JP4884455B2

JP4884455B2 - 液晶表示装置

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Publication number: JP4884455B2
Application number: JP2008323527A
Authority: JP
Inventors: 在洙姜; ▲テ▼奎金
Original assignee: エルジーディスプレイカンパニーリミテッド
Priority date: 2008-06-25
Filing date: 2008-12-19
Publication date: 2012-02-29
Anticipated expiration: 2028-12-19
Also published as: CN101614914A; US8045122B2; CN101614914B; TWI388907B; KR20100002056A; JP2010009000A; US20090322979A1; KR101503312B1; TW201001032A

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、薄膜トランジスタ基板である第１基板と、カラーフィルタ基板である第２基板との間に形成されたシール材の接着面積を大きくすることにより、シール材の接着力を向上させた液晶表示装置に関する。

一般的に、液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力駆動などの特徴により、その応用範囲が徐々に広がっている。これにより、液晶表示装置は、携帯用コンピュータ、携帯電話、ＯＡ機器などにおいて、画面を表示するための手段として広く利用されている。

通常、液晶表示装置は、マトリクス状に配列された複数の制御用スイッチング素子に供給される映像信号に応じて光透過量が調節されて、所望の画像を画面に表示する。

このような液晶表示装置は、上部基板であるカラーフィルタ基板と、下部基板である薄膜トランジスタアレイ基板とが対向し、前記２つの基板間に液晶層が形成された液晶パネルと、前記液晶パネルに走査信号及び画像情報を供給して液晶パネルを動作させる駆動部とを含む。

以下、このような構成を有する従来の一般的な液晶表示装置について、添付図面を参照して説明する。

図５は、従来の一般的な液晶表示装置の第１基板１（薄膜トランジスタアレイ基板）を示す平面図であり、図６は、図５のＩ−Ｉ’線断面と、第１基板１上の各画素内に形成された薄膜トランジスタ７の領域の断面を共に示す断面図である。

図５及び図６に示すように、従来の一般的な液晶表示装置は、薄膜トランジスタアレイ基板である第１基板１と、カラーフィルタ基板である第２基板２とから構成され、第１基板１と第２基板２との間には液晶層６が形成される。

図５に示すように、第１基板１上には、互いに縦横に交差して複数の画素を定義する複数のゲートラインＧＬ及び複数のデータラインＤＬが形成され、各画素のゲートラインＧＬとデータラインＤＬとが交差する領域には、薄膜トランジスタ７が形成される。

図６に示すように、薄膜トランジスタ７は、第１基板１上に形成されたゲート電極７ａと、ゲート電極７ａ上に形成されたゲート絶縁膜７ｂと、ゲート絶縁膜７ｂ上に形成された半導体層７ｃと、半導体層７ｃ上に形成されたソース電極７ｄ及びドレイン電極７ｅとから構成され、ソース電極７ｄ及びドレイン電極７ｅ上には保護層８が形成される。

薄膜トランジスタ７のゲート電極７ａは、ゲートラインＧＬに接続され、ソース電極７ｄは、データラインＤＬに接続され、ドレイン電極７ｅは、画素電極９に接続される。

また、第２基板２上の表示領域には、第１基板１に定義された各画素に対応して、カラーフィルタ１１から構成されたカラーフィルタ層が形成され、第１基板１上の表示領域ＡＡのゲートラインＧＬ、データラインＤＬ、及び薄膜トランジスタ７、並びに非表示領域ＮＡに対応する領域には、ブラックマトリクス１２が形成され、カラーフィルタ１１及びブラックマトリクス１２上には、共通電極４が形成される。

共通電極４に共通電圧を印加するために、第１基板１上の非表示領域ＮＡには共通ライン３が形成されるが、共通ライン３は、表示領域ＡＡの縁部に沿って形成され、銀ドット（Ａｇｄｏｔ）などの導通手段を介して共通電極４に接続される。

図５及び図６に示すように、第１基板１と第２基板２との間の非表示領域ＮＡには、表示領域ＡＡの縁部に沿ってシール材５が形成されるが、シール材５は、第１基板１と第２基板２とが整列されて貼り合わせられた状態を維持すると共に、第１基板１と第２基板２との間の領域を密封して液晶層６の液晶が漏れることを防止する。

