JP4932970B2 - 焼結パレット台車、それを備えた焼結機及び焼結鉱の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、高炉用原料となる焼結鉱を製造するために用いる焼結パレット台車、それを備えた焼結機及び焼結鉱の製造方法に関し、特に、６００ｍｍより厚い原料充填層厚の条件で焼結鉱を製造するのに適した焼結パレット台車、それを備えた焼結機及びこれらを用いた焼結鉱の製造方法に関する。

高炉用原料である焼結鉱を製造する下方吸引式焼結機では、図５に示すように、まず、床敷鉱ホッパー１０１から床敷鉱を、焼結パレット台車１０３の底面のグレートバー１０３ａ上に装入し、３０ｍｍ程度の厚みの床敷層１０２を形成する。次いで、主原料の粉状鉄鉱石等の鉄含有原料、石灰石等の副原料、粉コークス等の燃料からなる焼結原料１０４をサージホッパー１０５に搬送して貯蔵した後、ドラムフィーダーから切り出し、シュート１０６を介して焼結パレット台車１０３の床敷鉱１０２の上に装入して原料充填層１０７を形成する。次いで、原料充填層１０７の上面表層中の粉コークスに点火炉１０８で点火したのち、吸引負圧をかけて空気を下方に吸引しながら焼結パレット台車１０３を排鉱部まで順次水平移動し、その間に原料充填層１０７中の粉コークスを燃焼させ、この燃焼熱で上層から下層にかけて順次原料を焼結して焼結鉱を製造する。

原料充填層１０７の上層から下層に向かって焼結が進行する焼結過程において、先ず上層に焼結が完了した焼結完了層１０７ａ（以下、「シンターケーキ」という）が形成される。このシンターケーキの直下の原料充填層には燃焼・焼結進行中の軟化溶融層が形成され、その下層には未焼結の原料充填層が存在しているが、この軟化溶融層および原料充填層はシンターケーキの荷重を受けて圧縮され、高嵩密度化する。このため、シンターケーキの下方の軟化溶融層を含む原料充填層内の通気が低下し、また通気が不均一化する。そして、これは原料充填層中の炭材の燃焼速度の低下や燃焼むらにつながり、結果として焼結速度の低下、焼結成品歩留りの低下から、焼結鉱の生産性が低下してしまうという問題がある。

このようなシンターケーキの下方の軟化溶融層および原料充填層にかかるシンターケーキ荷重の軽減を図る方法として、図６に示すように、焼結パレット台車１０３上にシンターケーキを支持するスタンド１０９（以下、「シンターケーキ支持スタンド」という）を立設して焼結を行うスタンド支持焼結法が発明された（例えば、特許文献１、２）。

このスタンド支持焼結法では、原料充填層の上層から焼結が進行してシンターケーキの厚みが増していき、シンターケーキがシンターケーキ支持スタンド頂部の高さ位置に達する厚みになると、シンターケーキはシンターケーキ支持スタンド頂部で支えられ、その下の層にかかるシンターケーキ荷重が軽減され、通気が改善されて、格段に生産性が向上する（以下、かかる効果を「シンターケーキ支持効果」という）。

特開平２−２９３５８６号公報 特開平４−１６８２３４号公報 特許第２７１５２１８号公報 特開平６−３２３７４５号公報 特開平９−２０９０５０号公報 特開２０１０−１４４９４６号公報

シンターケーキ支持効果はシンターケーキがシンターケーキ支持スタンド頂部で支持された後に得られる効果である。焼結開始からできるだけ早くにシンターケーキ支持効果のある状態で焼結が進行するためには、できるだけ高さの高いシンターケーキ支持スタンドを用いるのが望ましい。
しかしながら、シンターケーキはシンターケーキ支持スタンド頂部において局所的に支持されるので、シンターケーキ支持スタンドの高さが高過ぎてその結果、支持されるシンターケーキの厚さ（以下、適宜「支持シンターケーキ厚」という）が薄過ぎると、図７に模式的に示すように、焼結工程でシンターケーキ支持スタンドの上方のシンターケーキの表面に亀裂１１０が発生してしまうという問題がある（尚、図１の模式図から明らかなように、（原料充填層の層厚（ｈ）−シンターケーキ支持スタンドの高さ（Ｈ））が「支持シンターケーキ厚」となる）。シンターケーキ表面に亀裂が発生してしまうと、亀裂部位に優先的にガス流れが起こるので、下層の焼成が不均一となるいわゆるむら焼けを助長してしまい、生産率が低下する。

