JP4885577B2 - 複層液晶セルの製造方法 - Google Patents
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層セル形成工程と、2枚の外ガラス基板のいずれか、または両方に第1のスクライブクラックを形成し、この第1のスクライブクラックに基づき外ガラス基板における不要な小片を刳り取る基板部分除去工程と、基板部分除去工程で剥き出しになった中ガラス基板に第2のスクライブクラックを形成し、中ガラス基板を切断した後に、単個の複層液晶セルを切り出す複層液晶セル形成工程とを含む製造方法である。
易くする特徴を持ったベルデックス社製のクラックカッティングシステム(商品名)を、さらに、スクライブホイールとして、高浸透スクライブが可能なホイールとして一般に知られる三ツ星ダイヤモンド工業社製のペネットホイール(商品名)を用いた。このペネットホイールは、ガラス基板の厚み方向に8割以上のクラックを入れることができるものである。そして、このペネットホイールとクラックカッティングシステムを組み合わせることにより、ガラス基板の厚み方向に9割以上のクラックを入れることが実現できる。上述した様に、本発明の製造方法の特徴となる工程である、基板部分除去工程を適用するためには、外ガラス基板11に比較的薄い板厚0.3mmのガラス基板を用いて、9割以上のクラックを入れることができる様になる。
に載置するガラス基板に対して所定の角度θ傾けて第1のスクライブクラックを形成することができる様になる。
ライブクラックを形成する必要がないため、複層液晶セル17内にガラスチップやゴミの混入する心配が無く、さらに、大判複層セル15から多数個取りで複層液晶セル17を作成できるため、効率よく非常に歩留まりの高い高品位の複層液晶セル17の製造を実現できるようになる。
先に説明した図6(b)に示すように、基板部分除去工程にて、外ガラス基板11の厚み方向にほぼ完全なスクライブクラックを形成でき、かつ図2(b)に示すように、大判複層セル15を外ガラス基板11が凸となるように、所定の曲率で反らせることができる
のであれば、不要な小片21を容易に刳り取ることができる。したがって、上記2つの要件を満たすのであれば、この基板部分除去工程を行う外ガラス基板11のみに薄い基板を用いて、他のガラス基板は一般的に液晶パネルに用いられる比較的厚い基板を用いても同様に複層液晶セルを構成することができる。
第2の構成例は、先の構成例と同様に、外ガラス基板11に0.3mmの板厚のガラス基板を用い、中ガラス基板12と外ガラス基板13に0.5mmの板厚のガラス基板を用いる。そして、複層液晶セル17における第1の液晶セルと第2の液晶セルのセルギャップをともに同じとした構成である。
本実施例で説明する製造方法は、先に示した実施例1の製造方法に加えて、特に、外ガラス基板を薄くするための外ガラス基板研磨工程を含むものである。これにより、本実施例に記載の製造方法を採用すれば、最終的に得られるセルの厚みを薄くした複層液晶セルを製造することができる。
例えば、300mm×300mmの第1の大判複層セル115を製造するためには、外ガラス基板11、13と中ガラス基板12の厚さを、一連の製造プロセスにおける取り扱いの都合上、各々0.3mm以上のガラス基板を用いるのが好ましいとされている。それ故に、2枚の外ガラス基板11、13の間に中ガラス基板12を所定の間隙をもって貼り合わせた第1の大判複層セル115は、厚さが、0.9mm以上になってしまうこととなる。そこで、この0.9mm厚の第1の大判複層セル115を0.6mm厚とするためには、第1の大判複層セル115を形成した後に、外ガラス基板11、13の両側表面を薄くする研磨工程を行わなくてはならない。
て複層液晶セル17を形成するので、先に示した実施例1の製造方法で形成された複層液晶セルに比べて、より液晶セルの厚みを薄くした複層液晶セル17を容易に製造することができる。
12 中ガラス基板
13 外ガラス基板
14 セル
15 大判複層セル
16 短冊複層セル
17 複層液晶セル
21 小片
31 スクライブヘッド部
32 ベース板
33 移動体
34 傾斜冶具
35 ホイールホルダ
36 ステージ
41 貫通孔
42 ねじ穴
51 スクライブホイール
61 斜めクラック
101 外周シール
102 開口部
103 封孔材
105 スクライブクラック
115 第1の大判複層セル
116 第2の大判複層セル
Claims (5)
- 2枚の外ガラス基板と、その2枚の外ガラス基板の間に配した少なくとも1枚の中ガラス基板とを積層配置し、各ガラス基板の間隙に液晶層を配した複層液晶セルの製造方法において、
前記2枚の外ガラス基板の間に少なくとも1枚の中ガラス基板を所定の間隙をもって貼り合わせて複数個の複層セルを形成する大判複層セル形成工程と、
前記2枚の外ガラス基板のうち一方の外ガラス基板に第1のスクライブクラックを形成し、前記第1のスクライブクラックに基づき前記一方の外ガラス基板における不要な小片を刳り取り、これにより剥き出しになった前記中ガラス基板と他方の外ガラス基板とに第2のスクライブクラックを形成し、前記中ガラス基板と前記他方の外ガラス基板の両方を切断して、複数個の前記複層セルが短冊状に配列した短冊複層セルを得る基板部分除去工程と、
前記短冊複層セルの個々のセル毎に切断して単個の複層液晶セルを切り出す複層液晶セル形成工程と、
を含むことを特徴とする複層液晶セルの製造方法。 - 前記基板部分除去工程で刳り取られた不要な小片の断面形状は、前記液晶層に接するガラス基板面を下底、前記液晶層とは反対側のガラス基板面を上底とした場合に、前記上底よりも前記下底のサイズを小とした台形形状であることを特徴とする請求項1に記載の複層液晶セルの製造方法。
- 前記基板部分除去工程は、外ガラス基板表面の鉛直方向に対して傾斜角をもった前記第1のスクライブクラックを前記外ガラス基板に浸透させてから、前記不要な小片を刳り取ることを特徴とする請求項2に記載の複層液晶セルの製造方法。
- 前記大判複層セル形成工程は、基板の両端に予めスクライブラインを設けた前記中ガラス基板を挟持して、複数個のシール材と、当該複数個のシール材の全てを囲繞する外周シールを介して所定の間隙をもって前記2枚の外ガラス基板を貼り合わせるセル形成工程と
前記2枚の外ガラス基板を研磨して、基板の厚みを薄くする外ガラス基板研磨工程と
前記外周シールにおける2辺を、前記スクライブラインに沿って前記外ガラス基板とともに前記中ガラス基板を切断する基板切断工程と、
を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の複層液晶セルの製造方法。 - 前記外周シールには、開口部が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の複層液晶セルの製造方法。
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