒が、前記測定対象近傍から前記光検出器にかけて連続的に伸びるものであることが望ましい。

前記遮光筒が、前記測定対象側で先窄み形状を有しているのであれば、測定対象に対して遮光筒を近接配置し易くなり、測定対象と遮光筒との間から進入してくる無用な光を好適に遮光することができる。

本発明の遮光筒の望ましい態様としては、この遮光筒が、遮光側壁で囲まれた内部空間を有する中空の遮光筒本体と、前記遮光側壁から前記遮光筒本体の中心に向けて前記検出光の進行を遮らない位置まで突出させた１または複数の遮光板とを具備して成るものが挙げられる。

以上説明したように本発明の欠陥検査装置によれば、光検出器を、パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配しているため、パターンからの回折光及び／または散乱光の影響を回避して、該光検出器で精度良く測定表面上の欠陥を検出することが可能となる。加えて、前記測定対象と前記光検出器との間に配した遮光筒で、前記パターン面で回折及び／または散乱した迷光および外部から進入してくる光の影響を好適に排除して、精度良く欠陥を検出することができる。

このように、光検出器を、パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配し且つ測定対象と光検出器との間に遮光筒を配置するといった簡単で安価な構成でありながらも、特にどこから来るか予測困難な多重回折／散乱によるものも含めて、迷光や外部進入光が光検出器に到達することを好適に防止して、光検出器では検出光のみを好適に検出することができる。したがって、パターン面からの回折光及び／または散乱光や迷光や外部進入光による誤検出を可及的に防止し、精度の良く且つ高速に測定表面上の欠陥を検出することが可能となる。

すなわち、簡単で安価な構成でありながらも高精度で高速に測定表面上の欠陥を検出可能な、優れた欠陥検査装置を提供することができる。

以下、本発明の一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。

本実施形態にかかる欠陥検査装置Ａは、図１、図２、図３に示すように、ガラス面Ｓａ及びペリクル面Ｓｂ（ガラス面Ｓａ及び／またはペリクル面Ｓｂが本発明の「測定表面」に相当）を有するとともにこれら各面Ｓａ、Ｓｂに挟まれながら平行を成すパターン面Ｓｃを有するサンプルＳ（本発明の「測定対象」に相当）を載置するステージ１と、このステージ１に載置させたサンプルＳに対して測定光Ｌ１を走査しながら照射する光照射系２と、光照射系２で走査された測定光Ｌ１がサンプルＳに照射された際にそのサンプルＳ表面から回折及び／または散乱する光を検出光Ｌ２として検出し且つ前記パターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１及び／または散乱光Ｍ２を避ける位置（焦点を結ばない位置）に配して成る光検出系３と、光照射系２と光検出系３との間に設けて成り且つ前記パターン面Ｓｃで回折及び／または散乱した迷光Ｍや外部から進入する外部進入光Ｎが、光検出系３に到達して検出されることを少なくとも防止する遮光筒４と、を具備して成る。以下、各部を具体的に説明するが、本実施形態では、ガラス面Ｓａおよびペリクル面Ｓｂのうち、ガラス面Ｓａを被検面として説明を進める。

ステージ１は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸に移動可能なものであって、測定光Ｌ１の走査方向と垂直な方向に一定速度で移動することで、後述するレーザビームの走査と合わせて、該ステージ１に載置したサンプルＳの被検面Ｓａ全面を測定することができる。

光照射系２は、図１に示すように、測定光Ｌ１であるレーザビームを出射するレーザ光源２１（例えば、ＨｅＮｅレーザ光源）と、このレーザ光源２１から出射された測定光Ｌ１を適宜拡大するビームエキスパンダ２２と、このビームエキスパンダ２２で拡大された測定光Ｌ１を走査して被検面Ｓａ上に焦点を結ばせる走査ミラー２３ａ（例えば、ガルバノミラー）および走査レンズ２３ｂ（例えば、ｆθレンズ）から成る光走査部２３とを具備するものである。

そして、本実施形態では、測定光Ｌ１を、被検面Ｓａに対して１０〜４０度の角度で入射し（入射角で５０〜８０度）、光走査部２３を用いて被検面Ｓａ全面を走査するように構成している。