従って、シンターケーキ表面の亀裂を回避する必要がある。
「支持シンターケーキ厚」が薄過ぎると亀裂が生ずることは明らかである。また、シンターケーキ表面の亀裂発生について、「支持シンターケーキ厚」に下限があること、言い換えると、シンターケーキ支持スタンド高さに上限があることには疑問の余地がないと思われる。従って、亀裂を回避するために、「支持シンターケーキ厚」を、亀裂が生じる下限の厚みよりも厚くなるようにシンターケーキ支持スタンドの高さを選択すればよい。言い換えると、シンターケーキ支持スタンドの高さを、亀裂が生じる「支持シンターケーキ厚」の下限に対応するシンターケーキ支持スタンド高さの上限よりも低く設定すればよいと思われる。

しかし、シンターケーキ表面の亀裂発生のメカニズムが十分に解明されていなかったこともあり、この「支持シンターケーキ厚」の下限、もしくは、シンターケーキ支持スタンド高さの上限をどのように決めるべきか、その指針がなかった。
このような状況の中、特許文献３において、シンターケーキ支持スタンド高さの上限を、原料充填層の層厚に対するシンターケーキ支持スタンドの高さの比（以下、適宜「層厚に対する高さ比」という）によって決めるという考え方が示された。具体的に、従来用いられてきた典型的な層厚である６００ｍｍの原料充填層に対して、４５０ｍｍ以上の高さのシンターケーキ支持スタンドを用いて、シンターケーキ表面に亀裂が生じたという結果に基づいて、シンターケーキ支持スタンド高さの上限として「層厚に対する高さ比」７５％が示された。
この考え方に基づけば、亀裂発生回避のために、原料充填層が高層厚になるほど、「支持シンターケーキ厚」を厚くする必要がある。上記の通り、原料充填層が６００ｍｍのときは「支持シンターケーキ厚」の下限は１５０ｍｍであり、仮に８００ｍｍの原料充填層を用いるときは、「支持シンターケーキ厚」の下限は２００ｍｍ（シンターケーキ支持スタンドの高さの上限は６００ｍｍ）となる。

この従来法によれば、シンターケーキ支持スタンドに掛かるシンターケーキの荷重は、原料充填層が高層厚になるほど大きくなり、その反作用としてシンターケーキ支持スタンドからシンターケーキに掛かる力も同様に大きくなる。このシンターケーキに掛かる力の増大に応じて、シンターケーキに亀裂が発生しやすくなる。特に、層厚が７２０ｍｍを超えると、シンターケーキの荷重の増大に伴いシンターケーキに亀裂が生じやすくなる。従って、原料充填層が高層厚になるほど、厚い「支持シンターケーキ厚」が必要になるという考え方は理解しやすいとも思われる。

しかしながら、特許文献３においては、シンターケーキの強度のことは全く考慮されていなかった。一般に、固体材料の亀裂は材料に掛かる応力がその固体材料の強度を超えたときに発生するが、このことはシンターケーキに対しても当てはまると考えられる。従って、シンターケーキの強度を考慮して、「支持シンターケーキ厚」の下限すなわち、シンターケーキ支持スタンドの高さの上限の求め方を見直すことは意義があると思われる。

下方吸引式の焼結の原理は、点火炉で原料充填層の表層部分の炭材を着火し、下方吸引により炭材を順次燃焼させて熱伝達を下方に行うものである。この原理上、原料充填層の上層部分はまだ燃料の燃焼による予熱効果が小さく、かつ通気抵抗の高い軟化溶融層の厚みが薄いために原料充填層全体の通気抵抗も小さい。そのため、原料充填層の上層部分は温度が低く、かつ炭材の燃焼が過剰に早く進んでしまう結果、燃焼溶融反応（焼結化反応）が不十分となり、焼結したシンターケーキの強度が低くなる。
以上の通り、シンターケーキの強度はその通気抵抗もしくは通気性に大きく依存し、原料充填層の上層のシンターケーキは下層のシンターケーキより強度が低いことが知られている。

発明者らは、上層のシンターケーキと下層のシンターケーキで強度に差がでる上記メカニズムは、層厚の異なる原料充填層間のシンターケーキの強度についてもあてはまることに注目した。高層厚条件下での原料充填層は厚さが厚い分、低層厚条件下での原料充填層よりも通気抵抗が大きいから、高層厚条件下での原料充填層の上層の燃焼は低層厚条件下での原料充填層の上層の燃焼よりもゆっくり進む。そのため、高層厚条件下での原料充填層の上層のシンターケーキは予熱効果により、低層厚条件下での原料充填層の上層のシンターケーキよりも強度が高いと考えられる。
すなわち、通気性の観点から、原料充填層が高層厚になるほど、原料充填層の上層の「支持シンターケーキ厚」部分のシンターケーキの強度は高くなると考えられる。このような原料充填層の上層の「支持シンターケーキ厚」部分のシンターケーキの強度が原料充填層の層厚に依存するというこの考えに基づけば、特許文献３で示された「層厚に対する高さ比」７５％のシンターケーキ支持スタンド高さの上限は、層厚条件が「６００ｍｍ層厚の場合」のシンターケーキの強度における上限に過ぎなかったと考えられる。
従って、６００ｍｍより高層厚の原料充填層の条件で焼結鉱を製造する場合は、シンターケーキ表面の亀裂を回避しつつ、「層厚に対する高さ比」で７５％より高いスタンド高さのシンターケーキ支持スタンドを用いることができる可能性がある。

また、「層厚に対する高さ比」で７５％のシンターケーキ支持スタンドの高さの上限ルールに従った場合、原料充填層が高層厚になるほど、シンターケーキ支持効果を受けない原料充填層の厚みが厚くなるので、低品質の焼結鉱の割合が高くなり、成品歩留は低下する。
近年の焼結鉱の製造時における高生産・高層厚化の流れから、高層厚の原料充填層に対してより合致する新たな上限ルールを見出すことは非常に重要である。

また、特許文献４においては、シンターケーキの圧縮による通気性の悪化やこれに伴うコークスの燃焼速度の低下による生産性の低下を改善するための提案がなされているが、焼結原料の層厚に着目するのみで十分な結果は得られていない。さらに、特許文献５ではコークス焼結速度を高めるためにシンターケーキ支持部材を規則的に分散させることが提案され、また、特許文献６ではシンターケーキ支持部材の長寿命化について提案されているが、シンターケーキ支持効果を最大限に活かして、成品品質及び生産性向上を図るために最適化されたシンターケーキ支持スタンドの構造及びその配置方法について具体的に示されてはいない。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面の亀裂を回避しつつ、シンターケーキ支持効果を最大限に活かして、成品品質及び生産性向上を図ることができるシンターケーキ支持スタンドを有する焼結パレット台車、それを備えた焼結機及びこれらを用いた焼結鉱の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、上記目的を達成するべく鋭意検討を行なった結果、６００ｍｍ、特に７２０ｍｍより層厚が高い原料充填層の条件下で焼結鉱を製造する際、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面の亀裂を回避するためのシンターケーキ支持スタンド高さの上限ルールを見出し、本発明を完成させた。

上記課題を解決するための本発明の要旨は、以下の通りである。
（１）６００ｍｍより厚い原料充填層厚の条件で焼結鉱を製造するために用いられる焼結パレット台車であって、該焼結パレット台車上に、側面がパレット台車の進行方向に略平行なるように立設されかつ高さ（Ｈ）がＨ＝ｈ−１２０［ｍｍ］（ｈは原料充填層の層厚）以下のシンターケーキ支持スタンドをパレット台車の幅方向に複数備え、
前記シンターケーキ支持スタンドは、その頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が３０［ｍｍ］≦Ｗ_Ｓ≦６０［ｍｍ］であり、前記シンターケーキ支持スタンドの個数は、パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離が１２５０ｍｍを越えないように選択されている、ことを特徴とする焼結パレット台車。
（２）（１）に記載の焼結パレット台車を備えたことを特徴とする焼結機。
（３）焼結パレット台車上に、その進行方向に平行に立設されかつ高さ（Ｈ）がＨ＝ｈ−１２０［ｍｍ］（ｈは原料充填層の層厚）以下であり、かつ頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が３０［ｍｍ］≦Ｗ_Ｓ≦６０［ｍｍ］であるシンターケーキ支持スタンドを、パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離が１２５０ｍｍを越えないようにパレット台車の幅方向に複数備えてシンターケーキを支持しながら、６００ｍｍより厚い原料充填層厚の条件で焼結鉱を製造する焼結鉱の製造方法。

