JP4926151B2 - 除害装置 - Google Patents
除害装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4926151B2 JP4926151B2 JP2008272076A JP2008272076A JP4926151B2 JP 4926151 B2 JP4926151 B2 JP 4926151B2 JP 2008272076 A JP2008272076 A JP 2008272076A JP 2008272076 A JP2008272076 A JP 2008272076A JP 4926151 B2 JP4926151 B2 JP 4926151B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- abatement
- drain
- exhaust gas
- drain tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 120
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 58
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 29
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 26
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 24
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 claims description 16
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 12
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 9
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 50
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 238000011038 discontinuous diafiltration by volume reduction Methods 0.000 description 7
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000881 depressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Chimneys And Flues (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、半導体製造工程などで排出される排ガスや微粒子ダストを処理水で捕集する除害装置に関する。
半導体製造工程のＣＶＤ装置では、Ｓｉ膜を生成するための真空チャンバ内でＳｉＨ４等のプロセスガスを使用し、ＣｌＦ３等のクリーニングガスも使用する。これらのガスは真空チャンバに接続された真空ポンプによって外部に排気されるため、真空ポンプの排気側には、例えば特許文献１の図３に開示された除害装置が接続される。
図４は、従来の除害装置の説明図である。同図の除害装置Ｍ１では、その上流側に燃焼装置Ｍ２を備えていて、真空ポンプＰから排気された上記ガスを燃焼装置Ｍ２の燃焼炉７で燃焼分解している。そして、燃焼分解によって生じた排ガスは燃焼装置Ｍ２の冷却部８で冷却され、冷却済みの排ガスＧや燃焼分解によって生じた微粒子ダストＤが、燃焼装置Ｍ２の排気口Ｍ２ＯＵＴから配管４を通じて、除害処理室１に導入される。
除害処理室１では、シャワーノズル２０から水等の処理水Ｗ１を散布し、散布された処理水Ｗ１で排ガスＧや微粒子ダストＤを捕集するようにしている。
除害処理室１において排ガスＧや微粒子ダストＤを捕集した処理水Ｗ１は、除害処理室１の底部から配管４に流入し、その配管４から下方に分岐したドレイン管５の内壁を下ってドレインタンク３に流入する。先に説明した燃焼装置Ｍ２の冷却部８では排ガスの冷却に冷却水Ｗ２を使用しており、その使用済み冷却水Ｗ２も、燃焼装置Ｍ２の排気口Ｍ２ＯＵＴから配管４内に流入し、最終的にドレイン管５の内壁を下ってドレインタンク３に流入する。
また、図４の従来の除害装置Ｍ１では、ドレインタンク３の流入口、すなわち配管４とドレイン管５との境界線Ｌ付近に異常水位検出センサ３３を設けて、ドレインタンク３内の水位を監視している。これは、ドレインタンク３内の水位がその流入口（配管４とドレイン管５との境界線Ｌ付近）まで上昇するような異常水位になると、配管４内の圧力が高まって、除害装置Ｍ１より上流のＣＶＤ装置Ｍ３等に影響を与えるおそれがあるためである。従って、通常は、異常水位検出センサ３３から異常水位検出信号が出力されたら、図示しない安全装置が働いて、ドレインタンク３より上流の機器、例えば上述のＣＶＤ装置Ｍ３等は強制的に停止するようにしている。
