JP4899113B2 - はんだ付け回路基板、その処理方法、およびはんだ層・バンプの形成方法 - Google Patents
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本発明者らは、上記特許文献1、2に記載されているような粘着性の防錆性皮膜に、特定のフラックス性成分(フラックス作用を示す化合物)を含有する溶液を接触させると、皮膜の粘着性を保持したまま、フラックス性成分が防錆性皮膜に移行し、皮膜それ自体がフラックス作用を示すことができるようになることを見いだした。その結果、防錆性皮膜は、粘着性に加えて、良好なはんだぬれ性も示すようになり、はんだ粉末を付着させた後、フラックスを塗布せずに、はんだ粉末を溶融させて加熱すると、鉛フリーはんだ粉末の場合でも良好なはんだ付け性が得られる。従って、特許文献2に提案されているはんだ粉末の定着のための加熱処理が不要になる。
また、本発明において「粘着性」とは、皮膜を指で触れてべたつきがあることを意味する。本発明では、皮膜にはんだ粉末を散布した時に皮膜が粉末を保持できれば(逆さまにしても粉末が落下しなければ)、皮膜は粘着性である。
・前記金属回路がCu、Cu合金、Sn又はSn合金から形成されている;
・前記防錆性皮膜が、ナフトトリアゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、メルカプトベンゾチアゾール系化合物及びベンゾチアゾールチオ脂肪酸系化合物から選ばれた少なくとも1種の防錆剤化合物と露出した金属回路中の金属との反応により形成されたものである;
・前記フラックス作用を示す化合物が有機ハロゲン化物である。
はんだ付け用フラックスは、フラックス中の活性剤がCuやSnなどの金属の酸化物と反応して、金属を清浄な状態にし、金属同士の融合を容易にする作用を果たす。特に鉛フリーはんだによるはんだ付けでは、フラックスを使用しないと、リフロー時にはんだが単に再溶融するだけで、金属回路露出部との必要な結合(すなわち、はんだ付け)を達成することができない。
防錆剤化合物を用いた回路基板の金属回路露出部上への粘着性の防錆性皮膜の形成についても、特許文献1、2に記載の方法を参照することができる。すなわち、使用する1種または2種以上の防錆剤化合物を水に溶かして処理液を調製し、この処理液を回路基板の金属回路露出部に塗布すればよい。塗布は浸漬又はスプレーにより実施することができる。処理前に、通常のプリフラックス処理で行われている前処理(酸性水溶液による処理と水洗)を実施することが好ましい。
(実施例1)
縦、横に60個ずつ格子状に並んだ、合計3600個の電極を有するBGA用回路基板(すなわち、インターポーザ基板)の電極上に本発明に従ってはんだバンプを形成した。この回路基板の電極ピッチは150μmであり、各電極は、25μm厚さのレジストの開口部底部にあった。従って電極部はレジスト表面から25μm引っ込んだ位置にあった。レジスト開口部の底部直径は80μmであった。
(比較例1)
実施例1と同様にして、回路基板の電極上に防錆性皮膜の形成とはんだボールの搭載及びリフローを行った。防錆性皮膜を形成した後の、フラックス機能のある水溶液での処理は行わなかった。
比較例1を繰り返したが、比較例1ではんだバンプが形成されなかった原因がフラックスの不存在であると考えられたため、はんだボールの搭載後に、フラックスを塗布してからリフローを行った。
本例では、本発明に係る処理法により形成された粘着性の防錆性皮膜のフラックス効果を例証する。
実施例2を繰り返したが、プリフラックス処理により粘着性の防錆性皮膜を形成した後、フラックス機能を有する化合物での処理は行わなかった。
Claims (11)
- 金属回路の一部がはんだ付けのために基板表面に露出し、この金属回路の露出部が粘着性を有する防錆性皮膜で被覆されているはんだ付け用回路基板であって、該防錆性皮膜が、下記化合物群(I)から選ばれた少なくとも一種の化合物と、前記の露出した金属回路中の金属との反応により形成されたものからなり、その粘着性を保持したまま、その表層から取り込まれた、フラックス作用を示す有機ハロゲン化物を含有していることを特徴とする、はんだ付け用回路基板。
化合物群(I):ナフトトリアゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、メルカプトベンゾチアゾール系化合物及びベンゾチアゾールチオ脂肪酸系化合物 - 前記金属回路がCu、Cu合金、Sn又はSn合金から形成されている、請求項1に記載の回路基板。
- 前記防錆性皮膜が厚さ0.5μm以上、10μm以下である、請求項1または2に記載の回路基板。
- 前記有機ハロゲン化物の水溶液を前記防錆性皮膜の表面に塗布した、請求項1ないし3のいずれかに記載の回路基板。
- 前記有機ハロゲン化物が、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,2'−ビス(ブロモメチル)−1,3−プロパンジオール、およびトリス(2,3−ジブロモプロピル)イソシアヌレートよりなる群から選ばれた少なくとも1種である、請求項1ないし4のいずれかに記載の回路基板。
- 金属回路の一部がはんだ付けのために基板表面に露出しているはんだ付け用回路基板を、該金属回路中の金属と反応して粘着性の防錆性皮膜を形成することができる、下記化合物群(I)から選ばれた少なくとも一種の防錆剤化合物を含有する処理液で処理して、金属回路の露出部の表面に粘着性の防錆性皮膜を形成し、次いでこの粘着性の防錆性皮膜を、該防錆剤化合物と反応性を持たない、フラックス作用を示す化合物を含有する処理液と接触させることにより粘着性の防錆性皮膜中に該フラックス作用を示す、有機ハロゲン化物を取り込むことを特徴とする、はんだ付け用回路基板の処理方法。
化合物群(I):ナフトトリアゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、メルカプトベンゾチアゾール系化合物及びベンゾチアゾールチオ脂肪酸系化合物 - 前記金属回路がCu、Cu合金、Sn又はSn合金から形成されている、請求項6に記載の方法。
- 前記防錆性皮膜が厚さ0.5μm以上、10μm以下である、請求項6または7に記載の方法。
- 前記有機ハロゲン化物が2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,2'−ビス(ブロモメチル)−1,3−プロパンジオール、およびトリス(2,3−ジブロモプロピル)イソシアヌレートよりなる群から選ばれた少なくとも1種である、請求項8に記載の方法。
- 請求項1または2に記載の回路基板における金属回路の露出部上に形成された粘着性を有する防錆性皮膜にはんだ粉末またははんだボールを付着させ、次いで、フラックスを塗布することなく、はんだの液相線温度以上の温度に加熱して、該露出部上にはんだ層またははんだバンプを形成することを特徴とする、はんだ層またははんだバンプの形成方法。
- はんだが鉛フリーはんだである、請求項10に記載の方法。
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