JP4891236B2 - 有機elパネルの製造方法、有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
有機薄膜を水分から保護する構造を簡単に説明する。
上記封止缶111を用いた有機EL表示装置では、透明な支持基板101を用いれば、発光部103が放射する光が支持基板101を透過するので、支持基板101を表示面とすることができる。しかし、支持基板101とは反対側を表示面とすることはできない。また、封止樹脂112を透過する水分による劣化は避けることができない。
また、本発明は、前記トリメチルアルミニウムの導入後、前記オゾンを導入する前に、前記真空雰囲気への前記トリメチルアルミニウムの導入を停止し、前記真空雰囲気を真空排気して残留する前記トリメチルアルミニウムを真空排気する有機ELパネルの製造方法である。
また、本発明は、前記オゾンの導入後、前記トリメチルアルミニウムを導入する前に、前記真空雰囲気への前記オゾンの導入を停止し、前記真空雰囲気を真空排気して残留する前記オゾンを真空排気する有機ELパネルの製造方法である。
また、本発明は、上記いずれかの有機ELパネルの製造方法の前記第二の保護膜形成工程後に、前記有機ELパネルに、封止パネルを重ね合わせて有機EL表示装置を製造する重ね合わせ工程が設けられた有機EL表示装置の製造方法である。
トリメチルアルミニウムはキャリアガス中に気体や蒸気として含有させ、真空雰囲気中に導入することができる。
11……支持基板
12……発光部
15……第一の保護膜
16……第二の保護膜
20……封止パネル
10d……有機ELパネル
図1(a)の符号10aは本発明に用いることができる成膜対象物であり、支持基板11を有している。支持基板11上には、仕切13によって分離された発光部12が配置されている。発光部12は、支持基板11側から、アノード電極膜(下部電極)と、有機発光層と、電子注入層と、カソード電極膜(上部電極)とが積層されて構成されている。アノード電極膜にはトランジスタが接続されているが、そのトランジスタ及びトランジスタに接続された配線は図示を省略する。
成膜対象物10aの表面には、仕切13の上部と発光部12の最上層のカソード電極膜が露出されている。この露出部分によって成膜面が構成されている。
形成された第一の保護膜15は、膜厚2000ÅのSiON膜である。第一の保護膜15の成長中は、成膜対象物10aを冷却し、発光部12中の有機薄膜が、そのガラス転移温度よりも低温を維持するようにしておく。
図3の符号70はその第二の成膜装置であり、真空槽71と、オゾンガス供給装置75とトリメチルアルミニウム供給装置81とを有している。
有色部22上と有色部22の間には平坦化膜23が形成されており、有色部22の厚みによる凹凸が平坦化されている。
例えば、本発明で形成されるAl2O3膜は、カラーフィルターの他、発光部12が、赤、青、緑に発光する場合も含まれる。
Claims (4)
- 支持基板と、
前記支持基板上に配置された発光部と、
前記発光部上に配置された電気絶縁性の第一の保護膜とを有し、封止パネルと貼りあわされて有機EL表示装置を構成する有機ELパネルであって、
前記第一の保護膜を形成する前の前記有機ELパネルを成膜装置内に搬入し、
前記成膜装置内にシリコン原子を含む第一の原料ガスと、窒素原子を含む第二の原料ガスと、酸素ガスを導入し、SiON膜から成る第一の保護膜を形成する第一の保護膜形成工程と、
前記有機ELパネルを前記第一の保護膜が露出した状態で真空雰囲気に置き、
前記真空雰囲気中にトリメチルアルミニウムとオゾンとを交互に導入し、
前記第一の保護膜の表面にアルミナ薄膜から成る第二の保護膜を形成する第二の保護膜形成工程と、を有する有機ELパネルの製造方法。 - 前記トリメチルアルミニウムの導入後、前記オゾンを導入する前に、前記真空雰囲気への前記トリメチルアルミニウムの導入を停止し、前記真空雰囲気を真空排気して残留する前記トリメチルアルミニウムを真空排気する請求項1記載の有機ELパネルの製造方法。
- 前記オゾンの導入後、前記トリメチルアルミニウムを導入する前に、前記真空雰囲気への前記オゾンの導入を停止し、前記真空雰囲気を真空排気して残留する前記オゾンを真空排気する請求項1記載の有機ELパネルの製造方法。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の有機ELパネルの製造方法の前記第二の保護膜形成工程後に、前記有機ELパネルに、封止パネルを重ね合わせて有機EL表示装置を製造する重ね合わせ工程が設けられた有機EL表示装置の製造方法。
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