しかしながら、図４に示されている従来の除害装置Ｍ１によると、ドレインタンク３の流入口（上記境界線Ｌ付近）に冷却水や処理水の水流が集中し、集中した水流がドレイン管５の内壁を下ってドレインタンク３に流入する構造になっているため、以下の問題点が生じる。
ドレイン管５の内壁を下る水流の厚さ分だけ、ドレイン管５の有効内径は細くなるので、ドレインタンク３内のエアーがドレイン管５を通じて配管４側へ抜け難くなり、ドレインタンク３内の圧力が高まって、ドレインタンク３の流入口（上記境界線Ｌ付近）で水流が滞る。
そのため、実際にはドレインタンク３の水位がその流入口（上記境界線Ｌ付近）まで上昇していない状況でも、上述の異常水位検出センサ３３が反応してしまい、異常水位検出センサ３３から異常水位検出信号が出力される等、異常水位検出センサ３３の誤動作が生じる。また、この誤動作によって出力される異常水位検出信号に基づいて、図示しない安全装置が働いてしまい、ドレインタンク３より上流の機器（例えば上述のＣＶＤ装置Ｍ３等）が強制的に停止させられる等の問題もある。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、その目的とするところは、処理水等をスムーズにドレインタンクへ流れ込むようにすることで、ドレインタンク流入口での水流の停滞による異常水位検出センサの誤動作を防止するのに好適な除害装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、排ガスや微粒子ダストを処理水で捕集する除害装置であって、上記除害装置は、外部から隔離された除害処理室と、上記除害処理室に処理水を散布する処理水散布手段と、上記除害処理室の下方に設けたドレインタンクと、上記除害処理室の底部からその室内に排ガスを導入する配管と、上記配管から下向きに分岐して上記ドレインタンク内の上部空間に連通するドレイン管と、上記ドレイン管の内側に挿入された連通管と、を備え、上記連通管の下端部には、上記ドレインタンクの上部空間に開口した下端側開口部を設け、上記連通管の上端部には、上記ドレイン管と配管との境界線より高い位置に開口した上端側開口部を設けたことを特徴とする。
本発明において、上記除害装置は、さらに、上記ドレインタンク内の異常水位を監視する手段として、ドレイン管と配管との境界線付近に設けられるとともに、上記ドレインタンク内の水位が上記ドレイン管と配管の境界線まで上昇した場合に、それを異常水位として検出する異常水位検出センサを備えることができる。
本発明において、上記連通管の上端側開口部は、上記配管内に位置し、かつ、その配管内の排ガス流れ方向下流に向けて横向きに開口し、上記連通管の上端は塞がれている構成を採用することができる。
本発明において、上記連通管の上端側開口部は、上記除害処理室内に位置し、かつ、その除害処理室の内側壁に向けて横向きに開口し、上記連通管の上端は塞がれている構成を採用してもよい。
本発明において、上記排ガスと微粒子ダストは、所定ガスの燃焼分解によって生成される排ガスと微粒子ダストであってもよい。
本発明において、上記配管には、上記排ガスと微粒子ダストのほか、上記配管の上流で上記排ガスを冷却した冷却水が流れ込むようになっている構成を採用してもよい。
本発明にあっては、上記配管内でも上記処理水の散布が行われるように構成することもできる。
本発明にあっては、ドレイン管の内側に連通管を挿入し、その連通管の下端部にはドレインタンクの上部空間に開口した下端側開口部を設け、連通管の上端部にはドレイン管と配管との境界線（ドレインタンクの流入口）より高い位置に開口した上端側開口部を設けたため、以下の作用効果が奏し得られる。
ドレイン管を流れる水流の流量が多く、ドレイン管の有効内径が水流の厚さ分だけ細くなっても、ドレインタンク内のエアーが連通管を通じて配管内に確実に抜け、配管内の圧力とドレインタンク内の圧力とが常時等圧に調整されるから、ドレインタンクの流入口（ドレイン管と配管との境界線付近）で水流が滞る現象を効果的に防止することができ、除害処理室で散布された処理水等をスムーズにドレインタンクへ流れ込むようにすることが可能となる。
以上説明したように、処理水等の水流は、ドレインタンクの流入口で滞ることなく、スムーズにドレインタンクへ流れ込むから、ドレイン管と配管との境界線付近（ドレインタンクの流入口）に異常水位検出センサが備えられている場合に、そのセンサの誤動作を防止でき、当該センサの誤動作によるドレインタンク上流の機器の強制停止を回避することもできる。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付した図面を参照しながら詳細に説明する。
＜除害装置の概要＞
図１は、本発明の一実施形態である除害装置の説明図、図２は、図１の除害装置の一部拡大図である。図１の除害装置Ｍ１は、排ガスＧや微粒子ダストＤを水等の処理水Ｗ１で捕集する装置であって、外部から隔離された除害処理室１と、除害処理室１に処理水を散布する処理水散布手段２と、除害処理室１の下方に設けたドレインタンク３と、除害処理室１の底部からその室内に排ガスＧや微粒子ダストＤを導入する配管４と、配管４から下向きに分岐して上記ドレインタンク３内の上部空間に連通するドレイン管５と、ドレイン管５の内側に挿入された連通管６とを備える。
図１は、本発明の一実施形態である除害装置の説明図、図２は、図１の除害装置の一部拡大図である。図１の除害装置Ｍ１は、排ガスＧや微粒子ダストＤを水等の処理水Ｗ１で捕集する装置であって、外部から隔離された除害処理室１と、除害処理室１に処理水を散布する処理水散布手段２と、除害処理室１の下方に設けたドレインタンク３と、除害処理室１の底部からその室内に排ガスＧや微粒子ダストＤを導入する配管４と、配管４から下向きに分岐して上記ドレインタンク３内の上部空間に連通するドレイン管５と、ドレイン管５の内側に挿入された連通管６とを備える。
＜除害処理室の詳細＞
除害処理室１は、円筒状の筒体１０とその上下端を塞ぐ蓋部１１とで囲まれた円筒内空間からなるが、このような円筒内空間以外の形態でも、外部から隔離されている空間であれば、除害処理室１として採用することができる。この除害処理室１内には、その底部側から上記配管４を通じて、除害処理対象の排ガスＧや微粒子ダストＤが導入される。
除害処理室１は、円筒状の筒体１０とその上下端を塞ぐ蓋部１１とで囲まれた円筒内空間からなるが、このような円筒内空間以外の形態でも、外部から隔離されている空間であれば、除害処理室１として採用することができる。この除害処理室１内には、その底部側から上記配管４を通じて、除害処理対象の排ガスＧや微粒子ダストＤが導入される。
筒体１０上端の蓋部１１には排出ポート１２が設けられており、除害処理室１で浄化されたガスは、排出ポート１２から図示しない工場内配管を経て大気へ放出される。また本除害装置Ｍ１を設置した工場内に排ガスを集中的に管理し処理する周知の排ガス処理施設がある場合には、上記除害処理室１で浄化されたガスは、排出ポート１２から図示しない工場内配管で排ガス処理施設に送られ、排ガス処理施設で更に浄化されてから大気へ放出されるようにしてもよい。
＜処理水散布手段の詳細＞
処理水散布手段２は、除害処理室１内の上部空間に設けたシャワーノズル２０から下方に向けて水等の処理水Ｗ１（スクラバ水）を霧状に散布する構造になっている。シャワーノズル２０への処理水の給水は、図示しない給水タンクに貯留されている処理水をポンプでシャワーノズル２０へ圧送するようにしてもよい。シャワーノズル２０から散布された霧状の処理水は、自重で落下しながら除害処理室１内の排ガスＧや微粒子ダストＤと接触することで、それらを捕集する。捕集後の処理水は除害処理室１の底部から上記配管４に流入し、上記ドレイン管５の内壁を下って上記ドレインタンク３に流れ込む。シャワーノズル２０は配管４内にも設けられ、配管４内でも処理水Ｗ１の散布が行われる。
処理水散布手段２は、除害処理室１内の上部空間に設けたシャワーノズル２０から下方に向けて水等の処理水Ｗ１（スクラバ水）を霧状に散布する構造になっている。シャワーノズル２０への処理水の給水は、図示しない給水タンクに貯留されている処理水をポンプでシャワーノズル２０へ圧送するようにしてもよい。シャワーノズル２０から散布された霧状の処理水は、自重で落下しながら除害処理室１内の排ガスＧや微粒子ダストＤと接触することで、それらを捕集する。捕集後の処理水は除害処理室１の底部から上記配管４に流入し、上記ドレイン管５の内壁を下って上記ドレインタンク３に流れ込む。シャワーノズル２０は配管４内にも設けられ、配管４内でも処理水Ｗ１の散布が行われる。
＜ドレインタンクの詳細＞
ドレインタンク３内の処理水は、タンク排水口３０から排出後、図示しないポンプでシャワーノズル２０の給水タンクに圧送され、シャワーノズル２０から散布される処理水Ｗ１として再利用される。このように処理水を再利用する処理水循環系では、循環する処理水中の排ガス濃度やダスト濃度を図示しないセンサで監視していて、それらの濃度が所定濃度になるまで処理水は繰り返し利用される。
ドレインタンク３内の処理水は、タンク排水口３０から排出後、図示しないポンプでシャワーノズル２０の給水タンクに圧送され、シャワーノズル２０から散布される処理水Ｗ１として再利用される。このように処理水を再利用する処理水循環系では、循環する処理水中の排ガス濃度やダスト濃度を図示しないセンサで監視していて、それらの濃度が所定濃度になるまで処理水は繰り返し利用される。
ドレインタンク３には最高水位と最低水位を検出するセンサ３１、３２が設けられていて、これらのセンサ３１、３２によってドレインタンク３内の水位は常時監視されるようになっている。本除害装置Ｍ１では、かかるセンサ３１が最高水位を検出したら、該センサ３１からの最高水位検出信号に基づいて処理水の散布量を減らす等、ドレインタンク３の水位が最高水位を超えないようにするための水位制御がなされる。また、上記センサ３２が最低水位を検出したら、該センサ３２からの最低水位検出信号に基づいて処理水の循環系（例えば前述の図示しない給水タンク）に処理水を所定量追加する等、処理水の補充がなされる。
＜ドレインタンク異常水位の検出について＞
ドレイン管５と配管４の境界線Ｌ付近Ｓ（ドレインタンク３の流入口）には異常水位検出センサ３３が設けられている。異常水位検出センサ３３は、ドレインタンク３内の水位がドレイン管５と配管４の境界線Ｌ付近Ｓまで上昇した場合に、それを異常水位として検出するようになっている。また、この異常水位検出センサ３３からの検出信号（異常水位検出信号）は図示しない安全装置に入力される。安全装置は、異常水位検出信号の入力があったら、ドレインタンク３より上流の機器、例えば後述のＣＶＤ装置Ｍ３を強制的停止する。
ドレイン管５と配管４の境界線Ｌ付近Ｓ（ドレインタンク３の流入口）には異常水位検出センサ３３が設けられている。異常水位検出センサ３３は、ドレインタンク３内の水位がドレイン管５と配管４の境界線Ｌ付近Ｓまで上昇した場合に、それを異常水位として検出するようになっている。また、この異常水位検出センサ３３からの検出信号（異常水位検出信号）は図示しない安全装置に入力される。安全装置は、異常水位検出信号の入力があったら、ドレインタンク３より上流の機器、例えば後述のＣＶＤ装置Ｍ３を強制的停止する。
＜配管の詳細＞
配管４の下流端４Ａは除害処理室１の底部に開口し、配管４の上流端４Ｂは燃焼装置Ｍ２の排気口Ｍ２ＯＵＴに接続されており、その排気口Ｍ２ＯＵＴから排出される排ガスＧや微粒子ダストＤが本配管４を通って除害処理室１の底部からその室内に導入される。
配管４の下流端４Ａは除害処理室１の底部に開口し、配管４の上流端４Ｂは燃焼装置Ｍ２の排気口Ｍ２ＯＵＴに接続されており、その排気口Ｍ２ＯＵＴから排出される排ガスＧや微粒子ダストＤが本配管４を通って除害処理室１の底部からその室内に導入される。
＜配管より上流の機器構成＞
上記燃焼装置Ｍ２は燃焼炉７と冷却部８を備えて構成される。燃焼炉７は、半導体製造工程のＣＶＤ装置Ｍ３から真空ポンプＰを介して排出される可燃性ガス（ＳｉＨ４等）やクリーニングガス（ＮＨ３等）等の処理対象ガスを、本燃焼装置Ｍ２の導入口Ｍ２ＩＮから導入して高温で燃焼分解する。なお、この種の燃焼装置Ｍ２、真空ポンプＰ、ＣＶＤ装置Ｍ３の構造は周知であるため、図１ではそれらの詳細構成を省略してある。
上記燃焼装置Ｍ２は燃焼炉７と冷却部８を備えて構成される。燃焼炉７は、半導体製造工程のＣＶＤ装置Ｍ３から真空ポンプＰを介して排出される可燃性ガス（ＳｉＨ４等）やクリーニングガス（ＮＨ３等）等の処理対象ガスを、本燃焼装置Ｍ２の導入口Ｍ２ＩＮから導入して高温で燃焼分解する。なお、この種の燃焼装置Ｍ２、真空ポンプＰ、ＣＶＤ装置Ｍ３の構造は周知であるため、図１ではそれらの詳細構成を省略してある。
例えば、ＣＶＤ装置Ｍ３のプロセスガスとして使用されるＳｉＨ４を燃焼分解した場合には、微粒子ダストとしてＳｉＯ２粉体が発生する。クリーニングガスとして使用されるＣｌＦ３を燃焼分解したら、高温の排ガスとして塩素系ガスなどが発生する。
冷却部８では、上記のような燃焼分解によって生じた高温の排ガスＧを冷却水Ｗ２で冷却して燃焼装置Ｍ２の排気口Ｍ２ＯＵＴから配管４へ排出する。冷却に使用した冷却水Ｗ２も排ガスＧと一緒に同じ排気口Ｍ２ＯＵＴから配管４へ排出される。
＜連通管の詳細＞
［連通管の機能］
連通管６の下端部には、図２のようにドレインタンク３内の上部空間３４に開口した下端側開口部６０が設けられ、連通管６の上端部には、ドレイン管５と配管４との境界線Ｌ（ドレインタンク３の流入口）より高い位置に開口した上端側開口部６１が設けられており、ドレインタンク３内と配管４内はこの連通管６を通じて常に連通している。
［連通管の機能］
連通管６の下端部には、図２のようにドレインタンク３内の上部空間３４に開口した下端側開口部６０が設けられ、連通管６の上端部には、ドレイン管５と配管４との境界線Ｌ（ドレインタンク３の流入口）より高い位置に開口した上端側開口部６１が設けられており、ドレインタンク３内と配管４内はこの連通管６を通じて常に連通している。
従って、ドレインタンク３内の圧力が上昇した場合は、ドレインタンク３内と配管４内の圧力差によって自動的に、ドレインタンク３内の上部空間３４から連通管６を通じて配管４内へエアーが抜け、ドレインタンク３内の圧力と配管４内の圧力は常時、等圧になるように調整される。
つまり、本連通管６は、ドレインタンク３内のエアーを配管４内へ抜いて、ドレインタンク３内の圧力と配管４内の圧力を等圧にする機能を有している。
［連通管の上端の構成］
