JP4944705B2 - 半導体装置の作製方法及び配線の作製方法 - Google Patents
半導体装置の作製方法及び配線の作製方法 Download PDFInfo
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本発明の実施形態について、以下に説明する。
本実施の形態では、レーザ発振装置からのレーザビームの光路上に複数の電気光学装置を配置する例を図3に示す。
本実施の形態では、レーザビームの光路にDMDを配置する例を示す。
101:第1材料層
103:レーザ発振装置
104:第1の光学系
105:第2の光学系
106:第3の光学系
107:反射ミラー
108:電気光学装置
109:基板ステージ
114:第2材料層
115:第3材料層
116:制御装置
201:第1材料層
202:第2材料層
208:電気光学装置
209:基板ステージ
210:走査方向
212:レーザビーム
213:島状の第1の材料層
214:島状の第2の材料層
300:基板
301:第1材料層
303:レーザ発振装置
304:第1の光学系
305:第2の光学系
306:第3の光学系
307:反射ミラー
308a:第1の電気光学装置
308b:第2の電気光学装置
308c:第3の電気光学装置
309:基板ステージ
314:第2材料層
315:第3材料層
316:制御装置
Claims (9)
- 基板上に水素を含むアモルファスシリコンを用いた第1材料層を形成し、
前記第1材料層上に酸化窒化珪素を用いた第2材料層を形成し、
光を透過する面積及び位置を調節する電気光学装置に通過させたレーザビームを前記第1材料層に走査しながら照射することにより、前記第1材料層、及び当該第1材料層上に形成された前記第2材料層の除去を選択的に行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上に第1材料層を形成し、
前記第1材料層上に第2材料層を形成し、
光を透過する面積及び位置を調節する電気光学装置に通過させたレーザビームを前記第1材料層または前記第2材料層に走査しながら照射することにより、前記第1材料層及び前記第2材料層の除去を選択的に行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上に第1材料層を形成し、
前記第1材料層上に第2材料層を形成し、
前記第2材料層上に第3材料層を形成し、
光を透過する面積及び位置を調節する電気光学装置に通過させたレーザビームを前記第1材料層、前記第2材料層、または前記第3材料層に走査しながら照射することにより、
前記第2材料層及び前記第3材料層の除去、または前記第1材料層、前記第2材料層、及び前記第3材料層の除去を選択的に行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項3において、前記第2材料層は、前記第1材料層及び前記第3材料層に比較して沸点または昇華点が低いことを特徴とする半導体装置の作製方法。
- 基板上にタングステンまたはタンタルを用いた第1材料層を形成し、
前記第1材料層上にクロムまたはアルミニウムを用いた第2材料層を形成し、
前記第2材料層上に無機絶縁材料を用いた第3材料層を形成し、
光を透過する面積及び位置を調節する電気光学装置に通過させたレーザビームを前記第1材料層、前記第2材料層、または前記第3材料層に走査しながら照射することにより、
前記第2材料層及び前記第3材料層の除去、または前記第1材料層、前記第2材料層、及び前記第3材料層の除去を選択的に行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至5のいずれか一において、前記レーザビームの走査の間、前記電気光学装置における光の通過する位置を複数回変化させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
- 請求項1乃至6のいずれか一において、前記電気光学装置としてデジタルマイクロミラーデバイスを用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
- 基板上にクロムを用いた第1材料層を形成し、
前記第1材料層上に酸化窒化珪素を用いた第2材料層を形成し、
光を透過する面積及び位置を調節する電気光学装置に通過させたレーザビームを前記第1材料層に走査しながら照射することにより、前記第1材料層、及び当該第1材料層上に形成された前記第2材料層の除去を選択的に行うことを特徴とする配線の作製方法。 - 請求項8において、前記電気光学装置としてデジタルマイクロミラーデバイスを用いることを特徴とする配線の作製方法。
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