JP4776907B2 - 光学フィルタの製造方法 - Google Patents

光学フィルタの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4776907B2
JP4776907B2 JP2004301269A JP2004301269A JP4776907B2 JP 4776907 B2 JP4776907 B2 JP 4776907B2 JP 2004301269 A JP2004301269 A JP 2004301269A JP 2004301269 A JP2004301269 A JP 2004301269A JP 4776907 B2 JP4776907 B2 JP 4776907B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
wafer
laminated
optical filter
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004301269A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005183931A (ja
Inventor
元生 高田
和正 安達
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Dempa Kogyo Co Ltd filed Critical Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority to JP2004301269A priority Critical patent/JP4776907B2/ja
Priority to US10/983,940 priority patent/US7166487B2/en
Publication of JP2005183931A publication Critical patent/JP2005183931A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4776907B2 publication Critical patent/JP4776907B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/46Systems using spatial filters

Description

本発明は光学ローパスフィルタ(以下、光学フィルタとする)の製造方法を技術分野とし、特に品質を良好に維持した光学フィルタの製造方法に関する。
(発明の背景)光学フィルタはカメラ等の撮像素子の前方に配置され、擬似信号を抑止して色ボケ等を解消する素子として知られている。近年では、光学製品も増大して需要も多く、光学特性を確実に維持すること、例えば透過波面精度が求められている。
(従来技術の一例)第6図及び第7図は光学フィルタの製造方法を説明する図で、第6図は光学フィルタの断面図、第7図(a)は光学ウェハの断面図、同図(b)は積層した光学ウェハの断面図、同図(c)同切断後の平面図である。
光学フィルタは光学材料としての結晶(例えば水晶)、プラスチック及びIR−cutガラスを含むガラス等用いてなる。そして、光学材料を単一のチップ状として、あるいは図に示したように複数の例えば3枚の光学チップ1(abc)を積層して形成される。特に、光学フィルタの場合は、各光学チップ1(abc)の両主面に赤外線カット用の光学薄膜2を有し、接着剤3によって接合してなる。
通常では、先ず、光学材料を切断してなる平板状の3枚の光学ウェハ1(ABC)の両主面を鏡面研磨し、赤外線カット用の光学薄膜2をそれぞれの両主面に形成する。光学薄膜2は多層例えば図示しない3層とし、一層目をAl23、二層目をZrO2、三層目をMgF2等として蒸着等によって形成される。
そして、光学薄膜2の形成された3枚の光学ウェハ1(ABC)を接着剤3によって接合し、積層された光学ウェハ(以下、積層光学ウェハとする)4を形成する。次に、積層光学ウェハ4を縦横に切断して分割する。一般には、ダイヤモンドの微粒子(粉体)を薄円板の外周に固着した回転刃(ダイヤモンドホイール)を有する所謂ダイシングソウによって切断する。これらにより、光学チップの3枚1(abc)が積層した多数の光学フィルタを得る。
特開平6−313811号公報
(従来技術の問題点)しかしながら、上記構成の製造方法では積層光学ウェハ4を切断する際、ダイシングソウによる刃先の幅分が削り取られる。したがって、積層光学ウェハ4に切除分を生ずるので、光学材料の利用効率が悪い。特に、光学材料を水晶とした場合は、材料費も嵩んで無駄になる。そこで、液晶パネルの切断等に使用されるスクライブ切断法(分割法)を採用して、積層光学ウェハ4(光学材料)の利用効率を向上させる点に着目した。
