JP4958135B2 - 硬質皮膜被覆工具 - Google Patents
硬質皮膜被覆工具 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4958135B2 JP4958135B2 JP2004365330A JP2004365330A JP4958135B2 JP 4958135 B2 JP4958135 B2 JP 4958135B2 JP 2004365330 A JP2004365330 A JP 2004365330A JP 2004365330 A JP2004365330 A JP 2004365330A JP 4958135 B2 JP4958135 B2 JP 4958135B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard
- film
- hard coating
- coating
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 136
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 134
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 32
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 26
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 15
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 6
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 78
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 48
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 26
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 17
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 15
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 7
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 2
- 239000010730 cutting oil Substances 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 102220005308 rs33960931 Human genes 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229910018516 Al—O Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Description
基体表面に皮膜を有する被覆工具の皮膜を、例えば電子顕微鏡により観察した際に、明暗を示す複数の層が存在し、これらから無作為に選択した層であって、B含有量の相対的に大きい層をA層、B含有量の相対的に小さい層をC層とし、組成分析、例えば、EPMA(Electron Probe Micro analyser、島津製作所製EPM−1610型)分析等におけるB含有量分析の結果を原子比率による平均値で求め、A層、C層の差が、0.2以上、5以下であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具である。A層、C層の平均値の差を、上記の規定範囲内とすることにより、硬質皮膜の耐衝撃性を向上させることが可能となった。ここで、B含有量の相対的に大きい層、小さい層とは、皮膜の組成分析をφ1μmの面積領域において行い、この測定値を基準としている。
図1に示す様に、本願発明の硬質皮膜の被覆は、硬質皮膜にBの組成差を意図的に発生させるために、高密度プラズマを用いたアーク放電型イオンプレーティング(以下、AIPと記す。)方式と、低密度プラズマを利用したマグネトロンスパッタ(以下、MSと記す。)方式を併設した装置を用いている。本装置を用いることにより、B含有量を意図的に制御し組成差を発生させることが可能となった。本願発明で採用した様に、発生するプラズマ密度の異なる方式の蒸発源を同一真空装置内に設置し、被覆時に夫々の蒸発源で放電を発生させて被覆するのである。本願発明で採用したAIPとMSとの併用方式は、硬質皮膜の耐衝撃特性を向上させるため、更に硬質皮膜内部において組成差を発生させるために意図的に選択したものである。特にそれぞれの方式で必要なターゲットの組成は限定されない。MSには、エレクトロンビーム方式もしくは閉磁場方式等があるが、これ以外の方式も含め、限定されない。一方、例えば上記以外の方法には、高密度プラズマのAIP方式を用いる場合として、真空装置内に複数の蒸発源を設置し、夫々の蒸発源に組成の異なる合金ターゲットを設置することや、複数の蒸発源において夫々異なった放電出力を設定することも考えられる。しかし、AIP方式による被覆では、被覆時に発生するプラズマ密度が非常に高いため、良質な皮膜が形成されるものの、プラズマ中で発生したイオンが基体に入射する際のエネルギーも大きく、残留圧縮応力の抑制が困難である。また、複数層の硬質皮膜の組成差、硬度差を出すことが難しく、硬質皮膜の耐衝撃特性を向上させ、耐欠損性、靭性を付与させることが困難である。本願発明の硬質皮膜は、AIP方式を単独で使用した場合と比較して、同一組成の被膜であっても、硬質皮膜の高硬度化をはかることができた。
図2は、後述の本発明例3の皮膜断面観察結果を示す。観察には、透過型電子顕微鏡を用いて行った。図2より、高密度プラズマによるAIPにより被覆したA層と、低密度プラズマによるMSにより被覆したC層とが多層構造をなし、各層が連続的に分断されることなく成長していることを確認した。また硬質皮膜の元素組成を確認した。透過電子顕微鏡による解析の結果、皮膜断面で明暗を示す各層毎に組成差が観察された。更に、所定の組成の硬質皮膜を被覆する際に結晶が分断されることなく成長させることが、皮膜に靭性を与えるために重要である。
Al含有量wの数値規定範囲は、20≦w≦50である。w≦50とする理由は、金属組成バランスにおいてwが大きくなると、表層にAl2O3を形成し静的な耐熱性は優れるが、実際の切削加工においては、硬質皮膜のAlが多い程、被削材中のFe成分などが皮膜に内向拡散を誘発するためである。そこで、wは50以下、w≦x+y+zとすることである。一方、wが20未満の場合は、Alの添加効果が得られず、皮膜の耐摩耗性、耐酸化性が劣るため、不都合である。
B含有量zの数値限定範囲は、0.1≦z≦15である。B添加は、切削工具に適用した際に、切削時の発熱により皮膜表層付近に、Alの酸化物よりもBの緻密な酸化物が早く形成されることで、被削材に含まれるFeが硬質皮膜中へ内向拡散するのを抑制し、その結果、溶着発生を抑制できることにある。zが15を超えて大きいと、皮膜硬度と耐熱性は向上する傾向にあるが、硬質皮膜の破断面組織形態が柱状組織から微細粒状組織に変化する。微細粒状組織になると、硬質皮膜の結晶粒界が多くなり、切削熱が上昇した時、大気中の酸素や被削材のFeが内向拡散する経路を増やしてしまい、不都合である。これは、切れ刃に溶着が発生し、潤滑性が損なわれるためである。従って、硬質皮膜の破断面組織形態の最適化も重要な必要条件の1つであり、特に高送り加工では、硬質皮膜材料によらず柱状組織を維持する技術は重要である。更に、zが15を超えて大きいと、皮膜内部の残留応力が増大する。この場合、基体と硬質皮膜界面からの剥離が発生しやすくなり、特に耐衝撃性の強い切削加工において容易に剥離が発生する。この剥離部を中心に溶着が発生するため不都合である。一方、zを0.1以上とした理由は、B分析上の容易な検出点であるからである。量産時の安定性を配慮し、また量産稼動を滞りなく行うためには分析を短時間で行う必要がある。
比較例17〜26、比較例31〜40、比較例43〜47、従来例29、30、41、42は、プラズマ密度の同じ単一の蒸発源を用い、比較例27、28はAIPとMSとを併用し、表1の硬質皮膜の組成を被覆した、本発明例同様に、硬質皮膜の詳細及び切削試験の結果を、表2、表3に併記した。
工具:正面フライス
インサート形状:SDE53タイプ特殊形状
切削方法:センターカット方式
被削材形状:巾100mm×長さ250mm
被削材:S50C(HRC30)、Φ6ドリル穴多孔面在り
切り込み量:2.0mm
切削速度:120m/min
1刃送り量:1.0mm/刃
切削油:なし
(切削条件2)
工具:正面フライス
インサート形状:SDE53タイプ特殊形状
切削方法:センターカット方式
被削材形状:巾100mm×長さ250mm
被削材:S50C(HRC30)
切り込み量:2.0mm
切削速度:120m/min
1刃送り量:1.0mm/刃
切削油:なし
表2より、切削条件1の耐欠損性について、被削材の表面に予めドリルにて等間隔に穴をあけたものを使用した。この被削材表面を高能率加工条件にて切削を行う事により断続加工を想定し、インサートが衝撃を受けて欠損に至るまでの切削可能長を評価した。
2:AIP蒸発源
3:MS蒸発源
4:基体保持治具
5:回転方向
Claims (7)
- 基体表面に硬質皮膜を被覆した被覆工具において、該硬質皮膜の組成は、(AlwTixNbyBz)、但し、w、x、y、zは原子比率で、20≦w≦50、25≦x≦75、2≦y≦20、0.1≦z≦15、w+x+y+z=100、w≦x+y+zで表される金属成分と、(OaN100−a)、但し、0.3≦a≦5で表される非金属成分であり、該硬質皮膜は、アークイオンプレーティング法による蒸発源と、マグネトロンスパッタ法による蒸発源とを併設した装置を用いて、該蒸発源の組成を同一とし、被覆時に夫々の蒸発源で放電を発生させ、高密度プラズマの該アークイオンプレーティング法により被覆されたA層と、低密度プラズマの該マグネトロンスパッタ法により被覆されたC層とが多層構造をなし、該硬質皮膜は、B含有量の相対的に大きい該A層と、B含有量の相対的に小さい該C層、とを含み、該A層、C層のB含有量の差が、原子比率で、0.2以上、5以下であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項1記載の硬質皮膜被覆工具において、該硬質皮膜の総膜厚は、平均厚さで0.5〜10μmであることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項1又は2記載の硬質皮膜被覆工具において、該硬質皮膜の面心立方構造の(200)面と、基体のWCの(100)面とがヘテロエピタキシャル関係を有し、該硬質皮膜の破断面組織形態が、基体との界面から表面まで連続した柱状組織をなすことを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項1乃至3いずれかに記載の硬質皮膜被覆工具において、該硬質皮膜はX線回折における該面心立方構造の(111)面に検出されるピーク強度値をIa、該(200)面に検出されるピーク強度値をIbとした時に、Ib/Ia≧2.0であり、該(200)面の格子定数λ(nm)が0.4155≦λ≦0.4220の範囲にあることを特徴とした硬質皮膜被覆超硬工具。
- 請求項1乃至4いずれかに記載の硬質皮膜被覆工具において、該硬質皮膜と基体との界面から該総膜厚の1〜30%の酸素含有量Mと、該硬質皮膜の表面から該総膜厚の1〜30%の酸素含有量Nとの差を(N−M)とした時、(N−M)≧0.3であり、該硬質皮膜の表面近傍には、ESCA分析においてBと酸素との結合状態を示すピークが検出され、該Bと酸素との結合状態を示すピーク位置が188eVから195eVの範囲内にあることを特徴とした硬質皮膜被覆工具。
- 請求項1乃至5いずれかに記載の硬質皮膜被覆工具において、該基体の直上面にTiの窒化物、炭窒化物、硼窒化物、TiAl合金、Cr金属、W金属から選ばれる少なくとも1種以上の中間層を設けたことを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の硬質皮膜被覆工具において、該硬質皮膜を被覆後に、該硬質皮膜表面の凸部を機械的処理により、平滑化したことを特徴とする硬質皮膜工具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004365330A JP4958135B2 (ja) | 2003-12-26 | 2004-12-17 | 硬質皮膜被覆工具 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003431711 | 2003-12-26 | ||
JP2003431711 | 2003-12-26 | ||
JP2004365330A JP4958135B2 (ja) | 2003-12-26 | 2004-12-17 | 硬質皮膜被覆工具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005205592A JP2005205592A (ja) | 2005-08-04 |
JP4958135B2 true JP4958135B2 (ja) | 2012-06-20 |
Family
ID=34914200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004365330A Expired - Fee Related JP4958135B2 (ja) | 2003-12-26 | 2004-12-17 | 硬質皮膜被覆工具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4958135B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3333081B2 (ja) * | 1995-12-18 | 2002-10-07 | 東芝タンガロイ株式会社 | 結晶配向性高強度被覆部材 |
JPH11335813A (ja) * | 1998-05-21 | 1999-12-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質被膜及び積層硬質被膜 |
JP3392115B2 (ja) * | 2000-09-19 | 2003-03-31 | 日立ツール株式会社 | 硬質皮膜被覆工具 |
JP2002273607A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Hitachi Tool Engineering Ltd | 多層被覆工具 |
JP3622846B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2005-02-23 | 住友電気工業株式会社 | 粘質材用ミーリング工具 |
US7087295B2 (en) * | 2002-01-18 | 2006-08-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Surface-coated cutting tool |
JP2003291007A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-14 | Hitachi Tool Engineering Ltd | 硬質皮膜被覆工具 |
JP2003291006A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-14 | Hitachi Tool Engineering Ltd | 硬質皮膜被覆工具 |
-
2004
- 2004-12-17 JP JP2004365330A patent/JP4958135B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005205592A (ja) | 2005-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101170943B1 (ko) | 경질 피막 및 그 형성 방법, 및 경질 피막 피복 공구 | |
KR100937072B1 (ko) | 내마모성과 내산화성이 우수한 경질 피막과 상기 경질 피막 형성용 타겟, 및 고온윤활성과 내마모성이 우수한 경질 피막과 상기 경질 피막 형성용 타겟 | |
KR101170396B1 (ko) | 경질 피막 및 그 제조 방법 | |
IL172557A (en) | Surface-coated cutting tool | |
JP5382581B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
KR102167200B1 (ko) | 피복 절삭 공구 | |
JP4304170B2 (ja) | 硬質皮膜 | |
JP4958134B2 (ja) | 硬質皮膜被覆工具 | |
US11491549B2 (en) | Multi-layer coated cutting material, method for manufacturing the same, and cutting tool insert for mechanical machining including the same | |
JP4850189B2 (ja) | 被覆工具 | |
JP2006118051A (ja) | 硬質皮膜の製造方法 | |
JP4975682B2 (ja) | 被覆切削工具の製造方法 | |
JP2007046103A (ja) | 硬質皮膜 | |
JP4958135B2 (ja) | 硬質皮膜被覆工具 | |
KR102244795B1 (ko) | 우수한 윤활성과 내마모성을 가지는 다층 피복 절삭 소재, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 기계가공용 절삭 공구 인서트 | |
JP4453902B2 (ja) | 硬質皮膜及び硬質皮膜被覆工具 | |
JP4615259B2 (ja) | 硬質皮膜の製造方法 | |
KR102600218B1 (ko) | 피복 절삭 공구 | |
JP2004136430A (ja) | 被覆工具 | |
JP4908767B2 (ja) | 表面被覆部材および切削工具 | |
JP2007056324A (ja) | 硬質皮膜 | |
KR102480241B1 (ko) | 피복 절삭 공구 | |
JP2010284788A (ja) | 硬質皮膜被覆工具 | |
JP2006307242A (ja) | 硬質皮膜 | |
JP4304175B2 (ja) | 硬質皮膜及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110725 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120314 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120314 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150330 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4958135 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |