JP4929228B2 - 相変化メモリー素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
14 下部電極層
16 発熱性電極層
18 第1の絶縁層
20 アクティブポア
22 相変化材料層
24 第2の絶縁層
26 ビアホール
28 上部電極層
30 相変化メモリー素子のスタック
Claims (22)
- ゲルマニウム(Ge)−アンチモン(Sb)−テルル(Te)系Ge2Sb2+xTe5(x>0)で構成された相変化材料層を含み、
前記相変化材料層を構成するGe2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して12〜32原子%である
ことを特徴とする相変化メモリー素子。 - 前記相変化材料層を構成するGe2Sb2+xTe5は、結晶状態の構造がhcp単一相で構成されることを特徴とする請求項1に記載の相変化メモリー素子。
- 前記相変化材料層を構成するGe2Sb2+xTe5の結晶状態の構造がhcp単一相で構成される場合、前記相変化材料層を構成するGe2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して22〜32原子%であることを特徴とする請求項2に記載の相変化メモリー素子。
- 前記相変化材料層を構成するGe2Sb2+xTe5の非晶質状態の抵抗値が、前記Ge2Sb2+xTe5の結晶化温度より30℃以下の温度条件で、所定時間の間、一定な値で維持されながら前記Ge2Sb2+xTe5が他の層に拡散されないように、前記Ge2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して12〜27原子%であることを特徴とする請求項1に記載の相変化メモリー素子。
- 前記相変化材料層を構成するGe2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して22〜27原子%であることを特徴とする請求項1に記載の相変化メモリー素子。
- 基板上部に形成されて電流を供給するための下部電極層と、
前記下部電極層の上部の全面または一部の面に形成され、前記下部電極層から供給された電流によって熱を発生させる発熱性電極層と、
前記発熱性電極層の一部を覆いながら、前記発熱性電極層の一面の一部を露出させるポア(Pore)が形成された第1の絶縁層と、
前記相変化材料層の一部を覆いながら、前記相変化材料層の一面の一部を露出させるビアホールが形成された第2の絶縁層と、
前記ビアホールを埋め立てる形態で形成された上部電極層と
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の相変化メモリー素子。 - 前記相変化材料層は、前記ポアにより露出された前記発熱性電極層と接触しながら前記ポアを埋め立てる形態で形成されたことを特徴とする請求項6に記載の相変化メモリー素子。
- 前記上部電極層と前記相変化材料層との間に拡散防止層が形成されたことを特徴とする請求項6に記載の相変化メモリー素子。
- ダイオード、バイポーラトランジスタ、MOS型トランジスタの中でいずれの一つの駆動素子により駆動されることを特徴とする請求項1に記載の相変化メモリー素子。
- 前記MOS型トランジスタは、FINFET構造、3次元形態のゲート電極により半導体活性層の側壁までチャンネルで使われる構造、ゲート電極が複数で設置される構造の中でいずれの一つの構造を有することを特徴とする請求項9に記載の相変化メモリー素子。
- ゲルマニウム(Ge)−アンチモン(Sb)−テルル(Te)系 Ge2Sb2+xTe5(x>0)を利用して相変化材料層を形成するステップを含み、
前記Ge2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して12〜32原子%である
ことを特徴とする相変化メモリー素子の製造方法。 - 前記Ge2Sb2+xTe5は、結晶状態の構造がhcp単一相で構成されることを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
- 前記Ge2Sb2+xTe5の結晶状態の構造がhcp単一相で構成される場合、前記Ge2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して22〜32原子%であることを特徴とする請求項12に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
- 前記Ge2Sb2+xTe5の非晶質状態の抵抗値が、前記Ge2Sb2+xTe5の結晶化温度より30℃以下の温度で、所定時間の間、一定な値で維持されながら前記Ge2Sb2+xTe5が他の層に拡散しないように、前記Ge2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して12〜27原子%であることを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
- 前記Ge2Sb2+xTe5は、Ge2Sb 2 Te5 に過量添加されるアンチモンの量がGe 2 Sb 2+x Te 5 の全体量に対して22〜27原子%であることを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
- 前記相変化材料層を形成するステップにおいて、
Ge2Sb2Te5ターゲットとSbターゲットに印加されるスパッタリングパワーを各々調節して前記Ge2Sb2+xTe5の組成を制御するステップを含むことを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。 - 前記相変化材料層を形成するステップにおいて、
Ge2Sb2+xTe5の単一ターゲットに印加されるスパッタリングパワーを調節して前記Ge2Sb2+xTe5の組成を制御するステップを含むことを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。 - 前記相変化材料層を形成するステップの以前に、
基板上部に下部電極層を形成するステップと、
前記下部電極層上部の全面または一部の面に発熱性電極層を形成するステップと、
前記発熱性電極層の一部を覆う形態で第1の絶縁層を形成するステップと、
前記発熱性電極層の一面の一部が露出するように前記第1の絶縁層の一部をエッチングして前記第1の絶縁層上にポアを形成するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。 - 前記第1の絶縁層上にポアが形成された後、前記ポアにより露出された前記発熱性電極層と接触しながら前記ポアを埋め立てる形態で前記相変化材料層を形成することを特徴とする請求項18に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
- 前記相変化材料層を形成するステップの以後に、
前記相変化材料層の上部に第2の絶縁層を形成するステップと、
前記相変化材料層の一面の一部が露出するように前記第2の絶縁層の一部をエッチングして前記第2の絶縁層上にビアホールを形成するステップと、
前記ビアホールにより露出された前記相変化材料層と接触しながら前記ビアホールを埋め立てる形態で上部電極層を形成するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の相変化メモリー素子の製造方法。 - ECRプラズマを利用した化学的気相蒸着法により前記第2の絶縁層を常温で形成するステップを含むことを特徴とする請求項20に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
- 前記上部電極層と前記相変化材料層との間に拡散防止層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の相変化メモリー素子の製造方法。
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