スクライブ切断法は、例えば第8図に示したように、図示しないダイヤモンド刃先とした例えば回転カッターを光学ウェハ1Aの光学薄膜2上から押し当てる。そして、光学ウェハ1Aの表面上に分割線としての線状ひび(スクライブ溝、引っ掻き溝)5を設ける。そして、図示しない分割装置(例えば三星ダイヤモンド社製のブレーカー)によって、分割線としての線状ひび5上から圧力を加えて分割する。これにより、ダイシングソウのように刃先の幅分による切除分がないので、利用効率が約20%上昇する。なお、図では単一の光学ウェハ1Aの場合を示している。
しかし、3枚の光学ウェハ1(ABC)からなる積層光学ウェハ4にスクライブ切断法を適用する場合には、積層光学ウェハ4の積層面に介在した接着剤3の粘着性によって、線状ひび(スクライブ溝)5を設けた後の分割を困難にする問題があった。また、積層光学ウェハ4の表面に設けた蒸着等による光学薄膜2上から縦横に線状ひび(分割線)5を設ける際に、光学薄膜2が細かに砕けて微小ゴミを発生する。このため、分割後における光学フィルタの主面に微小ごみが付着して光学特性を悪化させる問題があった。なお、ダイシングソウの場合でも同様に微小ゴミは発生するが、スクライブによる微小ゴミは洗浄しても付着したままになる。
また、従来例のダイシングソウでは、積層光学ウェハ4を切断する際、回転刃との間に摩擦抵抗を生じながら、前述のように刃先幅とほぼ同等量の光学材料を削り取って切断する。このため、摩擦抵抗によって切断部位である加工層付近に応力が集中して歪み(加工歪み)を生ずる。加工歪みは、分割後における各光学フィルタの外周端部にそのまま残り、同領域での透過波面精度を低下させて結局光学特性を悪化させる。
このことから、各光学フィルタの有効領域が狭くなり、平面外形を大きくする必要があった。このため、小型化を阻害するとともに積層光学ウェハ4からの取り分もさらに少なくなって生産性に欠ける問題があった。これらは、積層光学ウェハ4のみならず単一板(単一チップ)からなる光学フィルタを形成する場合でも、あるいは光学フィルタ以外の波長板等を形成する場合でも同様の問題があった。
(発明の目的)本発明の第1目的は、加工歪みを少なくして光学特性を良好に維持して小型化を促進し、生産性を高める光学フィルタの製造方法を提供する。また、本発明の第2目的は、微小ゴミの発生を防止して光学特性を良好に維持する光学フィルタの製造方法を提供する。さらに、本発明の第3目的は、スクライブ切断法を適用し得る積層構造の光学フィルタの製造方法を提供する。
本発明は、鏡面研磨され、水晶を材料とする光学ウェハの一主面にダイモンド刃先によって線状ひびを設ける第1工程と、前記第1行程によって前記光学ウェハの前記線状ひびが設けられた主面に光学薄膜を形成する第2工程と、前記第2行程によって前記光学薄膜が形成された光学ウェハを、前記線状ひびに沿って圧力を加えることにより分割し、複数の光学チップを得る第3工程と、前記第3行程において前記光学ウェハが複数に分割されて得られた前記光学チップを接着剤によって積層するとともに、接着の際、この接着剤を外周側面にはみ出させることによって前記第3工程の分割時に生じた外周のバリ、稜線部を保護する第4工程とを備えたことを特徴とする光学フィルタの製造方法である。
このような構成であれば、ダイヤモンド刃先によって設けられた線状ひびに沿って圧力加えて分割するスクライブ切断法なので、従来(ダイシングソウ)のように分割面に摩擦抵抗を生ずることなく加工歪を抑制する。なお、スクライブ切断法は基本的に刃先による被加工物の損失や加工速度が特長であり、本発明によって加工歪が抑制されることが具体的に発見された。
したがって、光学ウェハ1Aから分割された各光学フィルタの外周領域での透過波面精度を良好にして光学特性を維持する。そして、光学フィルタの全面を有効領域とするので、小型化を促進する。また、これに加えて、ダイシングソウに対して切断面からの削り量はないので、光学ウェハからの取り分を多くして生産性を促進する。
本発明では、第1工程後に、光学ウェハに光学薄膜を形成する第2工程を備えた構成(製造方法)とされていることから、これにより、第1工程の光学ウェハの一主面にダイモンド刃先によって線状ひび(スクライブ溝)を設けた後に光学薄膜を形成するので、線状ひびを形成する際の微小ゴミの発生を防止する。したがって、光学フィルタへの微小ごみの付着を防止して光学特性を良好に維持する。
更に、第3工程後に、前記光学チップを接着剤によって積層する第4工程を備えた構成(製造方法)とされていることから、これにより、第3工程の光学ウェハを分割した後に光学チップを接着剤によって積層するので、スクライブ切断法を用いて積層型の光学フィルタが得られる。すなわち、接着剤によって接合された積層光学ウェハをスクライブ切断法によって分割するのではなく、単一の各光学ウェハをスクライブ切断法によって分割した光学チップを積層する。したがって、接着剤によって接合した積層光学フィルタにスクライブ切断法を適用できる。