前述のような構成を有する従来の一般的な液晶表示装置におけるシール材５は、図５に示すように、大部分の領域が第１基板１上の共通ライン３及び第２基板２上の共通電極４に重なるように形成されるが、共通ライン３及び共通電極４は、高低の変化がほとんどなく比較的平坦に形成されるため、第１基板１と第２基板２とを貼り合わせているシール材５は、固有の接着力以上の力は発揮できない。これにより、外力（例えば、第１基板又は第２基板を引っ張る力）が第１基板１又は第２基板２に加えられると、シール材５の一部領域で共通ライン３又は共通電極４との接着状態が解除される問題が頻繁に発生し、この場合、液晶層６の液晶が外部に流出して画面不良が発生する。

本発明は、このような従来技術の問題を解決するためになされたもので、第１基板の非表示領域に第１接着改善突起を形成し、第２基板の非表示領域に第２接着改善突起を形成することにより、シール材の接着面積を大きくしてシール材の接着力を向上させた液晶表示装置を提供することを目的とする。

このような本発明は、表示領域及び非表示領域が定義され、前記表示領域には複数の画素が定義された第１基板及び第２基板と、前記第１基板上の画素毎に形成された画素電極と、前記第１基板上の非表示領域に形成され、前記画素電極と同一層に同一物質で前記第１基板上の表示領域の外郭に沿って形成された複数の第１接着改善突起と、少なくとも前記第２基板上の表示領域に形成された共通電極と、前記第２基板上の非表示領域に形成され、前記共通電極から分岐した複数の第２接着改善突起と、前記第１接着改善突起及び前記第２接着改善突起と接着されるように前記第１基板と前記第２基板との間に形成された、導電性を有するシール材とを含む液晶表示装置により達成され、前記共通電極には、前記シール材及び前記第１接着改善突起を介して共通電圧が印加される。

本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置は、第１基板上の非表示領域に複数の第１接着改善突起が形成され、第２基板上の非表示領域に複数の第２接着改善突起が形成され、シール材が第１接着改善突起及び第２接着改善突起の外面を取り囲むように形成されることによって、シール材の接着面積が大きくなってシール材の接着力が増加するという利点がある。これにより、外力（例えば、第１基板又は第２基板を引っ張る力）が第１基板又は第２基板に加えられたときに、シール材の全領域又は一部領域で第１基板又は第２基板との接着状態が解除される問題が発生しなくなる。

また、第１基板上に画素電極と共通電極の両方が形成され、かつ第１基板上に接着改善突起が形成された構成を有する場合も、シール材が接着改善突起の外面を取り囲むように形成されることによって、シール材の接着面積が大きくなってシール材の接着力が増加する。これにより、外力（例えば、第１基板又は第２基板を引っ張る力）が第１基板又は第２基板に加えられたときに、シール材の全領域又は一部領域で第１基板又は第２基板との接着状態が解除される問題が発生しなくなる。

以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置について、詳細に説明する。

図１Ａは、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の第１基板１０１を示す平面図であり、図１Ｂは、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の第２基板１０２を示す平面図であり、説明の便宜上、図１Ａと図１Ｂの両方にシール材１０５を示している。また、図２の左側領域は、図１ＡのＩＩ−ＩＩ’線断面及び図１ＢのＩＩＩ−ＩＩＩ’線断面を共に示し、図２の右側領域は、第１基板１０１及び第２基板１０２に定義された画素内に形成された薄膜トランジスタ１０７領域の断面を示している。

図１Ａ〜図２に示すように、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置は、表示領域ＡＡ及び非表示領域ＮＡが定義され、表示領域ＡＡには、複数の画素が定義された第１基板１０１及び第２基板１０２と、第１基板１０１上の画素毎に形成された画素電極１０９と、第１基板１０１上の非表示領域ＮＡに形成され、画素電極１０９と同一層に同一物質で第１基板１０１上の表示領域ＡＡの外郭に沿って形成された複数の第１接着改善突起１０３と、少なくとも第２基板１０２上の表示領域ＡＡに形成された共通電極１０４と、第２基板１０２上の非表示領域ＮＡに形成され、共通電極１０４から分岐した複数の第２接着改善突起１０４ａと、第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａと接着されるように第１基板１０１と第２基板１０２との間に形成され、導電性を有するシール材１０５とを含む。また、共通電極１０４には、シール材１０５及び第１接着改善突起１０３を介して共通電圧が印加される。