先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能を確実に発揮できるようにするために、上記連通管６の上端は図２のように完全に蓋部材６２で塞がれた構造になっているのが望ましい。もし、連通管６の上端が開口していたら、除害処理室１で散布された処理水が連通管６の中に入って詰まりやすく、先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能が損なわれる可能性が高くなるためである。
先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能を確実に発揮できるようにするために、上記連通管６の上端は図２のように完全に蓋部材６２で塞がれた構造になっているのが望ましい。もし、連通管６の上端が開口していたら、除害処理室１で散布された処理水が連通管６の中に入って詰まりやすく、先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能が損なわれる可能性が高くなるためである。
［連通管の上端側開口部の開口方向］
連通管６の上端側開口部６１は、図２のように配管４内に位置し、かつ、配管４内の排ガス流れ方向下流に向けて横向きに開口していることが望ましい。これも、連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能を確実に発揮できるようにするためである。もし、その連通管６の上端側開口部６１が逆方向、すなわち配管４内の排ガス流れ方向上流に向けて横向きに開口していたら、配管４を流れる冷却水Ｗ２や配管４内で散布された処理水Ｗ１が連通管６の中に入って詰まりやすくなり、先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能が損なわれる可能性が高くなる。
連通管６の上端側開口部６１は、図２のように配管４内に位置し、かつ、配管４内の排ガス流れ方向下流に向けて横向きに開口していることが望ましい。これも、連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能を確実に発揮できるようにするためである。もし、その連通管６の上端側開口部６１が逆方向、すなわち配管４内の排ガス流れ方向上流に向けて横向きに開口していたら、配管４を流れる冷却水Ｗ２や配管４内で散布された処理水Ｗ１が連通管６の中に入って詰まりやすくなり、先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能が損なわれる可能性が高くなる。
［連通管の上端側開口部の開口場所と開口高さ］
先に説明した除害処理室１は上記境界線Ｌより高い場所に位置するので、連通管６の上端側開口部６１は、例えば図３のように連通管６の上端を除害処理室１まで延長することで、除害処理室１に開口するようにしてもよい。この場合、その上端側開口部６１の開口方向は、図３のように除害処理室１の内側壁に向けて開口するのが望ましい。また、この除害処理室１まで延長された図３の連通管６の上端も図１の連通管６と同じく蓋部材６２で完全に塞ぐようにするのが好ましい。
先に説明した除害処理室１は上記境界線Ｌより高い場所に位置するので、連通管６の上端側開口部６１は、例えば図３のように連通管６の上端を除害処理室１まで延長することで、除害処理室１に開口するようにしてもよい。この場合、その上端側開口部６１の開口方向は、図３のように除害処理室１の内側壁に向けて開口するのが望ましい。また、この除害処理室１まで延長された図３の連通管６の上端も図１の連通管６と同じく蓋部材６２で完全に塞ぐようにするのが好ましい。
ところで、図１、図２、図３の連通管６の上端側開口部６１が上記境界線Ｌより低い位置にあるとしたならば、そのような上端側開口部６１は水流によって容易に塞がれてしまい、先に説明した連通管６のエアー抜き機能ないしは圧力調整機能が損なわれてしまうため、連通管６の上端側開口部は、少なくとも上記境界線Ｌより高い位置に開口していることを要する。
［連通管の内径］
連通管６の内径は、ドレインタンク３内の水位が上昇することでドレインタンク内上部空間３４の容積が減少する速度との関係から決定される。ドレインタンク内上部空間３４の容積減少速度が比較的速い場合と遅い場合について考えてみると、容積減少速度が速い場合は大内径の連通管を用いるのが好ましく、容積減少速度が遅い場合は小内径の連通管を用いてもよい。容積減少速度が遅い場合には、小内径の連通管でも、ドレインタンク内上部空間３４の容積減少変化に遅れることなく、連通管６を通じてドレインタンク内上部空間３４から配管内へエアーを抜くことができる。しかし、容積減少速度が速い場合には、小内径の連通管ではドレインタンク内上部空間３４の容積減少変化に対して上記のような連通管６を介するエアー抜き動作が遅れることで、ドレインタンク３内の圧力が高まって、ドレインタンク３の流入口（ドレイン管５と配管４との境界線Ｌ付近Ｓ）で水流の滞りが発生し易くなってしまう。