本発明の焼結パレット台車によれば、６００ｍｍより厚い原料充填層厚の条件で焼結鉱を製造するために用いられる焼結パレット台車およびこれを備えた焼結機であって、該焼結パレット台車上に、側面がパレット台車の進行方向に略平行なるように立設されかつ高さ（Ｈ）がＨ＝ｈ−１２０［ｍｍ］（ｈは原料充填層の層厚）のシンターケーキ支持スタンドを焼結パレット台車の幅方向に複数備えた構成、すなわち、従来のシンターケーキ支持スタンドの高さより高い、「層厚に対する高さ比」で７５％を超える高さＨ＝ｈ−１２０［ｍｍ］（ｈは原料充填層の層厚）のシンターケーキ支持スタンドとする構成なので、簡易な変更によって、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面の亀裂を回避しつつ、シンターケーキ支持効果を最大限に活かして成品品質及び生産性を向上させることができる。

本発明の焼結パレット台車によれば、シンターケーキ支持スタンドとしてその頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が３０［ｍｍ］≦Ｗ_Ｓ≦６０［ｍｍ］であるものとし、シンターケーキ支持スタンドの個数として、パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離が１２５０ｍｍを越えないように選択されている構成とすることにより、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面の亀裂、その前段現象である隆起をも回避しつつ、シンターケーキ支持効果を最大限に活かして成品品質及び生産性を向上させることができる。

本発明の焼結機及び焼結鉱の製造方法によれば、シンターケーキ表面の亀裂を回避しつつ、シンターケーキ支持効果によって成品品質及び生産性を向上させることができる。

本発明のシンターケーキ支持スタンドと原料充填層との高さの関係を説明するための模式図である。 シンターケーキ支持スタンドが立設された焼結パレット台車の平面図であって、本発明のシンターケーキ支持スタンドの頂部面と焼結パレット台車の上面との相対位置及びサイズの関係を説明するための模式図である。 シンターケーキ支持スタンドを備えた焼結パレット台車の概略斜視図であって、本発明の隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離を説明するための図である。 本実施例のシンターケーキ支持スタンドを備えた焼結パレット台車の、（ａ）概略平面図、（ｂ）（ａ）のＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。 下方吸引式焼結機の概略断面図である。 シンターケーキ支持スタンドを備えた焼結パレット台車の概略斜視図である。 シンターケーキ表面の亀裂を模式的に示す図である。

以下、本発明を適用した一実施形態である焼結パレット台車、それを備えた焼結機及び焼結鉱の製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。

図１は、焼結パレット台車上の、焼結過程における原料充填層のシンターケーキ支持スタンド近傍を模式的に示す断面図である。
焼結過程において、パレット台車上３の原料充填層１は、上層に焼結が完了した焼結完了層（シンターケーキ）１ａ、その下に燃焼進行中の軟化溶融層１ｂ、その下に未焼結の原料充填層１ｃ及び床敷層２からなる状態となっており、シンターケーキ１ａはシンターケーキ支持スタンド４によって支持されている。

原料充填層１の層厚（ｈ）は６００ｍｍを越えるものであり、パレット台車上３に設置するシンターケーキ支持スタンド４の高さ（Ｈ）はＨ＝ｈ−１２０ｍｍ以下とする。
シンターケーキ支持スタンド４の高さ（Ｈ）の上限を、原料充填層１の厚さ（ｈ）よりも１２０ｍｍ低い値とすることにより、原料充填層が６００ｍｍを越える高層厚条件下での焼結鉱の製造方法において、亀裂が発生しない「支持シンターケーキ厚」が支持スタンド直上に形成される。
つまり、支持スタンド直上に形成される「支持シンターケーキ厚」を少なくとも１２０ｍｍ確保できる範囲でシンターケーキ支持スタンドの高さを設定することで、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面の亀裂を回避しつつ、シンターケーキ支持効果によって焼結鉱の成品品質及び生産性を向上させることができる。

シンターケーキ支持スタンド４の高さ（Ｈ）が（層厚（ｈ）−１２０）ｍｍより高くなると、「支持シンターケーキ厚」が１２０ｍｍより薄くなり、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面に亀裂が発生する。また、下限は特に限定するものではないが、シンターケーキ支持スタンド４の高さ（Ｈ）が４５０ｍｍ未満の場合、焼結進行速度（ＦＦＳ）の改善が大きくないため４５０ｍｍ以上とすることが好ましい。

図２は、シンターケーキ支持スタンド４が立設された焼結パレット台車３の平面図であって、シンターケーキ支持スタンド４の頂部面４ａと、焼結パレット台車３の底面との相対位置及びサイズの関係を説明するための模式図である。
図中、焼結パレット台車の上流端３Ａから下流端３Ｂに向かう向きが焼結パレット台車の進行方向である。

なお、以下に説明するシンターケーキ支持スタンド４の頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）は、図２に示すように、パレット台車の幅方向に平行な頂部面の寸法（ｍｍ）、同頂部面の長さ（Ｌ_Ｓ）は、パレット台車の進行方向に平行な寸法（ｍｍ）を意味する。
シンターケーキ支持スタンド４の頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）は３０［ｍｍ］≦Ｗ_Ｓ≦６０［ｍｍ］であるのが好ましい。
上記頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が３０ｍｍより狭いと上層シンターケーキに対して面支持効果が十分でなく、線支持に近い状態となって、シンターケーキに進行方向に平行に亀裂が入りやすいからであり、また、上記頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が６０ｍｍより広いと頂部面による抜熱量が大きくなり、焼結鉱の成品品質及び生産性が低下するからである。

シンターケーキ支持スタンド４の頂部面の長さ（Ｌ_Ｓ）は長いほど、シンターケーキを支持する面積が広くなるので、上層シンターケーキに対する応力集中を回避でき、亀裂回避には好ましい。しかし、焼結機排鉱部で焼結パレット台車からのシンターケーキ剥離性を良好に保つため、図２に示すように、焼結パレット台車の進行方向の下流端３Ｂにシンターケーキを支持しない領域が設けられることが多い。

図３は、本発明のシンターケーキ支持スタンドを備えた焼結パレット台車の概略斜視図である。
パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離ｄ_１及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離ｄ_２はいずれも、１２５０ｍｍより小さい。
ｄ_１又はｄ_２のいずれかが１２５０ｍｍ以上になると、１台あたりのシンターケーキ支持スタンドに掛かる荷重が過大となり、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面に亀裂が入りやすくなるからである。
焼結パレット台車の幅を従来ものより幅広にするときは、上記隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離ｄ_１及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離ｄ_２が１２５０ｍｍを越えないように、シンターケーキ支持スタンドの個数を決めればよい。

長さＬ_０が１５００ｍｍ、幅Ｗ_０が５５００ｍｍの焼結パレット台車１３を用いた。
また、図４に示すように、焼結パレット台車１３上には、パレット台車の進行方向に平行に配置する多数のグレートバー（１３ａ）群がパレット進行方向と直交方向に３列（１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ）並置し、側面視して略台形のシンターケーキ支持スタンド１４ａ、１４ｂを前記グレートバー（１３ａ）群の後方２列（１３Ｂ、１３Ｃ）に、パレット台車の幅方向に４本づつ設置した。パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離ｄ_１は、パレット台車の幅方向において第１−第２スタンド間、および、第３−第４スタンド間のそれぞれの距離を１０１０ｍｍとし、第２−第３スタンド間の距離を１０００ｍｍとした。また、シンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離ｄ_２は、それぞれ１２４０ｍｍとした。
＜参考＞ １０１０×２＋１０００＋１２４０×２＝５５００ｍｍ（パレット幅）
各シンターケーキ支持スタンドは、パレット台車の進行方向に水平な断面が概略台形板状を有し、かつ厚み方向の断面は、排鉱性を良好にする点から、板厚が下から上に薄くなるテーパー形状を有しており、その側面がパレット台車の進行方向に略平行なるように立設されている。また、シンターケーキ支持スタンドは、各シンターケーキ支持スタンドの底部（台形の下底）の長さ及び幅はそれぞれ５００ｍｍ、１００ｍｍであり、頂部（台形の上底）の長さ及び幅はそれぞれ、２００ｍｍ、４７ｍｍのものを用いた。

表１に、本発明の様々な実施例に係る焼結パレット台車を用いて製造した焼結鉱について、支持スタンド直上に形成されるシンターケーキ表面の亀裂の有無、焼結鉱のＴＩ（タンブラー強度）強度及び成品歩留を示す。また、表２に、比較例を示す。表中で「ｈ−Ｈ」は支持スタンド直上に形成される「支持シンターケーキ厚」に相当する。尚、亀裂の有無は目視により判断した。

実施例１〜９は、原料充填層の層厚（ｈ）が６００ｍｍ〜９７０ｍｍの条件において、シンターケーキ支持スタンドの高さ（Ｈ）が（原料充填層の層厚（ｈ）−１２０）［ｍｍ］以下であり、支持スタンド直上に形成される「支持シンターケーキ厚」が１２０ｍｍ以上を確保できているため、上層のシンターケーキ表面に亀裂の発生はなかった。その結果、実施例１〜９の焼結鉱のＴＩ強度及び成品歩留は良好であった。

また、実施例１から９へと原料充填層の層厚が厚くなるにしたがって、支持スタンド直上に形成される「支持シンターケーキ厚」が増加し、このシンターケーキによる荷重も増大した。しかし、原料充填層の層厚増加によるシンターケーキの強度向上により、上層シンターケーキ表面の亀裂の発生はなかった。

これに対して、比較例１〜４は、シンターケーキ支持スタンドの高さ（Ｈ）が（原料充填層の層厚（ｈ）−１２０）［ｍｍ］より高く、支持スタンド直上に形成される「支持シンターケーキ厚」が１１０ｍｍで、１２０ｍｍより低いため、焼結原料充填層の層厚（ｈ）が６１０ｍｍ（比較例１）、７１０ｍｍ（比較例２）、８１０ｍｍ（比較例３）、９１０ｍｍ（比較例４）のいずれの場合も亀裂が発生した。

１ 原料充填層
１ａ シンターケーキ
３ 焼結パレット台車
３Ａ 上流端
３Ｂ 下流端
４ シンターケーキ支持スタンド
４ａ 頂部面
Ｌ_０ 焼結パレット台車の長さ
Ｗ_０ 焼結パレット台車の幅
Ｈ シンターケーキ支持スタンドの高さ
Ｌ_Ｓ シンターケーキ支持スタンドの長さ
Ｗ_Ｓ シンターケーキ支持スタンドの幅
ｄ_１ 隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離
ｄ_２ 隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離
Ｌ_０ 焼結パレット台車の進行方向の長さ
ｈ 原料充填層の層厚

Claims (3)

1. ６００ｍｍより厚い原料充填層厚の条件で焼結鉱を製造するために用いられる焼結パレット台車であって、該焼結パレット台車上に、側面がパレット台車の進行方向に略平行なるように立設されかつ高さ（Ｈ）がＨ＝ｈ−１２０［ｍｍ］（ｈは原料充填層の層厚）以下のシンターケーキ支持スタンドをパレット台車の幅方向に複数備え、
   前記シンターケーキ支持スタンドは、その頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が３０［ｍｍ］≦Ｗ_Ｓ≦６０［ｍｍ］であり、前記シンターケーキ支持スタンドの個数は、パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離が１２５０ｍｍを越えないように選択されている、ことを特徴とする焼結パレット台車。
2. 請求項１に記載の焼結パレット台車を備えたことを特徴とする焼結機。
3. 焼結パレット台車上に、その進行方向に平行に立設されかつ高さ（Ｈ）がＨ＝ｈ−１２０［ｍｍ］（ｈは原料充填層の層厚）以下であり、かつ頂部面の幅（Ｗ_Ｓ）が３０［ｍｍ］≦Ｗ_Ｓ≦６０［ｍｍ］であるシンターケーキ支持スタンドを、パレット台車の幅方向に隣接するシンターケーキ支持スタンド間距離及び隣接するシンターケーキ支持スタンドと焼結パレット台車の側壁との間の距離が１２５０ｍｍを越えないようにパレット台車の幅方向に複数備えてシンターケーキを支持しながら、６００ｍｍより厚い原料充填層厚の条件で焼結鉱を製造する焼結鉱の製造方法。

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