以下、このような構成を有する本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の各構成要素について、詳細に説明する。

図１Ａ〜図２に示すように、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置は、薄膜トランジスタアレイ基板である第１基板１０１と、カラーフィルタ基板である第２基板１０２とから構成された液晶パネルを備え、第１基板１０１と第２基板１０２との間には液晶層１０６が形成される。また、第１基板１０１及び第２基板１０２には、画面が表示される表示領域ＡＡと、表示領域ＡＡの外部領域となる非表示領域ＮＡとが定義されている。

図１Ａに示すように、第１基板１０１上の表示領域ＡＡには、互いに縦横に交差して複数の画素を定義する複数のゲートラインＧＬ及び複数のデータラインＤＬが形成され、各画素のゲートラインＧＬとデータラインＤＬとが交差する領域には、薄膜トランジスタ１０７が形成されてゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬに接続される。

図１Ａ及び図２に示すように、各画素に形成された薄膜トランジスタ１０７は、第１基板１０１上に形成されたゲート電極１０７ａと、ゲート電極１０７ａ上に形成されたゲート絶縁膜１０７ｂと、ゲート絶縁膜１０７ｂ上に形成された半導体層１０７ｃと、半導体層１０７ｃ上に形成されたソース電極１０７ｄ及びドレイン電極１０７ｅとを含む。また、このような構成を有する薄膜トランジスタ１０７が形成された第１基板１０１上には、保護膜１０８が形成される。

薄膜トランジスタ１０７のゲート電極１０７ａは、ゲートラインＧＬに接続され、ソース電極１０７ｄは、データラインＤＬに接続され、ドレイン電極１０７ｅは、画素電極１０９に接続される。

また、第１基板１０１上の非表示領域ＮＡには、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬに接続され、ゲートラインＧＬにスキャン信号を供給してデータラインＤＬにデータ信号を供給することにより各画素を駆動するためのドライブ集積回路１１０が形成される。図には詳細に示していないが、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬは、ドライブ集積回路１１０に接続されるように形成される。

図１Ａ及び図２に示すように、第１基板１０１上の非表示領域ＮＡには、複数の第１接着改善突起１０３が表示領域ＡＡの外郭に沿って形成される。

複数の第１接着改善突起１０３は、シール材１０５と直交するように一字状に形成される。このような第１接着改善突起１０３は、導電性を有するシール材１０５との接触により電気的に導通することによって、共通ラインとしての役割を果たすが、これについては、後述するシール材１０５の説明で、詳細に説明する。

第１接着改善突起１０３は、第１基板１０１上の表示領域ＡＡに形成された画素電極１０９と同一層に同一物質で形成することができ、この場合、第１接着改善突起１０３の下部には、ゲート絶縁膜１０７ｂ及び保護膜１０８が位置する。

図１Ａは、第１接着改善突起１０３がシール材１０５におけるドライブ集積回路１１０と隣接する領域、すなわち、ゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬが通過する領域には、形成されていない例を示しているが、本発明はこれに限定されるものではない。第１接着改善突起１０３をシール材１０５におけるゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬが通過する領域と重なるように形成するなど、本発明の要旨から外れない範囲内で多様な応用が可能である。

図２に示すように、第２基板１０２上には、第１基板１０１上の表示領域ＡＡに定義された各画素に対応するカラーフィルタ１１１からなるカラーフィルタ層が形成され、第１基板１０１の表示領域ＡＡのゲートラインＧＬ、データラインＤＬ、及び薄膜トランジスタ１０７、並びに非表示領域ＮＡに対応するブラックマトリクス１１２が形成され、第２基板１０２のカラーフィルタ１１１及びブラックマトリクス１１２上には、共通電極１０４が形成される。

ブラックマトリクス１１２は、樹脂又は金属を材料として形成され、金属の例としては、クロム、クロム酸化物などがある。

共通電極１０４は、少なくとも第１基板１０１の表示領域ＡＡと対応するように形成され、第１基板１０１の各画素に形成された画素電極１０９と共に垂直電界を形成して液晶層を駆動する。

また、図１Ｂに示すように、第２基板１０２には、第１基板１０１の非表示領域ＮＡに対応する領域に、共通電極１０４から分岐した複数の第２接着改善突起１０４ａが形成される。

図２に示すように、第２接着改善突起１０４ａは、ブラックマトリクス１１２上に形成されて、ブラックマトリクス１１２に接触する。

第２接着改善突起１０４ａは、第１基板１０１上に形成された第１接着改善突起１０３とは重なることなく、第１接着改善突起１０３と第２接着改善突起１０４ａとは、交互に形成されることとなる。従って、第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａにより、第１基板１０１と第２基板１０２との間に形成されたシール材１０５の厚さが、限界以下に薄くなることを防止することができる。

図１Ａ〜図２に示すように、シール材１０５は、第１基板１０１と第２基板１０２との間の非表示領域ＮＡに形成され、第１基板１０１と第２基板１０２とを貼り合わせると共に、第１基板１０１と第２基板１０２との間の液晶層１０６を密封する。

シール材１０５は、第１接着改善突起１０３が形成された第１基板１０１、又は第２接着改善突起１０４ａが形成された第２基板１０２上に塗布された後、第１基板１０１と第２基板１０２とが貼り合わせられる過程で、第１接着改善突起１０３の外面及び第２接着改善突起１０４ａの外面を取り囲むように形状が変形し、その後、紫外線（ＵＶ）又はホットプレートなどの硬化手段を利用して硬化することによって、図２に示すような断面形状を有するようになる。

このように、シール材１０５は、第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａに対応する領域が溝形状を有することによって、第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａの外面に接着される。これにより、シール材１０５は、第１基板１０１の構成要素及び第２基板１０２の構成要素に接着される面積が大きくなり、接着力が増加する。ブラックマトリクス１１２が金属で形成された場合には、このようなシール材１０５の接着力は、さらに増加する。

これに加えて、シール材１０５は、導電性を有するように形成することにより、第１基板１０１上の複数の第１接着改善突起１０３同士を電気的に接続させて、第１接着改善突起１０３が共通ラインとしての役割を果たすようにし、第１基板１０１上の複数の第１接着改善突起１０３と第２基板１０２上の複数の第２接着改善突起１０４ａとを電気的に接続させて、第１接着改善突起１０３からの共通電圧が第２接着改善突起１０４ａを介して共通電極１０４に印加されるようにする。

前述のように、シール材１０５の接着面積を大きくして接着力を増加させる第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａは、図１Ａ及び図１Ｂに示す形状の他にも、本発明の要旨から外れない範囲内で多様な変形が可能である。

すなわち、以上の説明と図１Ａ及び図１Ｂには、第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａが表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡの境界に対して９０゜の角度をなすように形成された例を示しているが、本発明は、これに限定されるものではなく、第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａの形状は、本発明の要旨から外れない範囲内で多様な変形が可能である。

図３Ａ〜図４Ｂは、図１Ａ及び図１Ｂの第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａの変形例を示す図であり、図３Ａ及び図４Ａは、複数の第１接着改善突起２０３、３０３が形成された第１基板２０１、３０１を示し、図３Ｂ及び図４Ｂは、複数の第２接着改善突起２０４ａ、３０４ａが形成された第２基板２０２、３０２を示している。

図３Ａ及び図３Ｂに示すように、複数の第１接着改善突起２０３及び複数の第２接着改善突起２０４ａは、シール材２０５と交差するように一字状に形成されるが、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡの境界に対して９０゜より小さい角度をなすように形成することもでき、９０゜より大きい角度をなすように形成することもできる。ここで、第１接着改善突起２０３と第２接着改善突起２０４ａとは、重なることなく交互に形成される。

また、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、第１接着改善突起３０３は、シール材３０５と交差するように形成されてシール材３０５と重なる第１領域３０３ａと、第１領域３０３ａから分岐してシール材３０５と平行な方向に形成されてシール材３０５と重なる第２領域３０３ｂとを含み、第２接着改善突起３０４ａは、シール材３０５と交差するように形成されてシール材３０５と重なる第３領域３０４ａ１と、第３領域３０４ａ１から分岐してシール材３０５と平行な方向に形成されてシール材３０５と重なる第４領域３０４ａ２とを含む。ここで、第１接着改善突起３０３の第１領域３０３ａと、第２接着改善突起３０４ａの第３領域３０４ａ１とは、重なることなく交互に形成され、一方、第１接着改善突起３０３の第２領域３０３ｂと、第２接着改善突起３０４ａの第４領域３０４ａ２とも、重なることなく交互に形成される。

さらに、図には詳細に示していないが、第１基板３０１上には、薄膜トランジスタ（図２の１０７参照）のゲート電極（図２の１０７ａ参照）と同一層に同一物質で形成された共通電圧印加端子（図示せず）が形成され、前記共通電圧印加端子は、ゲート絶縁膜（図２の１０７ｂ参照）と保護層（図２の１０８参照）に形成されたコンタクトホール（図示せず）を介して第１接着改善突起３０３に接続されるが、図４Ａに示すように、第１接着改善突起３０３が第２領域３０３ｂを含む場合には、前記コンタクトホールを形成するための十分な面積を確保することができる。

前述のように、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置は、第１基板１０１上の非表示領域ＮＡに複数の第１接着改善突起１０３が形成され、第２基板１０２上の非表示領域ＮＡに複数の第２接着改善突起１０４ａが形成され、シール材１０５が第１接着改善突起１０３及び第２接着改善突起１０４ａの外面を取り囲むように形成されることによって、シール材１０５の接着面積が大きくなり、シール材の接着力が増加するという利点がある。

これにより、外力（例えば、第１基板又は第２基板を引っ張る力）が第１基板１０１又は第２基板１０２に加えられたときに、シール材１０５の全領域又は一部領域で第１基板１０１又は第２基板１０２との接着状態が解除される問題が発生しなくなる。

本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の説明においては、第１基板１０１上に画素電極１０９が形成され、第２基板１０２上に共通電極１０４が形成されており、画素電極１０９と共通電極１０４の垂直電界により液晶層が駆動されるように構成された例を示しているが、本発明はこれに限定されるものではない。画素電極１０９及び共通電極１０４が第１基板１０１上に形成されて水平電界により液晶層が駆動されるように構成されるなど、本発明の要旨から外れない範囲内で多様な変形が可能である。

すなわち、図には詳細に示していないが、本発明の好ましい他の実施形態による液晶表示装置は、表示領域（図示せず）及び非表示領域（図示せず）が定義され、前記表示領域には複数の画素が定義された第１基板（図示せず）及び第２基板（図示せず）と、前記第１基板上の非表示領域に表示領域の外郭に沿って形成された複数の接着改善突起（図示せず）と、前記各画素に形成され、前記接着改善突起の少なくとも１つに接続されて当該接着改善突起から共通電圧が印加される共通電極（図示せず）と、前記接着改善突起と接着されるように前記第１基板と前記第２基板との間に形成された、導電性を有するシール材（図示せず）とを含む。ここで、前記複数の接着改善突起は、前記シール材と直交するように一字状に形成することができる。また、前記複数の接着改善突起は、前記シール材と交差するように形成されて前記シール材と重なる第１領域と、前記シール材と平行な方向に形成されて前記シール材と重なる第２領域とを含むこともできる。

このように、第１基板上に画素電極と共通電極の両方が形成され、かつ第１基板上に接着改善突起が形成された構成を有する場合も、シール材が接着改善突起の外面を取り囲むように形成されることによって、シール材の接着面積が大きくなり、シール材の接着力が増加する。これにより、外力（例えば、第１基板又は第２基板を引っ張る力）が第１基板又は第２基板に加えられたときに、シール材の全領域又は一部領域で第１基板又は第２基板との接着状態が解除される問題が発生しなくなる。

本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の第１基板を示す平面図である。本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の第２基板を示す平面図である。図１ＡのＩＩ−ＩＩ'線断面、図１ＢのＩＩＩ−ＩＩＩ'線断面、及び図１Ａの薄膜トランジスタ形成領域の断面を示す断面図である。図１Ａの第１基板に形成された第１接着改善突起の他の例を示す平面図である。図１Ｂの第２基板に形成された第２接着改善突起の他の例を示す平面図である。図１Ａの第１基板に形成された第１接着改善突起のさらに他の例を示す平面図である。図１Ｂの第２基板に形成された第２接着改善突起のさらに他の例を示す平面図である。従来の一般的な液晶表示装置の第１基板を示す平面図である。図５のＩ−Ｉ’線断面、及び図５の薄膜トランジスタ形成領域の断面を示す断面図である。

符号の説明

１０１第１基板、１０２第２基板、１０３第１接着改善突起、１０４共通電極、１０４ａ第２接着改善突起、１０５シール材、１０６液晶層、１０７薄膜トランジスタ、１０７ａゲート電極、１０７ｂゲート絶縁膜、１０７ｃ半導体層、１０７ｄソース電極、１０７ｅドレイン電極、１０８保護膜、１０９画素電極、１１０ドライブ集積回路、１１１カラーフィルタ、１１２ブラックマトリクス、２０１第１基板、２０２第２基板、２０３第１接着改善突起、２０４ａ第２接着改善突起、２０５シール材、３０１第１基板、３０２第２基板、３０３第１接着改善突起、３０３ａ第１領域、３０３ｂ第２領域、３０４ａ第２接着改善突起、３０４ａ１第３領域、３０４ａ２第４領域、３０５シール材。

Claims

表示領域及び非表示領域が定義され、前記表示領域には複数の画素が定義された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板上の画素毎に形成された画素電極と、
前記第１基板上の非表示領域に形成され、前記画素電極と同一層に同一物質で前記第１基板上の表示領域の外郭に沿って形成された複数の第１接着改善突起と、
少なくとも前記第２基板上の表示領域に形成された共通電極と、
前記第２基板上の非表示領域に形成され、前記共通電極から分岐した複数の第２接着改善突起と、
前記第１接着改善突起及び前記第２接着改善突起と接着されるように前記第１基板と前記第２基板との間に形成された、導電性を有するシール材と
を含み、
前記共通電極には、前記シール材及び前記第１接着改善突起を介して共通電圧が印加される
ことを特徴とする液晶表示装置。
前記複数の第１接着改善突起が、前記シール材と直交するように一字状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記複数の第１接着改善突起及び前記複数の第２接着改善突起が、前記シール材と直交するように一字状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記第１接着改善突起と前記第２接着改善突起とが、交互に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記第１接着改善突起は、前記シール材の延在方向と交差する方向に沿って形成されて前記シール材と重なる第１領域と、前記シール材と平行な方向に形成されて前記シール材と重なる第２領域とを含み、
前記第２接着改善突起は、前記シール材の延在方向と交差する方向に沿って形成されて前記シール材と重なる第３領域と、前記シール材と平行な方向に形成されて前記シール材と重なる第４領域とを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記シール材の延在方向に沿って、前記第１領域と前記第４領域とが交互に配置され、前記第２領域と前記第３領域とが交互に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
前記第２基板には、少なくとも前記第１基板の非表示領域に対応するブラックマトリクスがさらに形成され、
前記第２接着改善突起が、前記ブラックマトリクス上に形成され、前記ブラックマトリクスに接触することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記ブラックマトリクスが、樹脂を材料として形成されていることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
前記ブラックマトリクスが、金属を材料として形成されていることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
前記ブラックマトリクスが、クロムとクロム酸化物のいずれか一方を材料として形成されていることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
前記第１基板上には、
互いに縦横に交差して複数の画素を定義する複数のゲートライン及び複数のデータラインと、
前記ゲートライン及び前記データラインに接続され、前記ゲートライン及び前記データラインを駆動するドライブ集積回路と
がさらに形成され、
前記第１接着改善突起の一部が、前記シール材における前記ゲートライン及び前記データラインと重なる領域とも重なるように形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。