連通管６の内径は、ドレインタンク３内の水位が上昇することでドレインタンク内上部空間３４の容積が減少する速度との関係から決定される。ドレインタンク内上部空間３４の容積減少速度が比較的速い場合と遅い場合について考えてみると、容積減少速度が速い場合は大内径の連通管を用いるのが好ましく、容積減少速度が遅い場合は小内径の連通管を用いてもよい。容積減少速度が遅い場合には、小内径の連通管でも、ドレインタンク内上部空間３４の容積減少変化に遅れることなく、連通管６を通じてドレインタンク内上部空間３４から配管内へエアーを抜くことができる。しかし、容積減少速度が速い場合には、小内径の連通管ではドレインタンク内上部空間３４の容積減少変化に対して上記のような連通管６を介するエアー抜き動作が遅れることで、ドレインタンク３内の圧力が高まって、ドレインタンク３の流入口（ドレイン管５と配管４との境界線Ｌ付近Ｓ）で水流の滞りが発生し易くなってしまう。
次に、上記の如く構成された除害装置Ｍ１の全体動作について図１を基に説明する。
図示しない運転開始ボタンの押下によって、真空ポンプＰによる真空引きが始まり、燃焼装置Ｍ２が運転を開始する。これらの開始動作に連動して図１の除害装置Ｍ１は運転を開始し、除害処理室１内や配管４内での処理水の散布、並びにセンサ３１、３２、３３によるドレインタンク３の最高水位、最低水位、異常水位の監視が始まる。
そして、燃焼装置Ｍ２の運転開始によってその排気口Ｍ２ＯＵＴから本除害装置Ｍ１の配管４内に排ガスＧや微粒子ダストＤが排出され、排出された排ガスＧと微粒子ダストＤは、配管４内に継続的に散布されている処理水Ｗ１に接触して捕集される。
配管４内で捕集されなかった排ガスＧや微粒子ダストＤは、配管４内を通り抜けて最終的に除害処理室１に流入し、除害処理室１の底部から上部の排出ポート１２に向かって上昇する。この上昇の過程で、排ガスＧと微粒子ダストＤは、除害処理室１内で散布されている処理水Ｗ１に接触して捕集される。従って、排出ポート１２から流出するガスは排ガスＧや微粒子ダストＤを殆ど含まないクリーンなガスになる。
上記配管４内で排ガスＧや微粒子ダストＤを捕集した処理水Ｗ１は、ドレイン管５の内壁を下ってドレインタンク３に流入する。除害処理室１内で排ガスＧや微粒子ダストＤを捕集した処理水Ｗ１も、ドレイン管５の内壁を下ってドレインタンク３に流入する。さらに燃焼装置Ｍ２の冷却部８で使用した冷却水Ｗ２も、配管４を通ってドレイン管５の方向に流れ、ドレイン管５の内壁を下ってドレインタンク３に流入する。
そのため、ドレイン管５を流れる水流の流量は多く、ドレイン管５の有効内径は水流の厚さ分だけ細くなる。水流によってドレイン管５の有効内径が細くなりすぎると、ドレインタンク３内のエアーがドレイン管５を通じて配管４側へ抜け難くなり、ドレインタンク３内の圧力が高まって、ドレインタンク３の流入口（ドレイン管５と配管４との境界線Ｌ付近Ｓ）で水流が滞り易くなる。
しかしながら、本除害装置Ｍ１によると、上記の如く水流によってドレイン管５の有効内径が細くなりすぎても、ドレインタンク３内のエアーが連通管６を通じて配管４内に確実に抜け、配管４内の圧力とドレインタンク３内の圧力とが常時等圧に調整されることから、ドレインタンク３の流入口（ドレイン管５と配管４との境界線Ｌ付近Ｓ）で水流が滞ることはない。
また、本除害装置によると、先に説明したように処理水Ｗ１等の水流はドレインタンク３の流入口で滞ることなく、スムーズにドレインタンク３へ流れ込むことから、ドレインタンク３の流入口に設けられている異常水位検出センサ３３の誤動作を防止することができ、異常水位検出センサ３３の誤動作によるドレインタンク３上流の機器（例えばＣＶＤ装置Ｍ３）の強制停止を回避することもできる。
１ 除害処理室
２ 処理水散布手段
３ ドレインタンク
３０ タンク排出口
３１、３２ センサ
３３ 異常水位検出センサ
３４ ドレインタンク内の上部空間
４ 配管
５ ドレイン管
６ 連通管
６０ 連通管の上端側開口部
６１ 連通管の下端側開口部
６２ 蓋部材
７ 燃焼炉
８ 冷却部
１０ 筒体
１１ 蓋部
１２ 排出ポート
２０ シャワーノズル
Ｄ ダスト
Ｇ 排ガス
Ｍ１ 除害装置
Ｍ２ 燃焼装置
Ｍ２ＩＮ 燃焼装置の導入口
Ｍ２ＯＵＴ 燃焼装置の排気口
Ｍ３ ＣＶＤ装置
Ｐ 真空ポンプ
Ｗ１ 処理水
Ｗ２ 冷却水
２ 処理水散布手段
３ ドレインタンク
３０ タンク排出口
３１、３２ センサ
３３ 異常水位検出センサ
３４ ドレインタンク内の上部空間
４ 配管
５ ドレイン管
６ 連通管
６０ 連通管の上端側開口部
６１ 連通管の下端側開口部
６２ 蓋部材
７ 燃焼炉
８ 冷却部
１０ 筒体
１１ 蓋部
１２ 排出ポート
２０ シャワーノズル
Ｄ ダスト
Ｇ 排ガス
Ｍ１ 除害装置
Ｍ２ 燃焼装置
Ｍ２ＩＮ 燃焼装置の導入口
Ｍ２ＯＵＴ 燃焼装置の排気口
Ｍ３ ＣＶＤ装置
Ｐ 真空ポンプ
Ｗ１ 処理水
Ｗ２ 冷却水
Claims (7)
- 排ガスや微粒子ダストを処理水で捕集する除害装置であって、
上記除害装置は、
外部から隔離された除害処理室と、
上記除害処理室に処理水を散布する処理水散布手段と、
上記除害処理室の下方に設けたドレインタンクと、
