JP4914975B2 - 高純度インジウムメタルの製造方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、前記特許文献1に記載の方法により得られるインジウムにも、微量な不純物が含まれているため、より純度の高い、特に、スズ(Sn)品位や、鉛(Pb)品位が極めて低いインジウムが求められているのが現状である。
<1> カドミウム(Cd)を0.2mg/L以上含むインジウム含有酸溶液に、アルカリを添加してpHを調整し、酸化還元電位調整剤を添加して酸化還元電位を調整した後、硫化剤を添加してインジウム以外の金属イオンを沈殿除去し、電解元液を得ることを特徴とする液処理方法である。
<2> インジウム以外の金属イオンが、カドミウム(Cd)、Sn(スズ)、Pb(鉛)Zn(亜鉛)、Fe(鉄)、Cu(銅)、Al(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、及びAs(砒素)から選ばれる少なくとも1種の金属イオンである前記<1>に記載の液処理方法である。
<3> アルカリとしてアルカリ金属塩を添加してpHを1〜3.5に調整し、酸化還元電位調整剤として酸化剤を添加して酸化還元電位を増大させた後、硫化剤を添加する前記<1>から<2>のいずれかに記載の液処理方法である。
<4> 酸化剤としてH2O2を添加して酸化還元電位を0〜+250mVに調整する前記<1>から<3>のいずれかに記載の液処理方法である。
<5> スズ(Sn)の含有量が0.1質量ppm未満であることを特徴とする電子部品材料用インジウムメタルである。
<6> (1)インジウム含有物を酸で浸出処理し、インジウムと共に酸に可溶な金属を溶解する酸浸出工程と、
(2)前記(1)の工程で得られた酸浸出液にAg/AgCl電極使用で酸化還元電位を50〜320mVに調整しながら硫化剤を添加し、銅(Cu)等のインジウム以外の金属イオンを沈殿除去するCu等除去工程と、
(3)前記(2)の工程で得られた脱銅液に硫酸と硫化剤とを添加し、インジウムを硫化物として沈殿濃縮する硫化沈殿工程と、
(4)前記(3)の工程で得られたインジウム硫化物に硫酸酸性下でSO2ガスを吹き込むことによりInを選択的に浸出するSO2浸出工程と、
(5)前記(4)の工程で得られたインジウム含有浸出液のpHを1〜3.5の範囲内に調整し、空気吹き込みによって該インジウム含有浸出液中に溶存するSO2の濃度を0.05〜0.3g/Lに調整した後、金属粉を添加し、インジウムスポンジを置換析出させる置換析出工程と、
(6)浸出液のpHが0.5〜1.5の範囲内かつAg/AgCl電極使用で酸化還元電位が−400〜−500mVの範囲内にあるように塩酸を添加して前記(5)の工程で得られたインジウムスポンジを浸出する塩酸浸出工程と、
(7)カドミウム(Cd)を0.2mg/L以上含むインジウム含有酸溶液である前記(6)の工程で得られたインジウム浸出液に、アルカリを添加してpHを調整し、酸化還元電位調整剤を添加して酸化還元電位を調整した後、硫化剤を添加し、カドミウム(Cd)等のインジウム以外の金属イオンを沈殿除去して電解元液を得るCd等除去工程と、
(8)前記(7)の工程で得られた電解元液を電解して高純度の金属インジウムを得る電解採取工程と、からなることを特徴とする高純度インジウムメタルの製造方法である。
<7> Cd等除去工程(7)が、前記<1>から<4>のいずれかに記載の液処理方法により行われる前記<6>に記載の高純度インジウムメタルの製造方法である。
<8> 前記<1>から<4>のいずれかに記載の液処理方法により調製された電解元液を用いて電解採取されたことを特徴とする高純度インジウムメタルである。
<9> 前記<6>から<7>のいずれかの方法により調製されたことを特徴とする高純インジウムメタルである。
<10> 電子部品材料として用いられる前記<8>から<9>のいずれかに記載の高純度インジウムメタルである。
<11> ITOターゲット材として用いられる前記<8>から<10>のいずれかに記載の高純度インジウムメタルである。
本発明の高純度インジウムメタルの製造方法は、インジウム含有物からインジウムを電解採取する方法において、インジウムスポンジを塩酸で浸出して得たインジウム浸出液に、アルカリを添加してpHを調整し、酸化還元電位調整剤を添加して酸化還元電位を調整した後、硫化剤を添加して不純物の金属イオンを沈殿除去する本発明の液処理方法により電解元液を調製する工程を含む。
