JP4947783B2 - 真空熱処理装置 - Google Patents
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Description
前記気密チャンバーおよび前記複数の処理セルの少なくとも一方が上下方向に2段以上に亘って配設され、
前記搬送機構が、前記処理物を搭載する収容函を有するとともに、該収容函の水平方向の向きを変える回転機構部と、前記収容函を上下に移動させる昇降機構部とを有し、
上段の前記処理セルと下段の前記処理セルが、前記気密チャンバーの外周に沿って、互いに半ピッチだけ円周方向に角度をずらせて配置されていることを特徴とする。
図1および図2に示すように、真空熱処理装置1は、円筒形の気密チャンバー2と、この気密チャンバー2の外周に沿って2段に配設された処理セル4、6、8、10、・・・を有する。なお上段の処理セル4、8と下段の処理セル6、10は、図1では、便宜上、上下に整列させて示しているが、実際は、図2に示すように半ピッチだけ位置ずれさせている。ここでいう1ピッチとは、処理セルとこの処理セルに円周方向に隣接する同じ段の処理セルとのなす角度をいう。即ち、処理セル4、8を含む上段の処理セル(以下、処理セルAという)は、気密チャンバー2の周りに十字形となるように配置され、処理セル6、10を含む下段の処理セル(以下、処理セルBという)は、上段の処理セルAと45°位置ずれさせて同様に十字形に配列されている。また、処理セル10の下部には処理セル12が連結されている。
以上のように、本発明の真空熱処理装置1は、夫々、気密チャンバー2の外周に複数の処理セルを配置した構成であるので、追加の処理セルを、外周方向に、或いは上下方向に増設することが可能となり、設置スペースを増大させずに生産量を増加させることができる。また、加熱処理後の処理物も加熱温度を維持したまま、約1分以内に油焼入セルに投入することが可能となる。特に油焼入セルが気密チャンバーの下部に位置する場合は、処理物を落下させることにより、一層早く投入することができるので、温度低下が急激な小物の処理物の場合でも、必要な時間内に焼入処理を行うことができるので、所望の高品質の製品を得ることができる。
2 気密チャンバー
4、6 気密加熱室(処理セル)
8 ガス冷却室(処理セル)
10 準備室(処理セル)
12 気密油焼入室(油焼入セル)
51 搬送機構
54 収容函
Claims (2)
- 装置中央に配置された気密チャンバーと、該気密チャンバーの外周に配設された複数の処理セルとを備え、前記気密チャンバー内に、前記複数の処理セルとの間で処理物を移動させる搬送機構が設けられた、前記処理物を前記処理セル内で熱処理する真空熱処理装置において、
前記複数の処理セルが上下方向に少なくとも2段に亘って配設され、前記気密チャンバーが少なくとも2段の前記処理セルに亘る高さを有し、
前記搬送機構が、前記処理物を搭載する収容函を有するとともに、該収容函の水平方向の向きを変える回転機構部と、前記収容函を上下に移動させる昇降機構部とを有し、
前記収容函が、前記処理物を収容するバスケットを載置することができるテレスコープ式横移動機構部を有し、
上段の前記処理セルと下段の前記処理セルが、前記気密チャンバーの外周に沿って、互いに半ピッチだけ円周方向に角度をずらせて配置されていることを特徴とする真空熱処理装置。 - 前記搬送機構が、前記気密チャンバーの中央に支持された垂直軸の周りに回転可能な枠状のレール部材を有し、前記収容函が前記レール部材に沿って昇降可能に前記昇降機構部により保持されていることを特徴とする請求項1記載の真空熱処理装置。
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