JP4901325B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
上記データ読み出し用のトランジスタと、上記データ書き込みおよび消去用の素子とは、その間に配置された上記容量素子により離れて配置されており、
上記容量素子の第1電極と、上記データ読み出し用のトランジスタの第2電極と、上記データ書き込みおよび消去用の素子の第3電極とは、上記データ読み出し用のトランジスタと、上記容量素子と、上記データ書き込みおよび消去用の素子との配置方向に沿って延在する共通の浮遊ゲート電極の一部で構成されており、
上記データ読み出し用のトランジスタの第2電極と、上記データ書き込みおよび消去用の素子の第3電極とは、その間に配置された上記容量の第1電極により離れているものである。
図1は本発明者が検討した半導体装置におけるフラッシュメモリの1ビット分のメモリセルMC0の平面図を示している。なお、図1は平面図であるが、図面を見易くするために一部にハッチングを付した。また、符号Yは第1方向でローカルデータ線の延在方向を示し、符号のXは第1方向Yに直交する第2方向でワード線の延在方向を示している。
本実施の形態2においては、特に以下の構成が前記実施の形態1と異なる。
図43は本実施の形態3の半導体装置におけるフラッシュメモリの平面図、図44は図43のフラッシュメモリの要部拡大平面図、図45は図43のY3−Y3線の断面図を示している。なお、図43および図44は平面図であるが、図面を見易くするために一部にハッチングを付した。また、図44のX1−X1線、X2−X2線およびX3−X3線の断面図は、それぞれ図22、図7および図24と同じである。
図46は図2の複数のメモリセルMC0を第1方向Yにも配置した場合の一例を示している。なお、図46は平面図であるが、図面を見易くするために一部にハッチングを付した。また、図46のX1−X1線、X2−X2線およびX3−X3線の断面図は、それぞれ図6、図7および図8で示したものと同じである。
図50は本実施の形態5の半導体装置におけるフラッシュメモリの平面図、図51は図50のフラッシュメモリの要部拡大平面図、図52は図51のX4−X4線の断面図、図53は図51のX3−X3線の断面図を示している。なお、図50および図51は平面図であるが、図面を見易くするために一部にハッチングを付した。また、図51のX2−X2線の断面図は、図7と同じである。
図54は本実施の形態6の半導体装置におけるフラッシュメモリの平面図、図55は図54のフラッシュメモリの要部拡大平面図、図56は図55のX5−X5線の断面図を示している。なお、図54および図55は平面図であるが、図面を見易くするために一部にハッチングを付した。また、図55のX2−X2線、X3−X3線およびX4−X4線の断面図は、それぞれ図7、図53および図52と同じである。
本実施の形態7においては、前記実施の形態2で説明したメモリセルアレイを前記実施の形態4で説明したのと同様に第1方向Yに沿って2段に配置した場合について説明する。これ以外の構成は、前記実施の形態2,4で説明したのと同じである。
明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることは言うまでもない。
4a p+型の半導体領域
5a シリサイド層
6,6a,6b 絶縁層
6c キャップ絶縁層
7,7a〜7g 導体部
8a n+型の半導体領域
10b ゲート絶縁膜(第2絶縁膜)
10c 容量絶縁膜(第3絶縁膜)
10d 容量絶縁膜(第1絶縁膜)
10e ゲート絶縁膜
10f ゲート絶縁膜
10g ゲート絶縁膜
10h ゲート絶縁膜
12 n型の半導体領域
12a n−型の半導体領域
12b n+型の半導体領域
15 p型(n型)の半導体領域
15a p−型(n−型)の半導体領域
15b p+型(n+型)の半導体領域
17 p型(n型)の半導体領域
17a p−型(n−型)の半導体領域
17b p+型(n+型)の半導体領域
18 n型の半導体領域
18a n−型の半導体領域
18b n+型の半導体領域
19 p型の半導体領域
19a p−型の半導体領域
19b p+型の半導体領域
20 n型の半導体領域
20a n−型の半導体領域
20b n+型の半導体領域
21 p型の半導体領域
21a p−型の半導体領域
21b p+型の半導体領域
22 n型の半導体領域
22a n−型の半導体領域
22b n+型の半導体領域
23 p型の半導体領域
23a p−型の半導体領域
23b p+型の半導体領域
25 n+型の半導体領域
TI 分離部
MC0 メモリセル
MC1 メモリセル
MC1s,MC1se,MC1r 選択メモリセル
MR メモリセルアレイ
PR 周辺回路領域
FG 浮遊ゲート電極
QR データ読み出し用のMIS・FET
FGR ゲート電極(第2電極)
QS 選択MIS・FET
FGS ゲート電極
CWE データ書き込み・消去用の電荷注入放出部
FGC1 容量電極(第3電極)
C 容量部
FGC2 容量電極(第1電極)
CGW 制御ゲート電極
DNW n型の埋込ウエル(第1ウエル)
DPW p型の埋込ウエル
HPW1 p型のウエル(第4ウエル)
HPW2 p型のウエル(第2ウエル)
HPW3 p型のウエル(第3ウエル)
HPW4 p型のウエル
HNW n型のウエル
L,L1〜L5 活性領域
CT コンタクトホール
WBL,WBL0,WBL1 データ書き込み・消去用のビット線
RBL,RBL0,RBL1,RBL2 データ読み出し用のビット線
CG,CG0,CG1 制御ゲート配線
SL ソース線
GS 選択線
QHN nチャネル型のMIS・FET
QHP pチャネル型のMIS・FET
GHN,GHP ゲート電極
PV p型の半導体領域
NV n型の半導体領域
QLN1,QLN2 nチャネル型のMIS・FET
QLP1,QLP2 pチャネル型のMIS・FET
GLN1,GLN2,GLP1,GLP2 ゲート電極
PW p型のウエル
NW n型のウエル
DG ダミーゲート
DL ダミー活性領域
Claims (25)
- 第1主面およびその裏側の第2主面を有する半導体基板と、
前記半導体基板の第1主面に配置された主回路形成領域と、
前記半導体基板の第1主面に配置された不揮発性メモリ領域とを備え、
前記不揮発性メモリ領域には、
前記半導体基板の第1主面に形成された第1導電型の第1ウエルと、
前記第1導電型とは反対の導電型を有する第2導電型のウエルであって、前記第1ウエルに内包されるように配置された第2ウエルと、
前記第2導電型のウエルであって、前記第2ウエルとは電気的に分離された状態で、前記第1ウエルに内包されるように配置された第3ウエルと、
前記第2導電型のウエルであって、前記第2ウエルおよび前記第3ウエルとは電気的に分離された状態で、前記第2ウエルと前記第3ウエルとの間に、前記第1ウエルに内包されるように配置された第4ウエルと、
前記第2ウエル、前記第3ウエルおよび前記第4ウエルに平面的に重なるように配置された不揮発性メモリセルとを備え、
前記不揮発性メモリセルは、
前記第2ウエル、前記第3ウエルおよび前記第4ウエルに平面的に重なるように第1方向に延在して配置された浮遊ゲート電極と、
前記浮遊ゲート電極が前記第4ウエルに平面的に重なる第1位置に形成された容量素子と、
前記浮遊ゲート電極が前記第3ウエルに平面的に重なる第2位置に形成されたデータ読み出し用の電界効果トランジスタと、
前記浮遊ゲート電極が前記第2ウエルに平面的に重なる第3位置に形成されたデータ書き込みおよび消去用の素子とを有し、
前記浮遊ゲート電極は、
前記第4ウエルに平面的に重なる第1部分と、
前記第1部分の第1の辺から前記第1方向に沿って前記データ読み出し用の電界効果トランジスタに向かって延びる第2部分と、
前記第1部分の前記第1の辺に沿う第2の辺から前記第1方向に沿って前記データ書き込みおよび消去用の素子に向かって延びる第3部分とを一体的に有しており、
前記第1部分は、前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、
前記第2部分および前記第3部分は、前記第1方向に交差する第2方向に沿って互いにずれた状態で設けられ、
前記容量素子は、
前記浮遊ゲート電極の前記第1部分の前記第1位置に形成される第1電極と、前記第1電極および前記半導体基板の間に形成される第1絶縁膜と、前記第4ウエル内に形成される第2導電型の半導体領域と、前記第4ウエルとを有し、
前記データ読み出し用の電界効果トランジスタは、
前記浮遊ゲート電極の前記第2部分の前記第2位置に形成される第2電極と、前記第2電極および前記半導体基板の間に形成される第2絶縁膜と、前記第3ウエル内において前記第2電極を挟み込む位置に形成された第1導電型の一対の半導体領域とを有し、
前記データ書き込みおよび消去用の素子は、
前記浮遊ゲート電極の前記第3部分の前記第3位置に形成される第3電極と、前記第3電極および前記半導体基板の間に形成される第3絶縁膜と、前記第2ウエル内に形成される第2導電型の半導体領域と、前記第2ウエルとを有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子でのデータの書き換えは、チャネル全面のFNトンネル電流により行うことを特徴とする半導体装置。
- 請求項1記載の半導体装置において、前記浮遊ゲート電極の前記第1電極の前記第2方向の長さは、前記第2電極および前記第3電極の前記第2方向の長さよりも長いことを特徴とする半導体装置。
- 請求項1記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子の前記第3電極の前記第2方向の長さと、前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記第2電極の前記第2方向の長さとが異なることを特徴とする半導体装置。
- 請求項4記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子の前記第3電極の前記第2方向の長さは、前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記第2電極の前記第2方向の長さよりも短いことを特徴とする半導体装置。
- 請求項1記載の半導体装置において、前記主回路形成領域には、第1動作電圧で駆動する低耐圧の電界効果トランジスタと、前記第1動作電圧よりも高い第2動作電圧で駆動する高耐圧の電界効果トランジスタとが配置されており、
前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記一対の半導体領域の構成を、前記低耐圧の電界効果トランジスタのソース、ドレイン用の一対の半導体領域の構成と同一にしたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、前記容量素子は、前記第4ウエル内に形成される第1導電型の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
- 請求項1記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子は、前記第2ウエル内に形成される第1導電型の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
- 第1主面およびその裏側の第2主面を有する半導体基板と、
前記半導体基板の第1主面に配置された主回路形成領域と、
前記半導体基板の第1主面に配置された不揮発性メモリ領域とを備え、
前記不揮発性メモリ領域には、
前記半導体基板の第1主面に形成された第1導電型の第1ウエルと、
前記第1導電型とは反対の導電型を有する第2導電型のウエルであって、前記第1ウエルに内包されるように配置された第2ウエルと、
前記第2導電型のウエルであって、前記第2ウエルとは電気的に分離された状態で、前記第1ウエルに内包されるように配置された第3ウエルと、
前記第2導電型のウエルであって、前記第2ウエルおよび前記第3ウエルとは電気的に分離された状態で、前記第2ウエルと前記第3ウエルとの間に、前記第1ウエルに内包されるように配置された第4ウエルと、
前記第2ウエル、前記第3ウエルおよび前記第4ウエルに平面的に重なるように配置された複数の不揮発性メモリセルとを備え、
前記複数の不揮発性メモリセルの各々は、
前記第2ウエル、前記第3ウエルおよび前記第4ウエルに平面的に重なるように第1方向に延在して配置された浮遊ゲート電極と、
前記浮遊ゲート電極が前記第4ウエルに平面的に重なる第1位置に形成された容量素子と、
前記浮遊ゲート電極が前記第3ウエルに平面的に重なる第2位置に形成されたデータ読み出し用の電界効果トランジスタと、
前記浮遊ゲート電極が前記第2ウエルに平面的に重なる第3位置に形成されたデータ書き込みおよび消去用の素子とを有し、
前記浮遊ゲート電極は、
前記第4ウエルに平面的に重なる第1部分と、
前記第1部分の第1の辺から前記第1方向に沿って前記データ読み出し用の電界効果トランジスタに向かって延びる第2部分と、
前記第1部分の前記第1の辺に沿う第2の辺から前記第1方向に沿って前記データ書き込みおよび消去用の素子に向かって延びる第3部分とを一体的に有しており、
前記第1部分は、前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、
前記第2部分および前記第3部分は、前記第1方向に交差する第2方向に沿って互いにずれた状態で設けられ、
前記容量素子は、
前記浮遊ゲート電極の前記第1部分の前記第1位置に形成される第1電極と、前記第1電極および前記半導体基板の間に形成される第1絶縁膜と、前記第4ウエル内に形成される第2導電型の半導体領域と、前記第4ウエルとを有し、
前記データ読み出し用の電界効果トランジスタは、
前記浮遊ゲート電極の前記第2部分の前記第2位置に形成される第2電極と、前記第2電極および前記半導体基板の間に形成される第2絶縁膜と、前記第3ウエル内において前記第2電極を挟み込む位置に形成された第1導電型の一対の半導体領域とを有し、
前記データ書き込みおよび消去用の素子は、
前記浮遊ゲート電極の前記第3部分の前記第3位置に形成される第3電極と、前記第3電極および前記半導体基板の間に形成される第3絶縁膜と、前記第2ウエル内に形成される第2導電型の半導体領域と、前記第2ウエルとを有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項9記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子でのデータの書き換えは、チャネル全面のFNトンネル電流により行うことを特徴とする半導体装置。
- 請求項9記載の半導体装置において、前記浮遊ゲート電極の前記第1電極の前記第2方向の長さは、前記第2電極および前記第3電極の前記第2方向の長さよりも長いことを特徴とする半導体装置。
- 請求項9記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子の前記第3電極の前記第2方向の長さと、前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記第2電極の前記第2方向の長さとが異なることを特徴とする半導体装置。
- 請求項12記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子の前記第3電極の前記第2方向の長さは、前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記第2電極の前記第2方向の長さよりも短いことを特徴とする半導体装置。
- 請求項9記載の半導体装置において、前記主回路形成領域には、第1動作電圧で駆動する低耐圧の電界効果トランジスタと、前記第1動作電圧よりも高い第2動作電圧で駆動する高耐圧の電界効果トランジスタとが配置されており、
前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記一対の半導体領域の構成を、前記低耐圧の電界効果トランジスタの一対の半導体領域の構成と同一にすることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9記載の半導体装置において、前記第2方向に沿って配置される複数の前記データ書き込みおよび消去用の素子の隣接間に、前記第1ウエルよりも不純物濃度の高い第1導電型の第1半導体領域を設け、互いに隣接する複数の前記第2ウエルを分離したことを特徴とする半導体装置。
- 請求項15記載の半導体装置において、前記主回路形成領域には、第1動作電圧で駆動する低耐圧の電界効果トランジスタと、前記第1動作電圧よりも高い第2動作電圧で駆動する高耐圧の電界効果トランジスタとが配置されており、
前記第1半導体領域は、前記低耐圧の電界効果トランジスタのソース、ドレイン用の一対の半導体領域の形成工程により形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9記載の半導体装置において、前記複数の不揮発性メモリセルの各々の前記データ読み出し用の電界効果トランジスタには、前記複数の不揮発性メモリセルの各々を選択可能なように選択用の電界効果トランジスタが電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項9記載の半導体装置において、前記容量素子は、前記第4ウエル内に形成される第1導電型の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
- 請求項9記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子は、前記第2ウエル内に形成される第1導電型の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
- 第1主面およびその裏側の第2主面を有する半導体基板と、
前記半導体基板の第1主面に配置された主回路形成領域と、
前記半導体基板の第1主面に配置された不揮発性メモリ領域とを備え、
前記不揮発性メモリ領域には、
前記半導体基板の第1主面に形成された第1導電型の第1ウエルと、
前記第1導電型とは反対の導電型を有する第2導電型のウエルであって、前記第1ウエルに内包されるように配置された第2ウエルと、
前記第2導電型のウエルであって、前記第2ウエルとは電気的に分離された状態で、前記第1ウエルに内包されるように配置された第3ウエルと、
前記第2導電型のウエルであって、前記第2ウエルおよび前記第3ウエルとは電気的に分離された状態で、前記第2ウエルと前記第3ウエルとの間に、前記第1ウエルに内包されるように配置された第4ウエルと、
前記第2ウエル、前記第3ウエルおよび前記第4ウエルに平面的に重なるように配置された複数の不揮発性メモリセルとを備え、
前記複数の不揮発性メモリセルの各々は、
前記第2ウエル、前記第3ウエルおよび前記第4ウエルに平面的に重なるように第1方向に延在して配置された浮遊ゲート電極と、
前記浮遊ゲート電極が前記第4ウエルに平面的に重なる第1位置に形成された容量素子と、
前記浮遊ゲート電極が前記第3ウエルに平面的に重なる第2位置に形成されたデータ読み出し用の電界効果トランジスタと、
前記浮遊ゲート電極が前記第2ウエルに平面的に重なる第3位置に形成されたデータ書き込みおよび消去用の素子とを有し、
前記浮遊ゲート電極は、
前記第4ウエルに平面的に重なる第1部分と、
前記第1部分の第1の辺から前記第1方向に沿って前記データ読み出し用の電界効果トランジスタに向かって延びる第2部分と、
前記第1部分の前記第1の辺に沿う第2の辺から前記第1方向に沿って前記データ書き込みおよび消去用の素子に向かって延びる第3部分とを一体的に有しており、
前記第1部分は、前記第2部分と前記第3部分との間に設けられ、
前記第2部分および前記第3部分は、前記第1方向に交差する第2方向に沿って互いにずれた状態で設けられ、
前記容量素子は、
前記浮遊ゲート電極の前記第1部分の前記第1位置に形成される第1電極と、前記第1電極および前記半導体基板の間に形成される第1絶縁膜と、前記第4ウエル内に形成される第2導電型の半導体領域と、前記第4ウエルとを有し、
前記データ読み出し用の電界効果トランジスタは、
前記浮遊ゲート電極の前記第2部分の前記第2位置に形成される第2電極と、前記第2電極および前記半導体基板の間に形成される第2絶縁膜と、前記第3ウエル内において前記第2電極を挟み込む位置に形成された第1導電型の一対の半導体領域とを有し、
前記データ書き込みおよび消去用の素子は、
前記浮遊ゲート電極の前記第3部分の前記第3位置に形成される第3電極と、前記第3電極および前記半導体基板の間に形成される第3絶縁膜と、前記第2ウエル内に形成される第2導電型の半導体領域と、前記第2ウエルとを有し、
前記複数の不揮発性メモリセルのうち、前記第1方向に沿って並んで配置された不揮発性メモリセル同士は互いに対称になるように配置されており、
前記第1方向に沿って並んで配置された不揮発性メモリセルの前記データ書き込みおよび消去用の素子は、共通の前記第2ウエルに形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項20記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子でのデータの書き換えは、チャネル全面のFNトンネル電流により行うことを特徴とする半導体装置。
- 請求項20記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子の前記第3電極の前記第2方向の長さと、前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記第2電極の前記第2方向の長さとが異なることを特徴とする半導体装置。
- 請求項22記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子の前記第3電極の前記第2方向の長さは、前記データ読み出し用の電界効果トランジスタの前記第2電極の前記第2方向の長さよりも短いことを特徴とする半導体装置。
- 請求項20記載の半導体装置において、前記容量素子は、前記第4ウエル内に形成される第1導電型の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
- 請求項20記載の半導体装置において、前記データ書き込みおよび消去用の素子は、前記第2ウエル内に形成される第1導電型の半導体領域を有することを特徴とする半導体装置。
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