上記除害処理室の底部からその室内に排ガスや微粒子ダストを導入する配管と、
上記配管から下向きに分岐して上記ドレインタンク内の上部空間に連通するドレイン管と、
上記ドレイン管の内側に挿入された連通管と、を備え、
上記連通管の下端部には、上記ドレインタンクの上部空間に開口した下端側開口部を設け、
上記連通管の上端部には、上記ドレイン管と配管との境界線より高い位置に開口した上端側開口部を設けたこと
を特徴とする除害装置。 - 上記除害装置は、さらに、上記ドレインタンク内の異常水位を監視する手段として、ドレイン管と配管との境界線付近に設けられるとともに、上記ドレインタンク内の水位が上記ドレイン管と配管の境界線まで上昇した場合に、それを異常水位として検出する異常水位検出センサを備えていること
を特徴とする請求項１に記載の除害装置。 - 上記連通管の上端側開口部は、上記配管内に位置し、かつ、その配管内の排ガス流れ方向下流に向けて横向きに開口し、
上記連通管の上端は塞がれていること
を特徴とする請求項１または２に記載の除害装置。 - 上記連通管の上端側開口部は、上記除害処理室内に位置し、かつ、その除害処理室の内側壁に向けて横向きに開口し、
上記連通管の上端は塞がれていること
を特徴とする請求項１または２に記載の除害装置。 - 上記排ガスと微粒子ダストは、所定ガスの燃焼分解によって生成される排ガスと微粒子ダストであること
を特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項の記載の除害装置。 - 上記配管には、上記排ガスと微粒子ダストのほか、上記配管の上流で上記排ガスを冷却した冷却水が流れ込むようになっていること
を特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の除害装置。 - 上記配管内でも上記処理水の散布が行われること
を特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項の記載の除害装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008272076A JP4926151B2 (ja) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | 除害装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008272076A JP4926151B2 (ja) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | 除害装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010099571A JP2010099571A (ja) | 2010-05-06 |
| JP4926151B2 true JP4926151B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=42290692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008272076A Active JP4926151B2 (ja) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | 除害装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4926151B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101424711B1 (ko) | 2012-09-27 | 2014-07-31 | 현대제철 주식회사 | 배가스 처리 장치 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998029181A1 (en) * | 1996-12-31 | 1998-07-09 | Atmi Ecosys Corporation | Effluent gas stream treatment system for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases |
| JP3625978B2 (ja) * | 1997-02-05 | 2005-03-02 | カンケンテクノ株式会社 | 半導体製造排ガス除害装置 |
| JP3866412B2 (ja) * | 1998-05-28 | 2007-01-10 | カンケンテクノ株式会社 | 半導体製造排ガスの除害方法及び除害装置 |
| JP3500573B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2004-02-23 | 八洋エンジニアリング株式会社 | アンモニアガスの除害システム |
| JP2002119846A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-04-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 有機ハロゲン化合物分解装置 |
| JP2003120918A (ja) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Seiko Epson Corp | 除害装置及び燃焼制御方法及びスクラバー処理制御方法 |
| JP2005334755A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Seiko Epson Corp | 排ガスの除害装置及びその除害方法、電子デバイスの製造システム |
| KR100647997B1 (ko) * | 2004-12-13 | 2006-11-23 | 유니셈 주식회사 | 폐가스 처리 장치 |
-
2008
- 2008-10-22 JP JP2008272076A patent/JP4926151B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010099571A (ja) | 2010-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5800792A (en) | Exhaust gas treatment unit and method | |
| US9625168B2 (en) | Exhaust system | |
| JP4211227B2 (ja) | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 | |
| SG149031A1 (en) | Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants | |
| TWI581827B (zh) | Gas handling device | |
| JP2001502604A (ja) | 半導体製造排気の酸化処理のための排気流処理システム | |
| JP4926151B2 (ja) | 除害装置 | |
| KR20090011467A (ko) | 반도체 배기 가스 처리 장치 | |
| JP4772223B2 (ja) | 排ガス除害装置及び方法 | |
| JP2010023000A (ja) | 排ガス除害装置 | |
| JP2005087958A (ja) | 排ガス導入構造および該構造を用いた排ガス処理装置 | |
| KR20230096964A (ko) | 배기 가스 처리 설비 | |
| JP5645561B2 (ja) | 空気浄化装置 | |
| TW200904511A (en) | Semiconductor exhaust gas treating device | |
| JP2004349442A (ja) | 排ガスの除害方法及び排ガスの除害装置 | |
| JP2006007124A (ja) | 排ガスの処理装置 | |
| JPH0647269A (ja) | 真空処理装置 | |
| JP4583880B2 (ja) | 排ガスの処理方法および処理装置 | |
| JPH0779949B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
| JP2022108061A (ja) | 排ガス処理設備 | |
| JPH04135647A (ja) | クリーンルーム | |
| JP2005288204A (ja) | 排ガス除害装置及びその破過検知方法 | |
| CN201216914Y (zh) | 外延炉尾气净化器 | |
| JP2006142185A (ja) | 可燃・爆発性ガス消滅装置および可燃・爆発性ガス消滅システム | |
| JP2003120918A (ja) | 除害装置及び燃焼制御方法及びスクラバー処理制御方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110801 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120118 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120126 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120207 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4926151 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |