JP4909244B2 - 干渉測定装置 - Google Patents

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Description

本発明は、干渉光学系を備える干渉測定装置に関するものである。
干渉光学系を備える干渉測定装置として特許文献1,2に開示されたものが知られている。これらの文献に開示された装置は、光源から出力された光を2分岐して第1分岐光および第2分岐光として出力し、第1分岐光が第1対象物により反射されて生じる第1反射光と、第2分岐光が第2対象物により反射されて生じる第2反射光とを干渉させて、これにより生じる干渉光の強度を検出部により検出する。
特許文献1に開示された装置は、第1対象物および第2対象物のうち一方が反射ミラーであって他方が薄膜状の被測定物であり、その被測定物の膜厚を測定するものである。そのために、この装置では、光源から第1対象物を経て検出部に到るまでの光路長L1をステッピングモータにより粗調整し、光源から第2対象物を経て検出部に到るまでの光路長L2をピエゾアクチュエータにより微調整して、検出部により検出される干渉光強度がピークとなる2つの位置を求め、これら2つの位置から被測定物の膜厚を測定する。
また、特許文献2に開示された装置は、第1対象物および第2対象物のうち一方が反射ミラーであって他方が被測定物であり、その被測定物の表面形状を測定するものである。そのために、この装置では、光路長L1と光路長L2との差(光路長差)を複数の目標値に順次に設定し、光路長差が各目標値に設定されているときに生じる干渉パターンを撮像部により撮像して、その撮像した干渉パターンに基づいて被測定物の表面形状を測定する。なお、干渉パターンを撮像部により撮像するために、干渉光学系から出力される干渉光を撮像部の撮像面上に結像する結像光学系が用いられる。
特開2005−283387号公報 特開2001−066122号公報
上記の特許文献2に開示されたような被測定物の表面形状を測定する干渉測定装置において、表面形状を高精度に測定するには、実際の光路長差「L1−L2」を各目標値に高精度で一致させる必要があり、その為には、ピゾアクチュエータを用いて光路長差を調整することが望ましい。また、表面形状測定のダイナミックレンジを大きくするには、光路長差の調整範囲が広いことが望ましい。
しかし、ピゾアクチュエータを用いて光路長差を調整する場合には、ピゾアクチュエータの作動範囲が数μmでしかなく、光路長差の調整範囲が狭い。したがって、ピゾアクチュエータのみを用いて光路長差を調整する場合には、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することは困難である。
ところで、表面形状測定のダイナミックレンジを大きくするには、ステッピングモータにより移動が可能なステージの上に対象物,ピエゾアクチュエータおよび結像光学系の一部(例えばレンズ)を載せ、そのステージ上で対象物および結像光学系の一部を一体にしてピエゾアクチュエータにより移動させることが考えられる。この場合、ステージによる移動動作により表面形状測定のダイナミックレンジを広くすることができ、また、ピエゾアクチュエータによる移動動作により表面形状測定の精度を高くすることができる、と期待される。しかし、そのようなピエゾアクチュエータは、対象物および結像光学系の一部を一体にして移動させ、かつ光学系の機械的振動をフィードバック制御することができるほどの応答速度を有していない。
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することができる干渉測定装置を提供することを目的とする。
本発明に係る干渉測定装置は、(1) 光を出力する光源と、(2) 該光源から出力された光を2分岐して第1分岐光および第2分岐光として出力し、第1分岐光が第1対象物により反射されて生じる第1反射光を入力するとともに、第2分岐光が第2対象物により反射されて生じる第2反射光を入力して、これら第1反射光と第2反射光とを干渉させて当該干渉光を出力する干渉光学系と、(3)干渉光学系から出力される干渉光を結像する結像光学系と、(4)結像光学系により結像された干渉光の干渉パターンを検出する撮像部と、(5) 光源から第1対象物を経て撮像部に到るまでの光路長と、光源から第2対象物を経て撮像部に到るまでの光路長との、光路長差を検出する光路長差検出手段と、(6)光路長差を調整する光路長差調整手段と、(7)光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように光路長差調整手段による光路長差調整動作を制御する制御部と、を備える。
また、本発明に係る干渉測定装置において、光路長差調整手段は、第1対象物を移動させる第1移動手段と、第2対象物を移動させる第2移動手段とを含み、第1移動手段または第2移動手段による移動動作により光路長差を調整する。第1移動手段は、第2移動手段の作動範囲より狭い作動範囲を有するとともに、第2移動手段の位置精度より高い位置精度を有する。第2移動手段は、干渉光学系と第2対象物との間の光学系を維持したまま第2対象物を移動させる。そして、制御部は、干渉光学系と第1対象物との間に設けられたレンズのフォーカスを第1対象物の反射面に合わせるとともに、干渉光学系と第2対象物との間に設けられたレンズのフォーカスを第2対象物の反射面に合わせ、光路長差が光源からの出力光のコヒーレンス長以内になるように光路長差調整手段による調整を行った後、複数の目標値それぞれにおいて第1移動手段による移動量が上記作動範囲内の所定範囲内となるように第2移動手段による移動動作を連続的または断続的に行わせ、第2移動手段による移動動作の際にも光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて光路長差が各目標値になるように第1移動手段による移動動作をフィードバック制御する。なお、第2移動手段は、干渉光学系と第2対象物との間の光学系を維持したまま第2対象物を移動させる際に、干渉光学系から測った第2対象物側のフォーカス面までの距離を維持したままとする。
なお、「光路長差」は、光源から第1対象物を経て撮像部に到るまでの光路長をL1とし、光源から第2対象物を経て撮像部に到るまでの光路長をL2としたときに、これらの差「L1−L2」で表されるものであってもよいし、或る基準値に対する相対的な変化量であってもよい。
好ましくは、本発明に係る干渉測定装置において、制御部は、第2移動手段による移動動作を連続的に行わせる場合には、(a) 光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、第1移動手段による移動動作をステップ的に行わせ、(b) 光路長差が或る目標値に設定されている期間には、光路長差が該目標値になるように第1移動手段による移動動作をフィードバック制御する。このとき、更に好ましくは、制御部は、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値において第1移動手段による移動量が所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るように第2移動手段による移動動作の速さを調整する。
また、好ましくは、本発明に係る干渉測定装置において、制御部は、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、第1移動手段による移動動作をステップ的に行わせ、第1移動手段による移動量が作動範囲内の所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るように第2移動手段による移動動作を断続的に行わせ、この第2移動手段による移動動作の間も光路長差が各目標値になるように第1移動手段による移動動作をフィードバック制御する。
本発明によれば、高精度かつ高ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図1は、本実施形態に係る干渉測定装置1の構成図である。この図に示される干渉測定装置1は、被測定物9の表面形状を測定するものであって、光源11,12、レンズ21〜25、アパーチャ31、光合波器41、光分波器42、ハーフミラー43、撮像部51、解析部52、受光部61、変位検出部62、ピエゾアクチュエータ71、駆動部72、ミラー73、ステージ81、駆動部82および制御部90を備える。
光源11は、コヒーレント長が比較的短い光λを出力するものであり、例えば波長帯域600nm〜900nmの広帯域光を出力することができるタングステンランプである。一方、光源12は、コヒーレント長が比較的長い光λを出力するものであり、例えば波長1.31μmのレーザ光を出力する半導体レーザ光源である。光合波器41は、光源11から出力されてレンズ21およびアパーチャ31を経て到達した光λを反射させるとともに、光源12から出力されて到達した光λを透過させて、これらの光を合波してレンズ22へ出力する。
ハーフミラー43は、光合波器41により合波されてレンズ22を経て到達した光λ,λを2分岐して第1分岐光および第2分岐光とし、第1分岐光をレンズ23へ出力し、第2分岐光をレンズ24へ出力する。また、ハーフミラー43は、第1分岐光がレンズ23を経てミラー73により反射されて生じる第1反射光を再びレンズ23を経て入力するとともに、第2分岐光がレンズ24を経て被測定物9により反射されて生じる第2反射光を再びレンズ24を経て入力して、これら第1反射光と第2反射光とを干渉させて当該干渉光をレンズ25へ出力する。すなわち、ハーフミラー43は、干渉光学系を構成する要素である。
光分波器42は、ハーフミラー43から出力されてレンズ25を経た光を入力し、そのうち光λを反射させて撮像部51へ出力し、光λを透過させて受光部61へ出力する。レンズ23〜25は、ハーフミラー43から出力されて光分波器42により分波された干渉光λを撮像部51の撮像面上に結像する結像光学系を構成する要素である。撮像部51は、その結像された干渉光λの干渉パターンを撮像するものであり、例えばCCDカメラである。受光部61は、ハーフミラー43から出力されて光分波器42により分波された光λの強度を検出するものであり、例えばフォトダイオードである。
ここで、ハーフミラー43からミラー73により反射されて再びハーフミラー43に到るまでの光路長と、ハーフミラー43から被測定物9により反射されて再びハーフミラー43に到るまでの光路長との光路長差をΔLとする。前述したように、光源12から出力され受光部61に到達する光λのコヒーレント長は比較的長いので、図2(a)に示されるように、受光部51に到達する光λの強度は、比較的広い光路長差ΔLの範囲において周期的に変化する。これに対して、光源11から出力され撮像部51に到達する光λのコヒーレント長は比較的短いので、図2(b)に示されるように、撮像部61に到達する光λの強度は、比較的狭い光路長差ΔLの範囲において周期的に変化し、しかも、光路長差ΔLが値0に近いほど干渉の振幅が大きい。
このことを利用して、解析部52は、光路長差が複数の目標値それぞれに設定されたときに撮像部51により撮像された光λの干渉パターン像を取得し、それらの複数の干渉パターン像に基づいて、像の各位置において干渉の振幅が最大となる光路長差を求め、これにより被測定物9の表面形状(高さ分布)を求める。
ここで、被測定物9は、好適には例えば図8に示されるように、略平坦な基板91の主面に薄膜92が形成され、その薄膜92の上に半透明な測定対象物93が置かれたものである。薄膜92は、光λを高い反射率で反射させることで、後述するフィードバック制御の際の基準面として好適に用いられる。また、測定対象物93は細胞であるのが好適である。
また、被測定物9の表面形状が波長未満の微小な凹凸を持つ場合には、干渉の振幅が最大となる光路長差付近において、光λの中心波長をλ20とおいて、λ20/4ずつ4回光路長差をシフトさせると共に干渉パターン像を取得し、それら4つの干渉パターン像に基づいて、像の各位置において干渉波形の位相オフセット値を求めることにより、被測定物9の表面形状(高さ分布)を求めることも可能である。
さらには、干渉の振幅が最大となる光路長差を求める方法と、干渉波形の位相オフセット値を求める方法の両方によって得られた高さ分布を総合することによって、広い高さ範囲の表面形状を、波長未満の精度で得ることもできる。
また、変位検出部62は、受光部61により検出された光λの強度の変化から、光路長差(または、或る基準値に対する相対的な光路長差の変化量)を求める。すなわち、光源12、受光部61および変位検出部62は、光路長差を検出する光路長差検出手段を構成する要素である。なお、ピエゾアクチュエータ71によりミラー73に微小振動を与えて、或る光路長差を中心にして変調を与えることで、より正確に光路長差を検出することができる。
ピエゾアクチュエータ71,駆動部72,ステージ81および駆動部82は、光路長差を調整する光路長差調整手段を構成する要素である。ステージ81は、駆動部82により駆動された機構82により、ハーフミラー43と被測定物9との間の光学系の光軸に平行な方向に被測定物9を移動させる。このとき、レンズ24を移動させることなく、ハーフミラー43と被測定物9との間の光学系を維持したままとする。すなわち、ハーフミラー43から測った被測定物9側のフォーカス面までの距離を維持したままとする。ピエゾアクチュエータ71は、駆動部72により駆動されて、ハーフミラー43とミラー73との間の光学系の光軸に平行な方向に、ミラー73を移動させる。このとき、レンズ23を移動させることなく、ハーフミラー43とミラー73との間の光学系を維持したままとする。ピエゾアクチュエータ71(第1移動手段)の作動範囲は、ステージ81(第2移動手段)の作動範囲より狭い。また、ピエゾアクチュエータ71の位置精度は、ステージ81の位置精度より高い。なお、ステージ81を移動させるための機構82としては、例えば長距離移動型のピエゾアクチュエータや、ステッピングモータによる回転機構を用いることが可能である。
制御部90は、変位検出部62による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように、駆動部72,82を介してピエゾアクチュエータ71およびステージ81による光路長差調整動作を制御する。特に、制御部90は、複数の目標値それぞれにおいて、ピエゾアクチュエータ71による移動量が作動範囲内の所定範囲内となるように、ステージ81による移動動作を連続的または断続的に行わせる。また、制御部90は、ステージ81による移動動作の際にも、変位検出部62による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する、
図3は、ピエゾアクチュエータ71およびステージ81による光路長差調整動作について説明する図である。この図には、ハーフミラー43とミラー73との間の光学系が示され、ハーフミラー43と被測定物9との間の光学系が示され、また、光路長差を調整するピエゾアクチュエータ71およびステージ81が示されている。ここで、ハーフミラー43とレンズ23との間の間隔をxとし、レンズ23とミラー73との間の間隔をxとする。また、ハーフミラー43とレンズ24との間の間隔をyとし、レンズ24と被測定物9との間の間隔をyとする。なお、被測定物9が図8に示される構成である場合には、yはレンズ24から被測定物9の薄膜92までの間隔とする。間隔xは、ピエゾアクチュエータ71による移動動作により調整される。間隔yは、ステージ81による移動動作により調整される。ピエゾアクチュエータ71またはステージ81により、間隔(x+x)又は間隔(y+y)を変更することで、光路長差ΔLを調整することができる。
仮に、ステージ81による移動動作により間隔yのみを調整する場合、ステージ81の作動範囲が比較的広いことから、広いダイナミックレンジで光路長差を調整することができる。しかし、この場合、ステージ81の位置精度が比較的低いことから、高精度で光路長差を調整することができず、したがって、高精度に被測定物9の表面形状を測定することができない。
一方、仮に、ピエゾアクチュエータ71による移動動作により間隔xのみを調整する場合、ピエゾアクチュエータ71の位置精度が比較的高いことから、高精度で光路長差を調整することができる。しかし、この場合、ピエゾアクチュエータ71の作動範囲が比較的狭いことから、広いダイナミックレンジで光路長差を調整することができず、したがって、広いダイナミックレンジで被測定物9の表面形状を測定することができない。
また、仮に、ピエゾアクチュエータ71の作動範囲内であっても広い範囲に亘って移動動作を行わせると、レンズ23の焦点距離と間隔xとの差が大きくなる場合があり、その場合には、結像光学系による干渉光の結像面と撮像部51の撮像面とが互いに大きくずれてしまい、撮像部51により撮像される干渉パターン像が不鮮明となって、被測定物9の表面形状の測定を高精度に行うことができない。
そこで、本実施形態では、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定する為に、制御部90は、複数の目標値それぞれにおいて、ピエゾアクチュエータ71による移動量が作動範囲内の所定範囲内となるように、ステージ81による移動動作を連続的または断続的に行わせる。また、制御部90は、ステージ81による移動動作の際にも、変位検出部62による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する、以下では、ピエゾアクチュエータ71およびステージ81それぞれの好適な2つの動作態様について説明する。
図4は、本実施形態に係る干渉測定装置1の第1動作態様を説明するフローチャートである。また、図5は、この第1動作態様における間隔x,間隔yおよび光路長差{(y+y)−(x+x)}それぞれの時間的変化を示す図である。この第1動作態様では、制御部90は、駆動部82を介して、ステージ81による移動動作を連続的に行わせる。
初めに、ステップS11では、制御部90は、駆動部82を介してステージ81による移動動作を開始させる。光路長差を或る目標値から次の目標値に一定時間間隔Δtで移行させるとし、その移行の際の間隔yの変化量をΔyとしたときに、ステージ81の移動速度は「Δy/Δt」に設定される。これにより、レンズ24と被測定物9との間の間隔yは、時間の経過とともに略リニアに変化していく。しかし、ステージ81の位置精度が比較的低いことから、間隔yの時間的変動は比較的大きい。
そこで、ステップS12では、制御部90は、光路長差が該目標値になるように、駆動部72を介してピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。このとき、ピエゾアクチュエータ71により間隔xが調整されて、光路長差{(y+y)−(x+x)}が高精度に設定される。
ステップS13では、制御部90は、光路長差が或る目標値に設定されてから一定時間Δtが経過したか否かを判断し、一定時間Δtが経過したら次のステップS14の処理に進む。ステップS14では、制御部90は、次の目標値が有るか否かを判断し、次の目標値が有れば次のステップS15の処理に進み、次の目標値が無ければステップS18の処理に進む。
ステップS15では、制御部90は、光路長差が次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値においてピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲から外れるか否かを判断する。そして、制御部90は、その移動量xが所定範囲から外れると判断した場合にはステップS16を経てステップS17の処理に進み、また、その移動量xが所定範囲内にあると判断した場合には直ちにステップS17の処理に進む。ステップS16では、制御部90は、次の目標値に移行した後にピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲内に入るようにステージ81による移動動作の速さを調整する。
ステップS17では、制御部90は、光路長差を次の目標値に設定し、駆動部72を介してピエゾアクチュエータ71をΔxだけステップ的に移動させる。その後、ステップS12の処理に戻って、制御部90は、光路長差が新たな目標値になるように、駆動部72を介してピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。ステップS18では、制御部90は、駆動部82を介してステージ81による移動動作を終了させる。
このように第1動作態様では、制御部90は、ステージ81による移動動作を連続的に行わせ、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、ピエゾアクチュエータ71による移動動作をステップ的に行わせ、また、光路長差が或る目標値に設定されている期間には、光路長差が該目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。このように制御部90がピエゾアクチュエータ71およびステージ81それぞれの移動動作を制御することにより、ステージ81の移動動作の広いダイナミックレンジと、ピエゾアクチュエータ71の移動動作の高い位置精度とを、共に活かすことができて、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物9の表面形状を測定することができる。
また、第1動作態様では、制御部90は、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値においてピエゾアクチュエータ71による移動量が所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るようにステージ81による移動動作の速さを調整する(ステップS15,S16)。このように制御部90がステージ81の移動速度を調整することにより、ステージ81の移動速度や目標値変更の時間間隔Δtの精度が不充分である場合であっても、ピエゾアクチュエータ71による移動量を所定範囲内に維持することができるので、被測定物9の表面形状の高精度測定を維持することができる。なお、光路長差の目標値の個数をNとしたときに、N・Δtの時間内にステージ81を速度「Δy/Δt」で等速移動させたときの移動距離が充分な精度(例えば誤差が±1μm以下)であれば、ステップS15,16は不要であり、ステップS14の後に直ちにステップS17の処理に進めばよい。
図6は、本実施形態に係る干渉測定装置1の第2動作態様を説明するフローチャートである。また、図7は、この第2動作態様における間隔x,間隔yおよび光路長差{(y+y)−(x+x)}それぞれの時間的変化を示す図である。この第2動作態様では、制御部90は、駆動部82を介して、ステージ81による移動動作を断続的に行わせる。
ステップS21では、制御部90は、光路長差が目標値になるように、駆動部72を介してピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。このとき、ステージ81は移動していないが、ステージ81の位置精度が比較的低いことから、間隔yの時間的変動は比較的大きい。しかし、ピエゾアクチュエータ71により間隔xが調整されて、光路長差{(y+y)−(x+x)}が高精度に設定される。
ステップS22では、制御部90は、光路長差が或る目標値に設定されてから一定時間Δtが経過したか否かを判断し、一定時間Δtが経過したら次のステップS23の処理に進む。ステップS23では、制御部90は、次の目標値が有るか否かを判断し、次の目標値が有れば次のステップS24の処理に進み、次の目標値が無ければ終了する。
ステップS24では、制御部90は、光路長差が次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値においてピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲から外れるか否かを判断する。そして、制御部90は、その移動量xが所定範囲から外れると判断した場合にはステップS25を経てステップS26の処理に進み、また、その移動量xが所定範囲内にあると判断した場合には直ちにステップS26の処理に進む。
ステップS25では、制御部90は、次の目標値に移行した後にピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲内に入るようにステージ81を移動させた後に停止させ、また、そのステージ81が移動している期間にも、そのときの光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作を制御する。なお、このときのステージ81の移動に際しては、次の目標値においてピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲の上限を超える場合には、ピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲の下限の近くになるようにする。逆に、次の目標値においてピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲の下限を超える場合には、ピエゾアクチュエータ71による移動量xが所定範囲の上限の近くになるようにする。
ステップS26では、制御部90は、光路長差を次の目標値に設定し、駆動部72を介してピエゾアクチュエータ71をΔxだけステップ的に移動させる。その後、ステップS21の処理に戻って、制御部90は、光路長差が新たな目標値になるように、駆動部72を介してピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。
このように第2動作態様では、制御部90は、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。このように制御部90がピエゾアクチュエータ71およびステージ81それぞれの移動動作を制御することにより、ステージ81の移動動作の広いダイナミックレンジと、ピエゾアクチュエータ71の移動動作の高い位置精度とを、共に活かすことができて、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物9の表面形状を測定することができる。なお、ステージ81の位置精度が悪い場合には、第1動作態様より第2動作態様の方が有効である、
次に、干渉測定装置1の第2動作態様の具体的な実施例について説明する。本実施例では、光源12として、出力波長λが1330nmであるSLD光源を用いた。ピエゾアクチュエータ71として、NEC/TOKIN社製のAE0505D08を用いた。ステージ81として、PI社製のP−611.ZSを用いた。撮像部51として、浜松ホトニクス社製のC4880−07を用いた。光路長差{(y+y)−(x+x)}の各ステップ間の変更幅をλ/8(=約100nm)とした。半透明な測定対象物93として、培養細胞MCF7を用いた。基板91として、スライドガラスを用いた。
最初に、レンズ23のフォーカスをミラー73の反射面に合わせるとともに、レンズ24のフォーカスを基板91の表面に合わせ、かつ、光路長差ΔL(=(y+y)−(x+x))が光源11のコヒーレンス長(約2μm)以内になるようにして、計測を開始した。光路長差ΔLが増加するように、ミラー73または被測定物9を移動させた。
図9は、本実施例における最初期の連続する4枚の干渉像を示す図である。フォーカス位置および光路長差ゼロの位置が共に基板91の表面にあるので、基板91の表面からの反射光による干渉像が捉えられている。
図10は、本実施例においてステップ状の光路長差の移動を36回(約3600nm)繰り返した後の36回目から39回目までの連続する4枚の干渉像を示す図である。図9に対して、光路長差が3600nmシフトすると同時に、レンズ24のフォーカスもまた3600nmシフトしているので、基板91の表面より3600nm上方の細胞93の表面からの反射光による干渉像がコントラスト良く捉えられている。また、光路長差に関しては、ナノメートルオーダーの精度でフィードバック制御されているので、4回の光路長差の移動は正確に等間隔で行われた。
図11は、本実施例において36回目から39回目までの連続する4枚の干渉像からλ/4位相シフト法のアルゴリズムにより表面形状を位相値として計算したものを示す図である。細胞93の表面形状が等高線としてイメージングされている。
図12は、本実施例において撮像された連続するλ/4ずつ位相シフトした40枚の干渉像からλ/4位相シフト法のアルゴリズムにより部分的な細胞表面形状を求め、それら部分的な細胞表面形状を繋ぎ合わせて作成した細胞全体の表面形状を示す図である。細胞93の全体の表面形状をイメージングすることができている。
本実施形態に係る干渉測定装置1の構成図である。 撮像部51または受光部51に到達する光の強度と光路長差との関係を示す図である。 ピエゾアクチュエータ71およびステージ81による光路長差調整動作について説明する図である。 本実施形態に係る干渉測定装置1の第1動作態様を説明するフローチャートである。 本実施形態に係る干渉測定装置1の第1動作態様における間隔x,間隔yおよび光路長差{(y+y)−(x+x)}それぞれの時間的変化を示す図である。 本実施形態に係る干渉測定装置1の第2動作態様を説明するフローチャートである。 本実施形態に係る干渉測定装置1の第2動作態様における間隔x,間隔yおよび光路長差{(y+y)−(x+x)}それぞれの時間的変化を示す図である。 被測定物9の一構成例を示す図である。 本実施例における最初期の連続する4枚の干渉像を示す図である。 本実施例においてステップ状の光路長差の移動を36回(約3600nm)繰り返した後の36回目から39回目までの連続する4枚の干渉像を示す図である。 本実施例において36回目から39回目までの連続する4枚の干渉像からλ/4位相シフト法のアルゴリズムにより表面形状を位相値として計算したものを示す図である。 本実施例において撮像された連続するλ/4ずつ位相シフトした40枚の干渉像からλ/4位相シフト法のアルゴリズムにより部分的な細胞表面形状を求め、それら部分的な細胞表面形状を繋ぎ合わせて作成した細胞全体の表面形状を示す図である。
符号の説明
1…干渉測定装置、9…被測定物、11,12…光源、21〜25…レンズ、31…アパーチャ、41…光合波器、42…光分波器、43…ハーフミラー、51…撮像部、52…解析部、61…受光部、62…変位検出部、71…ピエゾアクチュエータ、72…駆動部、73…ミラー、81…ステージ、82…駆動部、90…制御部。

Claims (4)

  1. 光を出力する光源と、
    該光源から出力された光を2分岐して第1分岐光および第2分岐光として出力し、前記第1分岐光が第1対象物により反射されて生じる第1反射光を入力するとともに、前記第2分岐光が第2対象物により反射されて生じる第2反射光を入力して、これら第1反射光と第2反射光とを干渉させて当該干渉光を出力する干渉光学系と、
    前記干渉光学系から出力される干渉光を結像する結像光学系と、
    前記結像光学系により結像された干渉光の干渉パターンを撮像する撮像部と、
    前記光源から前記第1対象物を経て前記撮像部に到るまでの光路長と、前記光源から前記第2対象物を経て前記撮像部に到るまでの光路長との、光路長差を検出する光路長差検出手段と、
    前記光路長差を調整する光路長差調整手段と、
    前記光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて、前記光路長差が複数の目標値に順次になるように前記光路長差調整手段による光路長差調整動作を制御する制御部と、
    を備え、
    前記光路長差調整手段は、前記第1対象物を移動させる第1移動手段と、前記第2対象物を移動させる第2移動手段とを含み、前記第1移動手段または前記第2移動手段による移動動作により前記光路長差を調整し、
    前記第1移動手段は、前記第2移動手段の作動範囲より狭い作動範囲を有するとともに、前記第2移動手段の位置精度より高い位置精度を有し、
    前記第2移動手段は、前記干渉光学系と前記第2対象物との間の光学系を維持したまま前記第2対象物を移動させ、
    前記制御部は、
    前記干渉光学系と前記第1対象物との間に設けられたレンズのフォーカスを前記第1対象物の反射面に合わせるとともに、前記干渉光学系と前記第2対象物との間に設けられたレンズのフォーカスを前記第2対象物の反射面に合わせ、前記光路長差が前記光源からの出力光のコヒーレンス長以内になるように前記光路長差調整手段による調整を行った後、
    前記複数の目標値それぞれにおいて前記第1移動手段による移動量が前記作動範囲内の所定範囲内となるように前記第2移動手段による移動動作を連続的または断続的に行わせ、前記第2移動手段による移動動作の際にも前記光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて前記光路長差が各目標値になるように前記第1移動手段による移動動作をフィードバック制御する、
    ことを特徴とする干渉測定装置。
  2. 前記制御部は、
    前記第2移動手段による移動動作を連続的に行わせ、
    前記光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、前記第1移動手段による移動動作をステップ的に行わせ、
    前記光路長差が或る目標値に設定されている期間には、前記光路長差が該目標値になるように前記第1移動手段による移動動作をフィードバック制御する、
    ことを特徴とする請求項1記載の干渉測定装置。
  3. 前記制御部は、前記光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値において前記第1移動手段による移動量が前記所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るように前記第2移動手段による移動動作の速さを調整する、ことを特徴とする請求項2記載の干渉測定装置。
  4. 前記制御部は、
    前記光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、前記第1移動手段による移動動作をステップ的に行わせ、
    前記第1移動手段による移動量が前記作動範囲内の所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るように前記第2移動手段による移動動作を断続的に行わせ、
    この第2移動手段による移動動作の間も前記光路長差が各目標値になるように前記第1移動手段による移動動作をフィードバック制御する、
    ことを特徴とする請求項1記載の干渉測定装置。
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