JP4897697B2 - 導電性接着剤 - Google Patents
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Description
表1の各実施例に示す組成を有するように、AgとAg以外の金属との合金組成を調製し、その合金を粒状化して、約5μmの平均粒子径を有する金属フィラー粒子を作製した。この金属フィラー粒子80重量部を、熱硬化性エポキシ樹脂20重量部に添加して、本願第1の発明の導電性接着剤を作製した。本願の発明に用いるのに好ましいエポキシ樹脂として、例えば、エピコート828、エピコート807(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を挙げることができる。この実施の形態では、熱硬化性エポキシ樹脂にはエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤には2PHZ(四国化成製)を用いた。
尚、各実施例について、実施例の番号の後に「−a」の記号を付した例は、金属フィラー粒子の調製段階で、Agフィラー粒子の表面にSn含有金属の被覆層を設けた例であり、
実施例の番号の後に「−b」の記号を付した例は、金属フィラー粒子の調製段階で、Sn含有金属の被覆層を形成後、熱処理した例である。
各実施例の導電性接着剤を、JISZ3197に規定されている櫛形電極に印刷し、150℃にて10分間で硬化した。電極間にはDC45〜50Vを印加し、85℃−85%の恒温恒湿層で1000時間放置した後、接合部にAgのマイグレーションが発生するか否かを調べた。Agのマイグレーションが発生したか否かは、拡大鏡(20倍以上)で確認し、一方の極から他方の極への樹枝状の金属の生成が見られれば、マイグレーションの発生とみなした。
使用した金属フィラー粒子成分(重量%)とマイグレーション発生の結果を表1に示す。
○=マイグレーションは発生しなかった
×=マイグレーションが発生した
このマイグレーションの発生の評価方法を、以下のすべての実施の形態に適用する。
表2の各実施例に示す組成を有するように、SnとSn以外の金属との合金組成を調製し、その合金を粒状化して、約5μmの平均粒子径を有する合金フィラー粒子を作製した。この合金フィラー粒子80重量部を、熱硬化性エポキシ樹脂20重量部に添加して、本願第5の発明の導電性接着剤を作製した。熱硬化性エポキシ樹脂にはエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤には2PHZ(四国化成製)を用いた。
各実施例の導電性接着剤を用いて、マイグレーションが発生するか否かを、実施の形態1と同様にして調べた。使用した金属フィラー粒子成分(重量%)とマイグレーション発生の結果を表2に示す。
表3の各実施例に示す組成を有する金属を用いてメッキ法により、約5μmの平均粒子径を有するAgフィラー粒子の表面に金属の被覆層を形成した。これを各実施例の金属の組成の融点を約20℃上回る温度(融点+約20℃の温度)に加熱処理して、各金属フィラー粒子の少なくともAgフィラー粒子の表面においてAgと被覆層の金属成分とを合金化させて、本願第4の発明の金属フィラー粒子成分を作製した。Agと被覆層の金属とを10:1の重量比で使用した。このようにして得られた金属フィラー粒子成分80重量部を、熱硬化性エポキシ樹脂20重量部に添加して、本願第4の発明の導電性接着剤を作製した。熱硬化性エポキシ樹脂にはエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤には2PHZ(四国化成製)を用いた。
各実施例の導電性接着剤を用いて、Agのマイグレーションが発生するか否かを、実施の形態1と同様にして調べた。使用した金属フィラー粒子成分(重量%)とマイグレーション発生の結果を表3に示す。
表1の各実施例に示す組成(Agを除く)を有する金属からなる金属フィラー粒子であって、約5μmの平均粒子径を有する粒子を作製し、約5μmの平均粒子径を有するAgフィラー粒子と混合して、本願第3の発明の金属フィラー粒子成分を作製した。金属フィラー粒子とAgフィラー粒子とを1:10の重量比で使用した。この金属フィラー粒子成分80重量部を、熱硬化性エポキシ樹脂20重量部に添加して、本願第3の発明の導電性接着剤を作製した。熱硬化性エポキシ樹脂にはエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤には2PHZ(四国化成製)を用いた。
各実施例の導電性接着剤を用いて、Agのマイグレーションが発生するか否かを、実施の形態1と同様にして調べた。使用した金属フィラー粒子成分(重量%)とマイグレーション発生の結果は表2と同様であった。
表4の各実施例に示す組成を有するSnとSn以外の金属との合金組成を調製し、その合金を粒状化して、約5μmの平均粒子径を有する合金フィラー粒子を作製した。これとは別に、約5μmの平均粒子径を有するSnフィラー粒子を供給し、上記合金フィラー粒子とSnフィラー粒子とを1:10の重量比で混合して、本願第5の発明に変更を加えた態様の金属フィラー粒子成分を作製した。このようにして得られた金属フィラー粒子成分80重量部を、熱硬化性エポキシ樹脂20重量部に添加して、導電性接着剤を作製した。熱硬化性エポキシ樹脂にはエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤には2PHZ(四国化成製)を用いた。
各実施例の導電性接着剤を用いて、回路基板にICチップを接合した。得られた回路基板の処理、及び接合部にAgのマイグレーションが発生するか否かを、実施の形態1と同様にして調べた。使用した金属フィラー粒子成分(重量%)とマイグレーション発生の結果を表4に示す。
この実施の形態では、熱硬化性樹脂用の硬化剤として、Cu、Sn、Ni、Zn及びAlの群から選ばれる金属錯体を含む硬化剤を使用する場合に、さらにAgのマイグレーション抑制効果が得られることを確認した。樹脂成分は、次のようにして調製した。熱硬化性樹脂としてエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を用いた。硬化剤には、表4に示すように、それぞれCu、Sn、Ni、Zn又はAlの金属錯体(アジピン酸の金属塩)を含む硬化剤を用いた。硬化剤の熱硬化性樹脂に対する重量比は、20:80とした。
各実施例の導電性接着剤を用いて、接合部にAgのマイグレーションが発生するか否かを、実施の形態1と同様にして調べた。また、金属成分にAgを用い、熱硬化性エポキシ樹脂にはエピコート828(ジャパンエポキシレジン(JER)製)を、硬化剤には2PHZ(四国化成製)を用いた。使用した導電性接着剤の組成とマイグレーション発生の結果を表4に示す。この実施の形態によれば、マイグレーション発生を抑制することができるだけではなく、硬化特性及び時間に関する性質も向上した。
Claims (9)
- Agフィラー粒子の表面に設けられたSn含有金属の被覆層を熱処理して、少なくとも前記Agフィラー粒子の表面に合金層を設けた金属フィラー粒子成分、並びに樹脂成分を含んでなることを特徴とする導電性接着剤。
- 請求項1に記載の金属フィラー粒子と、Snフィラー粒子とを混合してなる金属フィラー粒子成分、並びに樹脂成分を含んでなることを特徴とする導電性接着剤。
- Sn含有金属が、Cu、In、Bi、Ni及びAgの群から選ばれる少なくとも1つの金属とSnとの合金であることを特徴とする請求項1または2に記載の導電性接着剤。
- Sn含有金属のSn重量%が96.5%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電性接着剤。
- 熱処理温度がSn含有金属の融点以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の導電性接着剤。
- 金属錯体を含む硬化剤をさらに含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の導電性接着剤。
- 金属錯体がアジピン酸の金属塩であることを特徴とする請求項6に記載の導電性接着剤。
- アジピン酸の金属塩の金属がCu、Sn、Ni,Zn、Alのいずれか1つであることを特徴とする請求項7に記載の導電性接着剤。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の導電性接着剤を用いて電気電子部品が接着されていることを特徴とする回路基板。
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