JP4981410B2 - 走査型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡を用いたパターンの複合検査方法、および走査型電子顕微鏡の制御装置 - Google Patents
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Description
また、本発明は、走査型電子顕微鏡によって撮影される撮影画像との比較に供される参照画像を記憶する記憶部と、該記憶部に記憶された参照画像と、前記撮影画像とを比較し、欠陥を検出する欠陥検査部を備えた走査型電子顕微鏡の制御装置において、前記欠陥検査部は、前記参照画像または前記撮影画像上のエッジを抽出し、前記参照画像または前記撮影画像上のホワイトバンドを含むように前記エッジを膨張させた領域を非検査領域として設定すると共に、該非検査領域が設定された前記参照画像と前記撮影画像の比較に基づいて、前記欠陥を検出する走査型電子顕微鏡の制御装置であることを特徴とする。
(自動設置その1)
図17も、欠陥の(非)検査領域の生成の支援方法のフローチャートである。このフローチャートも、図9の非検査領域生成支援部17によって実行される。この図17のフローチャートは、図6のステップS35の欠陥の検査領域の生成の支援として、図10のフローチャートに替えて実行したり、合わせて実行したりすることができる。
自動設置その2では、参照画像のみを用いて、非検査領域を生成したが、自動生成その3では、参照画像と検査画像の両方を用いて、非検査領域を生成する。
自動設置その4では、検査画像のみを用いて、非検査領域を生成する。
自動設置その4以前では、設計データ、参照画像、検査画像を用いて、エッジ部(ホワイトバンド)を抽出していたが、自動設置その5では、参照画像の測長結果を用いて、エッジ部を抽出する。
自動設置その5では、参照画像の測長結果を用いた膨張幅で、参照画像の参照エッジ部を膨張させていたが、自動設置その6では、参照画像の測長結果を用いた膨張幅で、検査画像の検査エッジ部を膨張させている。
自動設置その7では、検査画像の測長結果を用いて、検査エッジ部を抽出する。
次に、図6のステップS37と、図8のステップS47とで説明したパターン形成度数について説明する。パターン形成度数は、ラインパターンについては、式(1)で表され、ホールパターンについては、式(2)で表されている。パターン形成度数によれば、検査画像毎に測長結果と欠陥検査結果からパターンの形成状況を判定できる。
ここで、m1は、図29(a)の測長領域M1での測長結果であり、m2は、測長領域M2での測長結果であり、m3は、測長領域M3での測長結果である。D1〜D3は、それぞれ測長領域M1〜M3での設計データの線幅である。k1は、図29(b)の欠陥の検査領域K1での欠陥検査結果であり、例えば、欠陥有無を1と0とで表している。k2は、欠陥の検査領域K2での欠陥検査結果であり、例えば、欠陥有無を1と0とで表している。α1〜α3は、測長結果のパターン形成状況への寄与率である。β1〜β2は、欠陥・異物のパターン形成状況への寄与率である。
ここで、mxは、図30(a)のホールパターン89のx軸方向の測長結果であり、myは、y軸方向の測長結果である。DHは、ホールパターン89のホール径の設計データである。k1は、図30(b)の欠陥の検査領域K1での欠陥検査結果であり、例えば、欠陥有無を1と0とで表している。α1とα2は、測長結果のパターン形成状況への寄与率である。β1は、欠陥・異物のパターン形成状況への寄与率である。
2 本体(鏡筒)
3 制御部
4 レシピ作成支援部
5 アライメント設定支援部
6 アドレッシング設定支援部
7 メジャメント設定支援部
8 レシピ実行支援部
9 アライメント実行支援部
10 アドレッシング実行支援部
11 メジャメント実行支援部
14 参照画像撮影支援部
15 参照画像記憶部
16 測長条件設定支援部
17 (非)調査領域生成支援部
18 欠陥検査条件設定支援部
19 判定値設定支援部
21 参照画像読み出し部
22 検査画像撮影部
23 検査画像記憶部
24 測長部
25 測長結果記憶部
26 (非)検査領域設置部
27 欠陥検査部
28 欠陥検査結果記憶部
29 判定部
31 読み出し部
32 表示部
33 定型形状配置部
34 GUI
35 キーボード操作部
36 属性設定支援部
37 定型形状記憶部
38 デザイン画像生成部
39 エッジ抽出部(2値化処理部)
40 許容値設定支援部
41 膨張(縮小)幅設定部
42 膨張(縮小)部
43 検査領域記憶部
44 エッジ記憶部
45 読み出し部
46 領域設定部
47 エッジ抽出部(2値化処理部)
48 膨張(縮小)幅設定支援部
49 膨張(縮小)部
51 表示画像
52 参照画像
53 ツールバー
54乃至56 定型形状指定領域
57、58 属性指定領域
61 デザイン画像
62 ラインパターン
63、64 エッジ
65、66 エッジの角部
71 ホールパターン
73 非検査領域
74 検査領域
75 非検査領域
76 ラインパターン
77 ホワイトバンド
78 基板
79、80 非検査領域
81、82 エッジ位置座標
83 測長結果
84 検査画像
85 ラインパターン
86 ホワイトバンド
87 基板
88 検査画像
89 ホールパターン
90 ホワイトバンド
91 基板
92 側壁
93 欠陥
94 差分ホワイトバンド
95 差分画像
Claims (9)
- 参照パターンを写した参照画像を記憶する参照画像記憶部と、
前記参照画像に基づいて、前記参照パターンとパターンマッチングする検査パターンが写った検査画像を撮影する検査画像撮影部と、
前記検査画像を用いて前記検査パターンの測長を行う測長部と、
前記参照画像と前記検査画像とを比較して、前記検査パターンの内または外の欠陥検査を行う欠陥検査部と、
前記参照パターンまたは前記検査パターンのエッジを抽出し、前記参照パターンまたは前記検査パターンの側壁が写されたホワイトバンドを含むように前記エッジを膨張させ、前記膨張させた領域を前記欠陥検査部が前記欠陥検査を行わない非検査領域とし、前記非検査領域を前記参照画像または前記検査画像に設定する非検査領域設置装置とを有することを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 前記非検査領域設置装置は、
前記参照画像または前記検査画像を表示する表示部と、
前記表示部に表示された前記参照画像または前記検査画像の上に、定型形状の配置を促すGUIとを有することを特徴とする請求項1に記載の走査型電子顕微鏡。 - 前記非検査領域設置装置は、前記参照画像、前記検査画像、前記参照パターンの設計データ、または、前記測長の測長結果に基づいて、前記エッジを抽出することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記非検査領域設置装置は、前記検査パターンの製造プロセスのプロセス変動許容値に基づいて、前記エッジを膨張させることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記測長部による測長の測長結果と、前記欠陥検査部による欠陥検査の欠陥検査結果との両方から、前記検査パターンの形成状態を判定する判定部を有することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の走査型電子顕微鏡。
- 参照パターンを走査型電子顕微鏡により写した参照画像を記憶し、
前記参照画像に基づいて、前記参照パターンとパターンマッチングする検査パターンが写った検査画像を前記走査型電子顕微鏡により撮影し、
前記検査画像を用いて前記検査パターンの測長を行い、
前記参照画像と前記検査画像とを比較して、前記検査パターンの内または外の欠陥検査を行い、
前記参照パターンまたは前記検査パターンのエッジを抽出し、前記参照パターンまたは前記検査パターンの側壁が写されたホワイトバンドを含むように前記エッジを膨張させ、前記膨張させた領域を前記欠陥検査部が前記欠陥検査を行わない非検査領域とし、前記非検査領域を前記参照画像または前記検査画像に設定することを特徴とする走査型電子顕微鏡を用いたパターンの複合検査方法。 - 走査型電子顕微鏡によって撮影される撮影画像との比較に供される参照画像を記憶する記憶部と、
該記憶部に記憶された参照画像と、前記撮影画像とを比較し、欠陥を検出する欠陥検査部を備えた走査型電子顕微鏡の制御装置において、
前記欠陥検査部は、前記参照画像または前記撮影画像上のエッジを抽出し、前記参照画像または前記撮影画像上のホワイトバンドを含むように前記エッジを膨張させた領域を非検査領域として設定すると共に、該非検査領域が設定された前記参照画像と前記撮影画像の比較に基づいて、前記欠陥を検出することを特徴とする走査型電子顕微鏡の制御装置。 - 請求項7に記載の走査型電子顕微鏡の制御装置において、
前記参照画像は、前記撮影画像とのパターンマッチングに供されることを特徴とする走査型電子顕微鏡の制御装置。 - 請求項8に記載の走査型電子顕微鏡の制御装置において、
前記パターンマッチングによって特定されたパターンの測長を行うことを特徴とする走査型電子顕微鏡の制御装置。
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