本発明では、水晶を光学材料としておりこの水晶が高価であることから、ダイシングソウのような切断面からの削り量がなく、もって光学ウェハから多くのチップをとることができる点は特に有効となる。
第1図乃至第3図は本発明の光学フィルタの製造方法を説明する図で、第1図(a)は光学ウェハの断面図、同図(b)は同平面図、第2図は第1図(a)に付した枠線部の一部拡大図、第3図(a)は光学薄膜を設けた同断面図、同図(b)は同図(a)の一部拡大図である。なお、前従来例と同一部分には同番号を付与してその説明は簡略又は省略する。
光学フィルタは、前述したように光学材料からなり、赤外線カット用の光学薄膜2が両主面に形成された光学チップの3枚1(abc)を接着剤3によって積層してなる「前第5図参照」。そして、基本的には、第1、第2及び第3工程を経て形成される。
先ず、第1工程では、光学材料を鏡面研磨した光学ウェハ1(ABC)の一主面にダイヤモンド刃先の回転カッター等によって線状ひび(スクライブ溝、引っ掻き溝)5を設ける「第1図」。この場合、ダイヤモンド刃先が押圧されることによって概ねV字溝が形成されて、線状ひび5はその先端に形成される「第2図」。なお、光学チップ1(abc)の各厚みや光学材料が同一の場合には、単一の光学ウェハ1Aのみを適用すればよい。
次に、第2工程では、光学ウェハ1Aの両主面に蒸着によって光学薄膜2を形成する「第3図」。次に、第3工程では、例えば前述した分割装置によって光学ウェハ1(ABC)を線状ひび5に沿って分割し、図示しない個々の光学チップ1(abc)を得る。
最後に、第4工程では、光学チップの3枚1(abc)を接着剤3によって接合して積層する。この場合、光学チップの3枚1(abc)を接合する際、接着剤3は外周側面に食み出させて分割時に生ずる外周のバリや稜線部を保護する「第4図」。
このような製造方法によれば、スクライブ切断法により、線状ひび5(分割線)に沿って分割するので、ダイシングソウのような摩擦抵抗がなく光学チップ1(abc)の分割面に生ずる加工歪を抑制する。したがって、例えば第5図に示したように、光学チップの透過波面精度を良好にする。すなわち、本実施例のスクライブ切断法による干渉歪計での透過波面図は、光学チップの全領域において干渉縞6に干渉歪がなくて直線状であり「第5図(a)」、従来例のダイシングソウによる透過波面図は、両端側(外周領域)で干渉縞6に屈曲した干渉歪を生ずる「同図(b)」。
これにより、各光学チップ1(abc)の全面を有効領域とするので、平面外形を小さくして小型化を促進する。これに加えて、線状ひび5に沿って分割するので、ダイシングソウにおける刃先の幅に応じた削り量はないので、光学ウェハ1Aからの取り分を多くして生産性を促進する。そして、光学チップの3枚1(abc)を接合した積層型の光学フィルタでも同様の効果となる。
また、光学ウェハ1Aの一主面にダイヤモンドの刃先によって線状ひび5を設けた(第1工程)後に光学薄膜2を形成する(第2工程)ので、光学薄膜2を設けた後に線状ひび5を形成する際の微小ゴミの発生を防止する。したがって、光学フィルタの両主面への微小ごみの付着を防止して光学特性を良好に維持する。
さらに、光学ウェハ1Aをスクライブ切断法によって分割した(第3工程)後、光学チップの3枚1(abc)を接着剤3によって積層する(第4工程)。すなわち、接着剤3によって積層された積層光学ウェハ4をスクライブ切断法によって分割するのではなく、単一の各光学ウェハをスクライブ切断法によって分割した3枚の光学チップ1(abc)を積層する。したがって、接着剤3によって接合した積層光学フィルタにスクライブ切断法を適用できる。
なお、光学材料として、水晶、プラスチック及びIR−cutガラスを含むガラス等を例示したが、例えば水晶を用いる場合は高価であるために有効面積を大きくする点で特に効果がある。また、プラスチックやガラスを用いる場合はコストが安価な利点であり、IR−cutガラスを用いると耐候性、分光特性が良好となる。勿論これら以外の光学材料であっても有用であることは言うまでもない。
本発明の一実施例(製造方法)を説明する図で、同図(a)は光学ウェハの断面図、同図(b)は平面図である。 本発明の一実施例を説明する第1図(a)の枠線部の一部拡大図である。 本発明の一実施例を説明する図で、同図(a)は光学薄膜を設けた光学ウェハの断面図、同図(b)は同図(a)の枠線部の一部拡大図である。 本発明の一実施例を説明する光学フィルタの断面図である。 本発明の一実施例の作用を説明する光学チップ(光学フィルタ)の透過波面特性図である。 従来例を説明する光学フィルタの断面図である。 従来例を説明する図で、同図(a)は光学ウェハの断面図、同図(b)は積層光学ウェハの断面図、同図(c)は同平面図である。 従来例を説明する図で、同図(a)は光学フィルタの断面図、同図(b)は同平面図である。
符号の説明
1(abc) 光学チップ、1(ABC) 光学ウェハ、2 光学薄膜、3 接着剤、4 積層光学ウェハ、5 線状ひび、6 干渉縞。

Claims (1)

  1. 鏡面研磨され、水晶を材料とする光学ウェハの一主面にダイモンド刃先によって線状ひびを設ける第1工程と、
    前記第1行程によって前記光学ウェハの前記線状ひびが設けられた主面に光学薄膜を形成する第2工程と、
    前記第2行程によって前記光学薄膜が形成された光学ウェハを、前記線状ひびに沿って圧力を加えることにより分割し、複数の光学チップを得る第3工程と、
    前記第3行程において前記光学ウェハが複数に分割されて得られた前記光学チップを接着剤によって積層するとともに、接着の際、この接着剤を外周側面にはみ出させることによって前記第3工程の分割時に生じた外周のバリ、稜線部を保護する第4工程と
    を備えたことを特徴とする光学フィルタの製造方法。
JP2004301269A 2003-11-11 2004-10-15 光学フィルタの製造方法 Expired - Fee Related JP4776907B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004301269A JP4776907B2 (ja) 2003-11-11 2004-10-15 光学フィルタの製造方法
US10/983,940 US7166487B2 (en) 2003-11-11 2004-11-08 Manufacturing method of optical devices

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003381197 2003-11-11
JP2003381197 2003-11-11
JP2003399258 2003-11-28
JP2003399258 2003-11-28
JP2004301269A JP4776907B2 (ja) 2003-11-11 2004-10-15 光学フィルタの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005183931A JP2005183931A (ja) 2005-07-07
JP4776907B2 true JP4776907B2 (ja) 2011-09-21

Family

ID=34799299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004301269A Expired - Fee Related JP4776907B2 (ja) 2003-11-11 2004-10-15 光学フィルタの製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7166487B2 (ja)
JP (1) JP4776907B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5132534B2 (ja) * 2008-12-01 2013-01-30 日本電波工業株式会社 光学部品の製造方法
KR20180090494A (ko) 2017-02-03 2018-08-13 삼성전자주식회사 기판 구조체 제조 방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6391620A (ja) * 1986-10-06 1988-04-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 水晶光学ロ−パスフイルタの製造方法
DE3731312C2 (de) * 1987-09-17 1997-02-13 Siemens Ag Verfahren zum Vereinzeln von monolithisch hergestellten Laserdioden
JPH04276645A (ja) * 1991-03-04 1992-10-01 Toshiba Corp 化合物半導体ウエーハのダイシング方法
JPH06313811A (ja) 1993-04-28 1994-11-08 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶光学フィルタ
US5418190A (en) * 1993-12-30 1995-05-23 At&T Corp. Method of fabrication for electro-optical devices
JP4649745B2 (ja) * 2001-02-01 2011-03-16 ソニー株式会社 発光素子の転写方法
JP2002267822A (ja) * 2001-03-08 2002-09-18 Toyo Commun Equip Co Ltd ミラーの製造方法
JP2003029027A (ja) * 2001-07-19 2003-01-29 Tokai Kogaku Kk 近赤外線カットフィルタ
WO2003040049A1 (fr) * 2001-11-08 2003-05-15 Sharp Kabushiki Kaisha Procede et dispositif destines a diviser un substrat de verre, panneau a cristaux liquides et dispositif de fabrication de panneau a cristaux liquides
JP2005049831A (ja) * 2003-07-15 2005-02-24 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 光学素子及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US7166487B2 (en) 2007-01-23
JP2005183931A (ja) 2005-07-07
US20050170084A1 (en) 2005-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4751634B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2007041117A (ja) 積層光学素子及びその製造方法
JP4148139B2 (ja) 光学フィルタ、この光学フィルタの製造方法およびこの光学フィルタを用いた光学装置ならびにこの光学フィルタの収納構造
JP5363092B2 (ja) 表面弾性波フィルタ用複合基板の製造方法及び表面弾性波フィルタ用複合基板
KR102333519B1 (ko) 적층 웨이퍼의 가공 방법
JP4776907B2 (ja) 光学フィルタの製造方法
JPWO2006129752A1 (ja) フィルム切断剥離用刃物およびフィルム切断剥離装置
JP4885577B2 (ja) 複層液晶セルの製造方法
JP2008058427A (ja) 積層光学部材および光学フィルタ
US10933610B2 (en) Display screen and screen body cutting method
JP4741280B2 (ja) 光学ローパスフィルタの製造方法
TWI401737B (zh) Wafer cutting method
JP3425747B2 (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP6167019B2 (ja) 基板の加工方法、及びそれを用いた液晶表示パネルの製造方法
CN100514094C (zh) 光学器件的制造方法
JP4628173B2 (ja) 光学ローパスフィルタの製造方法
JP2007210836A (ja) ガラス基板の切断方法及び光学ガラス
US20080245473A1 (en) Optical device and production method therefor
JP2010132529A (ja) ガラス基板を有する電子装置の製造方法
JP2009143764A (ja) ガラス基板の加工方法
JP2001196332A (ja) レーザ光を用いた硬質非金属膜の切断方法
CN100480744C (zh) 光学低通滤光片和生产该器件的方法
WO2003100509A1 (fr) Procede de fabrication d'un affichage a cristaux liquides
JP2006080123A (ja) 固体撮像装置の製造方法
JP2004077717A (ja) 誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法及び誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070913

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100902

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100914

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100927

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101029

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110408

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110607

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110629

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4776907

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees