JP2004288463A5 - 蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】
搬送室を介して連結された、複数の成膜室と、
前記複数の成膜室にそれぞれ連結された、設置室と、を有する蒸着装置であって、
前記複数の成膜室はそれぞれ、前記成膜室内を減圧雰囲気とする排気手段、
蒸着源を加熱する手段を有する蒸着源ホルダ、及び前記蒸着源ホルダを前記成膜室内で移動させる手段を有し、
前記設置室は、前記蒸着源ホルダを、前記設置室内及び前記成膜室と前記設置室との間で移動させる手段を有し、
前記複数の成膜室ではそれぞれ、積層構造を有する一つの発光素子の異なる層が蒸着される
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項2】
搬送室を介して連結された、複数の成膜室と、
前記複数の成膜室にそれぞれ連結された、設置室と、を有する蒸着装置であって、
前記複数の成膜室はそれぞれ、前記成膜室内を減圧雰囲気とする排気手段、
蒸着源を加熱する手段及びシャッターを有する蒸着源ホルダ、並びに前記蒸着源ホルダを前記成膜室内で移動させる手段を有し、
前記設置室は、前記蒸着源ホルダを、前記設置室内及び前記成膜室と前記設置室との間で移動させる手段を有し、
前記複数の成膜室ではそれぞれ、積層構造を有する一つの発光素子の異なる層が蒸着される
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項3】
請求項1または請求項2において、
前記設置室は、膜厚計を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記蒸着装置は、前記成膜室に連結された、前記成膜室内を減圧雰囲気とする排気手段、及び材料ガス、不活性ガス、またはクリーニングガスを導入する手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項5】
請求項4において、
前記材料ガス、不活性ガス、またはクリーニングガスを導入する手段は、プラズマ発生手段によりラジカル化された材料ガス、不活性ガス、またはクリーニングガスを導入する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項6】
請求項4または請求項5のいずれか一において、
前記材料ガスは、モノシラン、ジシラン、トリシラン、SiF4、GeH4、GeF4、SnH4、CH4、C2H2、C2H4、またはC6H6から選ばれた一種若しくは複数種のガスである
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項7】
請求項4乃至請求項6のいずれか一において、
前記不活性ガスは、Ar、またはN 2 から選ばれた一種若しくは複数種のガスである
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項8】
請求項4乃至請求項7のいずれか一において、
前記クリーニングガスは、H 2 、F 2 、NF 3 、またはO 2 から選ばれた一種若しくは複数種のガスである
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項9】
請求項1乃至請求項8のいずれか一において、
前記蒸着源ホルダは、成膜室内をX方向、Y方向、Z方向または回転方向となるθ方向に移動可能である
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項10】
請求項1乃至請求項9のいずれか一において、
前記成膜室は、前記成膜室内を区切るシャッターを有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項11】
請求項1乃至請求項10のいずれか一において、
前記蒸着装置は、前記設置室に連結された、前記設置室内を減圧雰囲気とする排気手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項12】
請求項1乃至請求項11のいずれか一において、
前記設置室は、減圧雰囲気で蒸着材料が収納された容器から蓋を外し、前記蒸着源ホルダへ設置させる手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項13】
請求項1乃至請求項12において、
前記搬送室は、前記搬送室を減圧雰囲気とする排気手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項14】
請求項1乃至請求項13のいずれか一において、
前記蒸着装置は、前記複数の成膜室と搬送室を介して連結された陰極または陽極を成膜する処理室、封止基板を貼り付ける処理室、及び前記封止基板に光学フィルムを貼り付ける処理室を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項15】
請求項1乃至14のいずれか一において、
前記成膜室は、320mm×400mm、370mm×470mm、550mm×650mm、600mm×720mm、680mm×880mm、1000mm×1200mm、1100mm×1250mm、または1150mm×1300mmの大面積基板を固定する手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項16】
搬送室を介して連結された、第1乃至第3の成膜室と、
前記第1乃至第3の成膜室にそれぞれ連結された第1乃至第3の設置室とを有する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記第1の設置室で正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第1の蒸着源ホルダを、前記第1の成膜室へ移動して正孔輸送層を形成し、
前記正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第2の成膜室へ移動し、
前記第2の設置室で発光材料が入った蒸着源が設置された第2の蒸着源ホルダを、前記第2の成膜室へ移動して前記被蒸着物に発光層を形成し、
前記発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第3の成膜室へ移動し、
前記第3の設置室で電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第3の蒸着源ホルダを、前記第3の成膜室へ移動して前記被蒸着物に電子輸送層を形成する
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項17】
搬送室を介して連結された、第1乃至第3の成膜室と、
前記第1乃至第3の成膜室にそれぞれ連結された第1乃至第3の設置室とを有する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記第1の設置室で白色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第1の蒸着源ホルダを、前記第1の成膜室へ移動して前記白色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記白色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第2の成膜室へ移動し、
前記第2の設置室で前記白色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第2の蒸着源ホルダを、前記第2の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記白色発光素子の発光層を形成し、
前記白色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第3の成膜室へ移動し、
前記第3の設置室で前記白色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第3の蒸着源ホルダを、前記第3の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記白色発光素子の電子輸送層を形成する
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項18】
複数の搬送室を介して連結された、第1乃至第10の成膜室と、
前記第1乃至第9の成膜室にそれぞれ連結された第1乃至第10の設置室とを有する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記第1の設置室で赤色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第1の蒸着源ホルダを、前記第1の成膜室へ移動して前記赤色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記赤色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第2の成膜室へ移動し、
前記第2の設置室で前記赤色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第2の蒸着源ホルダを、前記第2の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記赤色発光素子の発光層を形成し、
前記赤色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第3の成膜室へ移動し、
前記第3の設置室で前記赤色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第3の蒸着源ホルダを、前記第3の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記赤色発光素子の電子輸送層を形成し、
前記赤色発光素子の電子輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第4の成膜室へ移動し、
前記第4の設置室で緑色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第4の蒸着源ホルダを、前記第4の成膜室へ移動して前記緑色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記緑色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第5の成膜室へ移動し、
前記第5の設置室で前記緑色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第5の蒸着源ホルダを、前記第5の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記緑色発光素子の発光層を形成し、
前記緑色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第6の成膜室へ移動し、
前記第6の設置室で前記緑色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第6の蒸着源ホルダを、前記第6の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記緑色発光素子の電子輸送層を形成し、
前記緑色発光素子の電子輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第7の成膜室へ移動し、
前記第7の設置室で青色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第7の蒸着源ホルダを、前記第7の成膜室へ移動して前記青色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記青色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第8の成膜室へ移動し、
前記第8の設置室で前記青色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第8の蒸着源ホルダを、前記第8の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記青色発光素子の発光層を形成し、
前記青色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第9の成膜室へ移動し、
前記第9の設置室で前記青色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第9の蒸着源ホルダを、前記第9の成膜室へ移動し、前記被蒸着物に前記青色発光素子の電子輸送層を形成し、
前記青色発光素子の電子輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第10の成膜室へ移動し、
前記第10の設置室で前記赤色、緑色、及び青色の発光素子に共通する電子注入性材料が入った蒸着源が設置された第10の蒸着源ホルダを、前記第10の成膜室へ移動して前記被蒸着物に電子注入層を形成する
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項19】
請求項16乃至請求項18のいずれか一において、
前記蒸着源ホルダを加熱して前記蒸着源の蒸着速度を安定させた後、前記蒸着源ホルダを成膜室へ移動する
ことを特徴する蒸着方法。
【請求項1】
搬送室を介して連結された、複数の成膜室と、
前記複数の成膜室にそれぞれ連結された、設置室と、を有する蒸着装置であって、
前記複数の成膜室はそれぞれ、前記成膜室内を減圧雰囲気とする排気手段、
蒸着源を加熱する手段を有する蒸着源ホルダ、及び前記蒸着源ホルダを前記成膜室内で移動させる手段を有し、
前記設置室は、前記蒸着源ホルダを、前記設置室内及び前記成膜室と前記設置室との間で移動させる手段を有し、
前記複数の成膜室ではそれぞれ、積層構造を有する一つの発光素子の異なる層が蒸着される
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項2】
搬送室を介して連結された、複数の成膜室と、
前記複数の成膜室にそれぞれ連結された、設置室と、を有する蒸着装置であって、
前記複数の成膜室はそれぞれ、前記成膜室内を減圧雰囲気とする排気手段、
蒸着源を加熱する手段及びシャッターを有する蒸着源ホルダ、並びに前記蒸着源ホルダを前記成膜室内で移動させる手段を有し、
前記設置室は、前記蒸着源ホルダを、前記設置室内及び前記成膜室と前記設置室との間で移動させる手段を有し、
前記複数の成膜室ではそれぞれ、積層構造を有する一つの発光素子の異なる層が蒸着される
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項3】
請求項1または請求項2において、
前記設置室は、膜厚計を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記蒸着装置は、前記成膜室に連結された、前記成膜室内を減圧雰囲気とする排気手段、及び材料ガス、不活性ガス、またはクリーニングガスを導入する手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項5】
請求項4において、
前記材料ガス、不活性ガス、またはクリーニングガスを導入する手段は、プラズマ発生手段によりラジカル化された材料ガス、不活性ガス、またはクリーニングガスを導入する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項6】
請求項4または請求項5のいずれか一において、
前記材料ガスは、モノシラン、ジシラン、トリシラン、SiF4、GeH4、GeF4、SnH4、CH4、C2H2、C2H4、またはC6H6から選ばれた一種若しくは複数種のガスである
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項7】
請求項4乃至請求項6のいずれか一において、
前記不活性ガスは、Ar、またはN 2 から選ばれた一種若しくは複数種のガスである
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項8】
請求項4乃至請求項7のいずれか一において、
前記クリーニングガスは、H 2 、F 2 、NF 3 、またはO 2 から選ばれた一種若しくは複数種のガスである
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項9】
請求項1乃至請求項8のいずれか一において、
前記蒸着源ホルダは、成膜室内をX方向、Y方向、Z方向または回転方向となるθ方向に移動可能である
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項10】
請求項1乃至請求項9のいずれか一において、
前記成膜室は、前記成膜室内を区切るシャッターを有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項11】
請求項1乃至請求項10のいずれか一において、
前記蒸着装置は、前記設置室に連結された、前記設置室内を減圧雰囲気とする排気手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項12】
請求項1乃至請求項11のいずれか一において、
前記設置室は、減圧雰囲気で蒸着材料が収納された容器から蓋を外し、前記蒸着源ホルダへ設置させる手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項13】
請求項1乃至請求項12において、
前記搬送室は、前記搬送室を減圧雰囲気とする排気手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項14】
請求項1乃至請求項13のいずれか一において、
前記蒸着装置は、前記複数の成膜室と搬送室を介して連結された陰極または陽極を成膜する処理室、封止基板を貼り付ける処理室、及び前記封止基板に光学フィルムを貼り付ける処理室を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項15】
請求項1乃至14のいずれか一において、
前記成膜室は、320mm×400mm、370mm×470mm、550mm×650mm、600mm×720mm、680mm×880mm、1000mm×1200mm、1100mm×1250mm、または1150mm×1300mmの大面積基板を固定する手段を有する
ことを特徴とする蒸着装置。
【請求項16】
搬送室を介して連結された、第1乃至第3の成膜室と、
前記第1乃至第3の成膜室にそれぞれ連結された第1乃至第3の設置室とを有する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記第1の設置室で正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第1の蒸着源ホルダを、前記第1の成膜室へ移動して正孔輸送層を形成し、
前記正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第2の成膜室へ移動し、
前記第2の設置室で発光材料が入った蒸着源が設置された第2の蒸着源ホルダを、前記第2の成膜室へ移動して前記被蒸着物に発光層を形成し、
前記発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第3の成膜室へ移動し、
前記第3の設置室で電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第3の蒸着源ホルダを、前記第3の成膜室へ移動して前記被蒸着物に電子輸送層を形成する
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項17】
搬送室を介して連結された、第1乃至第3の成膜室と、
前記第1乃至第3の成膜室にそれぞれ連結された第1乃至第3の設置室とを有する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記第1の設置室で白色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第1の蒸着源ホルダを、前記第1の成膜室へ移動して前記白色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記白色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第2の成膜室へ移動し、
前記第2の設置室で前記白色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第2の蒸着源ホルダを、前記第2の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記白色発光素子の発光層を形成し、
前記白色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第3の成膜室へ移動し、
前記第3の設置室で前記白色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第3の蒸着源ホルダを、前記第3の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記白色発光素子の電子輸送層を形成する
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項18】
複数の搬送室を介して連結された、第1乃至第10の成膜室と、
前記第1乃至第9の成膜室にそれぞれ連結された第1乃至第10の設置室とを有する蒸着装置を用いた蒸着方法であって、
前記第1の設置室で赤色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第1の蒸着源ホルダを、前記第1の成膜室へ移動して前記赤色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記赤色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第2の成膜室へ移動し、
前記第2の設置室で前記赤色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第2の蒸着源ホルダを、前記第2の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記赤色発光素子の発光層を形成し、
前記赤色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第3の成膜室へ移動し、
前記第3の設置室で前記赤色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第3の蒸着源ホルダを、前記第3の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記赤色発光素子の電子輸送層を形成し、
前記赤色発光素子の電子輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第4の成膜室へ移動し、
前記第4の設置室で緑色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第4の蒸着源ホルダを、前記第4の成膜室へ移動して前記緑色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記緑色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第5の成膜室へ移動し、
前記第5の設置室で前記緑色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第5の蒸着源ホルダを、前記第5の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記緑色発光素子の発光層を形成し、
前記緑色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第6の成膜室へ移動し、
前記第6の設置室で前記緑色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第6の蒸着源ホルダを、前記第6の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記緑色発光素子の電子輸送層を形成し、
前記緑色発光素子の電子輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第7の成膜室へ移動し、
前記第7の設置室で青色発光素子の正孔輸送性材料が入った蒸着源が設置された第7の蒸着源ホルダを、前記第7の成膜室へ移動して前記青色発光素子の正孔輸送層を形成し、
前記青色発光素子の正孔輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第8の成膜室へ移動し、
前記第8の設置室で前記青色発光素子の発光材料が入った蒸着源が設置された第8の蒸着源ホルダを、前記第8の成膜室へ移動して前記被蒸着物に前記青色発光素子の発光層を形成し、
前記青色発光素子の発光層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第9の成膜室へ移動し、
前記第9の設置室で前記青色発光素子の電子輸送性材料が入った蒸着源が設置された第9の蒸着源ホルダを、前記第9の成膜室へ移動し、前記被蒸着物に前記青色発光素子の電子輸送層を形成し、
前記青色発光素子の電子輸送層が形成された被蒸着物を、大気にふれさせることなく前記第10の成膜室へ移動し、
前記第10の設置室で前記赤色、緑色、及び青色の発光素子に共通する電子注入性材料が入った蒸着源が設置された第10の蒸着源ホルダを、前記第10の成膜室へ移動して前記被蒸着物に電子注入層を形成する
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項19】
請求項16乃至請求項18のいずれか一において、
前記蒸着源ホルダを加熱して前記蒸着源の蒸着速度を安定させた後、前記蒸着源ホルダを成膜室へ移動する
ことを特徴する蒸着方法。
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JP2007220360A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Tokyo Electron Ltd | 発光素子、発光素子の製造方法および基板処理装置 |
JP4859485B2 (ja) * | 2006-02-27 | 2012-01-25 | 三菱重工業株式会社 | 有機半導体製造装置 |
JP5173699B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2013-04-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 有機elデバイス製造装置 |
JP5424972B2 (ja) * | 2010-04-23 | 2014-02-26 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
JP2013209702A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Nitto Denko Corp | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP6937549B2 (ja) | 2016-06-10 | 2021-09-22 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 発光素子の製造装置 |
JP6830772B2 (ja) | 2016-08-04 | 2021-02-17 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 積層膜の製造装置、及び積層膜の製造方法 |
-
2003
- 2003-03-20 JP JP2003078667A patent/JP2004288463A/ja not_active Withdrawn
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