本発明の液処理方法は、前記高純度インジウムメタルの製造方法の説明を通じて明らかにする。
本発明の高純度インジウムメタルの製造方法の工程の一例を図1に示す。
以下、本発明の高純度インジウムメタルの製造方法の一例として、前記インジウム含有物として、湿式亜鉛精錬において副生する中和石こうを用いた場合について説明する。
前記酸浸出工程(1)は、前記インジウム含有物を酸で浸出処理し、インジウムと共に酸に可溶な金属を溶解し、酸浸出液を得る工程である。
浸出処理に使用する酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられ、コスト面から硫酸が好ましい。
前記酸浸出処理により得られる前記酸浸出液の硫酸濃度としては、20〜40g/Lが好ましい。前記酸浸出液の硫酸濃度が20g/L未満であると、インジウムが沈殿することがあり、40g/Lを超えると、不純物金属イオンの浸出が過多となり、後の工程において悪影響を及ぼすことがある。
前記Cu等除去工程(2)は、前記酸浸出工程(1)で得られた酸浸出液(スラリー)に、Ag/AgCl電極使用で酸化還元電位を+50〜320mVに調整しながら硫化剤を添加し、銅、砒素等のIn以外の不純物を沈殿除去する工程である。
前記硫化剤としては、例えば、H2S、NaSHが挙げられる。
なお、前記Cu等除去工程における前記酸浸出液の硫酸濃度としては、20〜40g/Lに調整することが好ましい。
次いで、例えば、フィルタープレス等を用いて沈殿物(銅残渣)と、脱銅液とを固液分離する。この時、前記不溶性石こうが濾過助剤の働きをするため、一般には濾過性が悪い硫化物の濾過性が著しく改善される。
濾過により分離された前記銅残渣は、亜鉛製錬の本系統へ送られる。
得られた脱銅液の硫酸濃度は、20〜40g/Lであることが好ましい。
前記硫化沈殿工程(3)は、得られた前記脱銅液に対し、硫酸と硫化剤(例えば、NaSH及びNa2S等)とを同時に添加し、インジウムを硫化物として沈殿させる工程である。
なお、沈殿物中のインジウム回収率は95%以上である。
濾液(硫化后液)は排水系統へ送られる。
前記SO2浸出工程(4)は、前記(3)の工程で得られた硫化インジウムに対し、硫酸酸性下でSO2ガスを吹き込むことによりInを選択的に浸出する工程である。
硫化物の浸出方法としては、一般に、(a)硫化水素発生型、(b)硫黄生成型、(c)硫酸生成型の3通りの型があるが、硫化インジウムを浸出する場合、(a)の反応では溶解度積が小さいため、インジウムを完全に浸出することができず、(b)及び(c)の反応では酸化剤として酸素を用いる場合、例えば、反応温度、圧力をそれぞれ150℃、12kg/cm2のように高くする必要があるため、オートクレーブ等の圧力容器を反応槽としなければならないという制限がある。また、インジウムを完全に浸出することは可能であるが、酸化力が強力であるため含有している不純物も同様に完全に浸出されてしまう。そこで、酸化剤としてSO2を用いることにより前記(a)と前記(b)との反応の組み合わせを行ない、酸化力を適度にコントロールし、インジウムを選択的に浸出する。この時の温度は常温でもよく、圧力も大気圧でよいため通常の反応槽を使用することができる。
前記置換析出工程(5)は、前記(4)の工程で得られたインジウム含有浸出液のpHを1〜3.5の範囲内に調整し、空気吹き込みによって該インジウム含有浸出液中に溶存するSO2の濃度を0.05〜0.3g/Lに調整した後、金属粉を添加し、インジウムスポンジを置換析出させる工程である。
なお、前記(4)の工程において、浸出にSO2を使用しているため、前記インジウム含有浸出液中には、SO2が溶存しているが、該溶存しているSO2濃度を0.05〜0.3g/Lにコントロールすることにより、置換析出される前記インジウムスポンジの塊状化を防止することができ、粉状のインジウムスポンジを得ることができる。
前記置換后液は、前記硫化沈殿工程(3)における反応液中に添加されて繰り返し使用される。
前記塩酸浸出工程(6)は、前記(5)の工程で得られたインジウムスポンジを、浸出液のpHが0.5〜1.5の範囲内、かつAg/AgCl電極使用で酸化還元電位が−400〜−500mVの範囲内にあるように塩酸を添加して塩酸浸出する工程である。
前記浸出残分(スポンジ滓)には、カドミウム(Cd)、鉛(Pb)、ニッケル(Ni)、砒素(As)等の微量金属が濃縮され、前記インジウム浸出液から除去される。なお、該浸出残分(スポンジ滓)は、前記(4)の工程において添加され、繰り返し処理される。
本発明の液処理方法である前記Cd等除去工程(7)は、前記(6)の工程で得られたインジウム浸出液にアルカリを添加してpHを調整し、酸化還元電位調整剤を添加して酸化還元電位を調整した後、硫化剤(例えば、H2Sガス等)を添加し、カドミウム、砒素等のインジウム以外の残留金属イオンを沈殿除去して最終浄液を行い、電解元液を得る工程である。前記インジウム浸出液は、カドミウムを0.2mg/L以上含む酸溶液である。
前記インジウム以外の金属イオンとしては、例えば、カドミウム(Cd)、Sn(スズ)、Pb(鉛)Zn(亜鉛)、Fe(鉄)、Cu(銅)、Al(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、及びAs(砒素)等の金属イオンが挙げられる。
前記インジウム浸出液のpHとしては、前記アルカリを添加することにより、pHを1〜3.5とすることが好ましく、1.5〜2.5とすることがより好ましい。前記インジウム浸出液のpHが1より低いと、硫化反応の時間を長く要することとなり、またpHが3.5より高くなると、硫化反応後濾過することにより得られる脱Cd液中に、インジウムの水酸化物が生成してしまうことがある。
前記インジウム浸出液を、pHを調整せず硫化した場合、得られる脱Cd液中のSn濃度にバラツキが生じ、より高純度のインジウムメタルを得ることが困難となる。
前記インジウム浸出液の酸化還元電位としては、前記酸化還元電位調整剤を添加することにより、増大させることが好ましく、具体的には、0〜+250mVとすることが好ましい。前記インジウム浸出液の酸化還元電位が0mVより低いと、硫化反応の時間を長く要することとなり、また酸化還元電位が+250mVより高いと、酸化還元電位調整剤の添加量が多くなり、コストがかかり、実用的ではない。
該電解元液のスズ(Sn)濃度は、0.1mg/Lであり、鉛(Pb)濃度は、0.2mg/Lである。
なお、前記ケーキ(カドミ残渣)は、前記(4)の工程において添加され、繰り返し処理される。
前記電解採取工程(8)は、前記(7)の工程で得られた前記電解元液を電解して高純度の金属インジウムを得る工程である。
電解は、例えば、アノードにDSA(寸法適格陽極)、カソードにTi板を用いて行ない、スズ(Sn)濃度が0.1mg/Lの前記電解元液を電解することにより、スズ(Sn)含有率が0.1質量ppm未満の高純度の金属インジウムが得られる。
また、鉛(Pb)濃度が0.2mg/Lの前記電解元液を電解することにより、前記金属インジウムの鉛(Pb)含有率を0.1質量ppm未満とすることができる。
本発明の高純度インジウムメタルは、上述の本発明の高純度インジウムメタルの製造方法により製造され、スズ(Sn)の含有量が0.1質量ppm未満である。
本発明の高純度インジウムメタルは、不純物が極めて少なく、特にスズ(Sn)品位や鉛(Pb)品位が極めて低いため、電子部品材料として好適であり、特に、ITOターゲット材に好適である。
(1)酸浸出工程
前記原料(インジウム含有物)として、中和石こうを用いた。前記中和石こう294.5gに水を加えて固体濃度203g/Lのパルプとし、撹拌機で機械撹拌をしながら、これに終酸濃度が28g/Lになるように硫酸を添加し、温度を60℃に保ちながら2時間浸出した。
前記(1)の工程で得られた浸出スラリーに、酸化還元電位が300mV(Ag/AgCl電極使用)になるまでNaSHを添加して硫化反応を行った。反応時間は2時間、反応温度は60℃であった。反応終了後、得られたスラリーを濾過し、ケーキを銅残渣、濾液を脱銅液とした。
前記(2)の工程で得た脱銅液(インジウム含有水溶液)を撹拌機で撹拌しながら、硫酸でpHを0.8の一定レベルに保ち、酸化還元電位が−20mV(Ag/AgCl電極使用)になるまでNaSHを添加し、インジウムを硫化物として沈殿させた。反応は60℃の温度で5時間行った。
反応終了後、得られたスラリーを濾過し、ケーキを硫化残渣、濾液を硫化后液とした。
前記(1)〜(3)の工程を繰り返して得られた硫化残渣を集めて417.7gとし、これに水を加えて固体濃度119g/Lのパルプとし、撹拌機で撹拌しながら硫酸を加えて硫酸濃度を51g/Lとし、溶存SO2濃度が8g/LになるようにSO2ガスを吹き込んだ。反応は、80℃の温度で2時間行った。反応終了後、得られたスラリーを濾過し、ケーキを硫黄残渣、濾液をSO2浸出液とした。
前記(4)の工程で得たSO2浸出液に空気を吹き込み、溶存SO2濃度が0.2g/Lになるまで脱気し、pHが2.5になるまでNaOHを加えて中和したものを置換元液とした。得られた置換元液3000mlに、インジウムに対して1.8当量の亜鉛末を添加し、インジウムスポンジを置換析出させた。反応温度は60℃、反応時間は1時間であった。
前記工程を繰り返して集めたインジウムスポンジ238.1gに水を加え、固体濃度144g/Lのパルプとし、撹拌機で撹拌しながら、pHが1、酸化還元電位が−480mV(Ag/AgCl電極使用)となるように塩酸を添加してインジウムを浸出した。反応温度は65℃、反応時間は3時間であった。
なお、得られたインジウム浸出液の組成を表1に示す。
前記(6)で得たインジウム浸出液に、pHが1.7になるまでNaOHを添加し、酸化電極電位が13mV(Ag/AgCl電極使用)になるまでH2O2を添加した。この液にH2Sガスを吹き込んでCd等の不純物を硫化物として沈殿させた。硫化反応の反応温度は50℃、反応時間は0.5時間とした。
反応後の懸濁液を濾過し、ケーキをカドミ残渣、濾液を脱Cd液とした。
なお、脱Cd液の組成を表1に示す。
前記(7)の工程で得られた脱Cd液を電解元液とし、温度40℃、電流密度150A/m2で48時間電解採取を行った。アノードにはDSAをカソードにはTi板を使用した。得られた電解採取インジウムメタル中の各不純物の含有量を表2に示す。
実施例1において、(6)の工程で得たインジウム浸出液に対し、pHの調整、及び酸化還元電位の調整をせずH2Sガスを吹き込みCd等の不純物を硫化物として沈殿させた以外は、実施例1と同様にして電解採取インジウムメタルを得た。なお、前記インジウム浸出液のpHは0.7、酸化還元電位は−500mVであった。
Claims (5)
- カドミウム(Cd)を0.2mg/L以上含むインジウム含有酸溶液に、アルカリを添加してpHを調整し、酸化還元電位調整剤を添加して酸化還元電位を調整した後、硫化剤を添加してインジウム以外の金属イオンを沈殿除去し、電解元液を得ることを特徴とする液処理方法。
- インジウム以外の金属イオンが、カドミウム(Cd)、Sn(スズ)、Pb(鉛)Zn(亜鉛)、Fe(鉄)、Cu(銅)、Al(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、及びAs(砒素)から選ばれる少なくとも1種の金属イオンである請求項1に記載の液処理方法。
- アルカリとしてアルカリ金属塩を添加してpHを1〜3.5に調整し、酸化還元電位調整剤として酸化剤を添加して酸化還元電位を増大させた後、硫化剤を添加する請求項1から2のいずれかに記載の液処理方法。
- 酸化剤としてH2O2を添加して酸化還元電位を0〜+250mVに調整する請求項1から3のいずれかに記載の液処理方法。
- (1)インジウム含有物を酸で浸出処理し、インジウムと共に酸に可溶な金属を溶解する酸浸出工程と、
(2)前記(1)の工程で得られた酸浸出液にAg/AgCl電極使用で酸化還元電位を50〜320mVに調整しながら硫化剤を添加し、銅(Cu)等のインジウム以外の金属イオンを沈殿除去するCu等除去工程と、
(3)前記(2)の工程で得られた脱銅液に硫酸と硫化剤とを添加し、インジウムを硫化物として沈殿濃縮する硫化沈殿工程と、
(4)前記(3)の工程で得られたインジウム硫化物に硫酸酸性下でSO 2 ガスを吹き込むことによりInを選択的に浸出するSO 2 浸出工程と、
(5)前記(4)の工程で得られたインジウム含有浸出液のpHを1〜3.5の範囲内に調整し、空気吹き込みによって該インジウム含有浸出液中に溶存するSO 2 の濃度を0.05〜0.3g/Lに調整した後、金属粉を添加し、インジウムスポンジを置換析出させる置換析出工程と、
(6)浸出液のpHが0.5〜1.5の範囲内かつAg/AgCl電極使用で酸化還元電位が−400〜−500mVの範囲内にあるように塩酸を添加して前記(5)の工程で得られたインジウムスポンジを浸出する塩酸浸出工程と、
(7)カドミウム(Cd)を0.2mg/L以上含むインジウム含有酸溶液である前記(6)の工程で得られたインジウム浸出液に、アルカリを添加してpHを調整し、酸化還元電位調整剤を添加して酸化還元電位を調整した後、硫化剤を添加し、カドミウム(Cd)等のインジウム以外の金属イオンを沈殿除去して電解元液を得るCd等除去工程と、
(8)前記(7)の工程で得られた電解元液を電解して高純度の金属インジウムを得る電解採取工程と、からなることを特徴とする高純度インジウムメタルの製造方法。
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