ここで、測定光Ｌ１を被検面Ｓａから１０〜４０度の角度で入射しているのは、以下の理由による。

測定光Ｌ１は、被検面Ｓａに対して入射光として入射し、被検面Ｓａを透過した後、パターン面Ｓｃに到達する（ガラスは透明であるため。なおペリクルも透明である。）。そこで、パターン面Ｓｃから回折光Ｍ１／散乱光Ｍ２の誤検出を避けるため、測定光Ｌ１が被検面Ｓａに到達する位置と、測定光Ｌ１がパターン面Ｓｃに到達する位置の距離をできるだけ長くする必要がある。このため、測定光Ｌ１は、被検面Ｓａに対して低い角度で入射することが望ましい。しかし、低すぎると被検面Ｓａの位置（Ｚ方向位置）が変化することで、測定光Ｌ１／光検出系３の焦点位置をはずれる可能性があるとともに、実際に測定する位置もずれる。このため、測定光Ｌ１を、被検面Ｓａに対して１０〜４０度の角度で入射することが望ましいからである。

光検出系３は、図３のＹＺ平面内に光軸を有し、被検面Ｓａに略垂直な位置から、入射角と等しい反射角の角度未満となる位置、好ましくは、測定光Ｌ１に対して、散乱角が９０度となる位置までの間に配置したものであって、集光レンズ系３１と、光検出器３２と、これら集光レンズ系３１と光検出器３２との間に配されるスリット３３とを具備するものである。ここで、「散乱角」とは、散乱体を中心に、プローブ光（測定光Ｌ１）進行方向から光検出器３２光軸への角度をいう。図３における「〜９０度」はその補角である。

集光レンズ系３１は、１または複数のレンズを組み合わせて成り、検出光が光検出器３２に焦点を結ぶよう構成されている。レンズの種類や組み合わせ方は実施態様に応じて適宜でよい。

光検出器３２には、ＰＭＴ（Photo Multiplier Tube；光電子増倍管）、あるいは、ラインセンサーなどを用いることができる。そして、光検出器３２を、ＰＭＴとする場合は、図３のようにスリット３３と被検面Ｓａ上走査線とが、光学的に共役な位置となるように配置し、ラインセンサーとする場合には、ラインセンサーと被検面Ｓａ上走査線が光学的に共役な位置となるように配置する。

また、本実施形態では、光検出器３２を、測定光Ｌ１の走査線に垂直な方向、且つ、走査線の中央付近（被検面Ｓａの中央付近）に配置し、且つ、光検出器３２の光軸が、概ね散乱角９０度方向となる位置から被検面Ｓａに垂直な位置までの間に配置し、走査線全体を１つの光検出器３２で見込む光学配置としている。

スリット３３は、板状部材の厚み方向に貫通させた横長略矩形状を成すものである。そして、本実施形態では、その長手方向と、後述する遮光筒４の先端開口部４１１の長手方向とが略一致するように、光検出器３２の光の入射側直前に設け、前記集光レンズ系３１による集光光の一部を光検出器３２に導くように構成されている。

遮光筒４は、図５の破線で示すようなパターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１が、光検出系３の集光レンズに進入しないように遮光する役割を有するものであって、遮光側壁４１０で囲まれた横断面略矩形状の内部空間を有する中空の遮光筒本体４１と、前記遮光側壁４１０の内壁面から前記遮光筒本体４１の中心に向けて前記検出光Ｌ２の進行を遮らない位置まで突出させた１または複数の遮光板４２とを具備して成る。

そして、本実施形態では、この遮光筒４が、サンプルＳ側で先窄み形状を有するとともにサンプルＳ近傍に臨ませた先端開口部４１１を有し、サンプルＳ近傍から前記光検出系３にかけて連続的に伸びる形状を有するものとしている。なお、遮光筒４は、前記光検出器系３の光入射側に一体的に支持されている。

遮光板４２の配置場所などについて具体的に説明する。

まず、サンプルＳのパターン面Ｓｃは、スリット３３などと共役な位置にないため、これらの光が直接スリット３３を通り抜けて光検出器３２に入射することはない。しかし、回折光Ｍ１は、検出対象である欠陥の散乱光Ｍ２に比べると、非常に強度が強く、集光レンズ系３１内で反射、散乱したものがスリット３３を通り抜けただけで、誤検出の原因となる。

これを防ぐため、遮光筒４の遮光側壁４１０には、図３、図４、図５に示すように、光検出系３が見込む領域を避けて、先端部に遮光板４２ａを配置したものとなっている。そして、本実施形態では、さらにその実効性を期すべく、遮光筒４の内部に遮光板４２を複数配置している。具体的には、図５に示すように、パターン面Ｓｃからの迷光Ｍを遮光し、検出光Ｌ２を通す間隙を設けた遮光板４２ａと、この遮光板４２ａの上方にその間隙を通り抜けた迷光Ｍを遮光する遮光板４２ｂとを配置するに加え、遮光板４２ｃ〜４２ｅを適宜間隔で配置している。

このうち遮光板４２ａは、パターン面Ｓｃからの迷光Ｍが、この遮光板４２ａでさらに反射／散乱した場合に、これが被検面Ｓａで表面反射して、光検出器３２に入射しないように、一定の傾きを持たせている。この傾きαは、パターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１が遮光板４２ａのサンプルＳ側の端部にちょうどあたる場合の角度より小さく設定している（例えば、被検面Ｓａから６０度の角度で遮光板４２ａの間隙を通り抜けられる場合、遮光板４２ａを被検面Ｓａから５５度とする。）。これは、遮光板４２ａを通り抜けた光が、遮光板４２ａの内側（図の上側）に到達すると、光検出系３が見込む範囲に近いところで、散乱が起きるため、誤検出の原因となるためである。

次に、このように構成した欠陥検査装置Ａの動作について、図を参照しながら説明する。

まず、レーザ光源２１から出射されたレーザビームを、ビームエキスパンダ２２で適宜拡大し、光走査部２３の走査ミラー２３ａおよび走査レンズ２３ｂを介して、被検面Ｓａ上に焦点を結ばせる（図４参照）。

被検面Ｓａの欠陥の無い場所では、測定光Ｌ１は、光検出器３２で検出光Ｌ２として検出されない。

一方、被検面Ｓａの欠陥が在る場所では、測定光Ｌ１は、その欠陥によって反射、回折または散乱し、集光レンズ系３１、及びスリット３３を介して光検出器３２で検出光Ｌ２として検出される。ただし、反射・回折・散乱度合い等によっては、遮光筒４の遮光板４２によって遮られ光検出器３２では検出されないものもある（図４のＬ３）。

また、測定光Ｌ１のうち、被検面Ｓａを透過してパターン面Ｓｃに到達した光は、そのパターン面Ｓｃで回折または散乱され、また、パターン面Ｓｃとガラス面Ｓａとの間で多重回折または多重散乱し迷光Ｍとなる（図５参照）。

このようにして生じた迷光Ｍ（多重回折等による迷光Ｍｂ）が、光検出系３に向けて進行しようとしても、図５に示すように、遮光筒４が、サンプルＳ側で先窄み形状を有するとともにサンプルＳ近傍に臨ませた先端開口部４１１を有しているため、まず、この部分でその進行を防ぐことができる。また、先端開口部４１１から、進入できた迷光Ｍ（直接の迷光Ｍａ）があったとしても、次に、遮光筒本体４１内部に配した遮光板４２でその進行を防ぐことができる。このように、複数段階で、迷光Ｍの光検出系３への進行を防止することができる。

さらに、サンプルＳ近傍から前記光検出系３にかけて連続的に伸びる形状を有するものとしているため、無用な光（外部進入光Ｎ）が、外部から進入してくることもない。

したがって、以上のように構成した本実施形態に係る欠陥検査装置Ａによれば、光検出器３２を、パターン面Ｓｃ面からの回折光Ｍ１及び／または散乱光Ｍ２が焦点を結ばない位置に配しているため、それら光Ｍ１、Ｍ２の入射光量が減少され、パターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１及び／または散乱光Ｍ２の影響を回避して、該光検出器３２で精度良く測定表面である被検面Ｓａ上の欠陥を検出することが可能となる。加えて、前記サンプルＳと前記光検出器３２との間に配した遮光筒４で、前記パターン面Ｓｃ面で回折及び／または散乱した迷光Ｍおよび外部進入光Ｎの影響を好適に排除して、精度良く欠陥を検出することができる。

このように、光検出器３２を、パターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１及び／または散乱光Ｍ２が焦点を結ばない位置に配し且つサンプルＳと光検出系３との間に遮光筒４を配置するといった簡単で安価な構成でありながらも、特にどこから来るか予測困難な多重回折／散乱によるものも含めて、迷光Ｍや外部進入光Ｎが光検出系３の光検出器３２に到達することを好適に防止して、光検出器３２では検出光Ｌ２のみを好適に検出することができる。したがって、パターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１及び／または散乱光Ｍ２や迷光Ｍや外部進入光Ｎによる誤検出を可及的に防止し、精度の良く且つ高速に被検面Ｓａ上の異物を検出することが可能となる。

また、光走査系からの走査線全体について、１つの検出光学系でまかなえるので、２以上の光検出器を用いたときと比べ、走査線の両端で光検出器との距離が大きく異なり、光学倍率の違い、見込む立体角の違いから、大きく感度が異なったり、その他の迷光の影響が大きくなるといった問題を解消できるとともに、光検出器の調整に時間を要したり多くの部品を必要とするなどといった費用の問題をも、効果的に解消することができる。

すなわち、簡単で安価な構成でありながらも高精度で高速に被検面Ｓａ上の欠陥を検出可能な、優れた欠陥検査装置Ａを提供することができる。

遮光筒４の先端開口部４１１を、サンプルＳ近傍に位置付けているため、簡単な構成でありながら、迷光Ｍが光検出器３２に到達することを、効果的に防止することができる。

遮光筒４を、サンプルＳ近傍から光検出系３にかけて連続的に伸びるように構成しているため、サンプルＳと光検出系３との間から進入してくる外部進入光Ｎを、効果的に遮光することができる。

遮光筒４を、サンプルＳ側で先窄み形状を有するものとしているため、サンプルＳに対して遮光筒４を近接配置し易くなり、サンプルＳと遮光筒４との間から進入してくる無用な光を好適に遮光することができる。

また、複数の遮光板４２を、遮光筒本体４１の内部にそれぞれ設けているため、遮光板４２の取付位置が例えば外力を受けて不意にずれてしまうといった不具合を防止でき、当該欠陥検出装置が安定した欠陥検出性能を発揮するのに資する。

なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。

例えば、ステージ１が、Ｘ、Ｙステージであって、光検出系３などがＺステージに搭載された構成とすることもできる。

また、ステージ１が固定で、光検出系３などがＸ、Ｙ、Ｚステージに搭載された構成とすることもできる。

また、上述の実施形態では、ガラス面Ｓａを被検面としているが、図６に示すように、ペリクル面Ｓｂを被検面とすることもできる。この場合には、パターン面Ｓｃに到達する位置が、光検出系３が見込む位置からより遠くなり、各光の到達点は図６に示す関係となる。

また、遮光筒４の形状や構成も本実施形態のものに限られるものではなく、実施態様に応じて適宜変更可能である。

また、欠陥検査装置を、２以上の光検出器を用いて構成することを妨げない。

例えば、図７に示すように、光検出器Ｋ１、Ｋ２（以下、「光検出器Ｋ」と総称する）を、パターン面Ｓｃからの回折光Ｍ１及び／または散乱光Ｍ２を避ける位置（例えば、次の具体的な位置で、上述した焦点を結ばない位置にそれぞれ配することができる。例えば、図７のＸＹ平面内で、Ｘ軸に平行な方向を０度とするとき、０、４５、９０、１３５度の方向をもつそれぞれのパターンからの回折光／散乱光は、概ね図８に示す斜線部以外の回折光／散乱光領域Ｒｘにあらわれる。

また、このような０、４５、９０、１３５度のパターンは、測定対象Ｓ´上に多く存在するものである。

そこで、例えば、図７に示す光検出系のように、この回折光／散乱光領域Ｒｘを避けた斜線領域Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃに、走査線ＪＪと光検出系の光軸とが直交しないように、光検出器Ｋを配することで、パターンからの回折光等の影響を回避して、該光検出器Ｋで精度良く測定表面上の欠陥を検出することが可能となる。

加えて０、４５、９０、１３５度以外の例外パターン（例えば、３０度）が存在した場合や、予測できないような多重回折及び／又は多重散乱による迷光に対しても、遮光筒４が、例外パターンからの回折光等や迷光が光検出器Ｋに到達することを防止するので、例外パターンからの回折光等や迷光による誤検出を好適に防止することができる。

その他、各部の具体的構成についても上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。

本発明の一実施形態である欠陥検査装置の構成を概略的に示す全体概略図。 同実施形態に係るサンプルの側面図（ガラス面を上にしたとき）。 同実施形態に係るサンプル、遮光筒および光検出系の配置関係を示す図。 同実施形態に係る測定光、検出光および迷光の一例を示す図。 同実施形態に係る遮光筒の作用を説明するための図。 本発明の他の実施形態におけるサンプルの側面図（ペリクル面を上にしたとき）。 本発明の他の実施形態における異物検査装置の構成を概略的に示す全体概略図。 光検出器を配置可能な領域を説明するための図。

符号の説明

Ａ・・・・・欠陥検査装置
Ｌ１・・・・測定光
Ｌ２・・・・検出光
Ｍ・・・・・迷光
Ｍ１・・・・回折光
Ｍ２・・・・散乱光
Ｓ・・・・・測定対象（サンプル）
Ｓａ・・・・測定表面（ガラス面）
Ｓｂ・・・・測定表面（ペリクル面）
Ｓｃ・・・・パターン面
４・・・・・遮光筒
２１・・・・光源（レーザ光源）
２３・・・・光走査部
３２・・・・光検出器
４１・・・・遮光筒本体
４２・・・・遮光板
４１０・・・遮光側壁

Claims (5)

1. 測定表面及びこの測定表面に平行なパターン面を有する測定対象に対して測定光を照射する光源と、
   前記測定光を前記測定対象に対して走査する光走査部と、
   前記光走査部で走査された測定光を前記測定対象に照射した際に、前記測定表面から回折及び／または散乱する光を検出光として集光する集光レンズ系と、
   前記集光レンズによって集光された前記検出光を検出し且つ前記パターン面からの回折光及び／または散乱光が焦点を結ばない位置に配して成る光検出器と、
   前記測定対象と前記光検出器との間に配され、遮光側壁で囲まれた内部空間を有する中空の遮光筒本体と、前記遮光側壁から前記遮光筒本体の中心に向けて突出させた１又は複数の遮光板とを備えた遮光筒とを具備し、
   前記測定表面から入射した前記測定光が前記パターン面に到達するときに発生する回折光及び／または散乱光のうち、前記測定光が前記パターン面に到達した点と前記遮光筒の入口とで規定される空間を通り、前記遮光筒内に進入する光が、前記集光レンズ系に到達することを少なくとも防止するように前記遮光板が設けられていることを特徴とする欠陥検査装置。
2. 前記遮光筒の少なくとも一部が、前記測定対象近傍に位置付けられていることを特徴とする請求項１記載の欠陥検査装置。
3. 前記遮光筒が、前記測定対象近傍から前記光検出器にかけて連続的に伸びるものであることを特徴とする請求項２記載の欠陥検査装置。
4. 前記遮光筒が、前記測定対象側で先窄み形状を有していることを特徴とする請求項１乃至３いずれか記載の欠陥検査装置。
5. 前記遮光筒が、遮光側壁で囲まれた内部空間を有する中空の遮光筒本体と、前記遮光側壁から前記遮光筒本体の中心に向けて前記検出光の進行を遮らない位置まで突出させた１または複数の遮光板とを具備して成ることを特徴とする請求項１乃至４いずれか記載の欠陥検査装置。