JP4871123B2 - ガラス板の領域からコーティングを除去する方法と装置 - Google Patents
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- 少なくとも部分的にコーティングのない基板の表面を必要とする基板をその後の使用のために調製する際に、コーティングした基板からプラズマの支援によってコーティングを除去する方法であって、コーティングを局所的に除去するために、コーティングを除去しようとする基板の領域にプラズマを向けるものであり、部分的な範囲上及び少なくとも部分的な厚さにわたってコーティングを除去するために、コーティングを除去する作業領域の幅または範囲に少なくとも対応する、プラズマノズルの数及び形によって決まる有効幅または範囲を有するプラズマを、コーティングを除去する基板の表面に向け、
少なくとも2つの隣接したビームの列としてプラズマを前記基板に向け、
プラズマ及び基板のカバレージ幅を変化させるために、少なくとも1つのプラズマビームを励起しないかまたは励起すること、及び前記プラズマビームが形成する列の角度をコーティング除去作業の進行方向に対して変化させ、
プラズマと、コーティングを除去する基板との間の連続相対移動を行い、その際プラズマを放出する装置が前記基板に対して移動するか、または両者が互いに移動するかであることを特徴とする方法。 - プラズマと基板との間の相対移動を、コーティングを除去する基板の縁端に平行に行うことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 平行なプラズマビームの列を、コーティングを除去する前記基板の縁端に垂直に位置合わせすることと、進行方向の相対移動を、前記基板と、前記基板を横切るこのプラズマビームの列との間で行うこととを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- プラズマビームの列が、コーティングを除去する基板の角の領域で、前記基板に垂直な軸に沿って回転することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 基板の縁端及び/または面からコーティングを除去するために使用されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- プラズマが基板の縁端または面からコーティングを除去するためにも使用され、その際プラズマビームが前記縁端または面に直角な方向に向けられることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 対応する作業領域に直接隣接する平坦なシールドが使用され、前記平坦なシールドが前記基板の表面にできる限り近く配置されることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- フレームの形でプラズマの前記作業領域を取り囲むシールドが使用されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記作業領域で分離した粒子が、排出装置によってすぐに除去されることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記基板の縁端が外接する範囲内の領域からコーティングを除去するために使用されることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 金属、酸化物、窒化物または有機物コーティングまたはそれらの組み合わせを除去するために使用されることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 疎水性及び/または親水性コーティングを除去するために使用されることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法を実施する装置であって、
− プラズマビームを放出または出力する少なくとも1つのプラズマヘッド(10)と、
− コーティングを除去する基板(4)のための支持表面(2)と、
− 少なくとも1つのプラズマヘッド(10)のためのキャリヤ(8)と、
− 前記基板(4)を移動させる装置(5)と、
− 前記プラズマヘッド(10)の前記キャリヤ(8)を移動させる装置とを備え、
少なくとも2つのプラズマヘッド(10)が前記プラズマヘッドのためのキャリヤ(8)上に配置されることを特徴とする装置。 - 前記プラズマヘッド(10)のための前記キャリヤ(8)が、駆動手段によって垂直なバー(6)に沿って前記支持表面(2)の前で移動できることを特徴とする、請求項13に記載の装置。
- 前記バー(6)が固定式または可動式に前記装置内に設置されることを特徴とする、請求項14に記載の装置。
- 前記プラズマヘッド(10)のための前記キャリヤ(8)が、コーティングを除去する前記基板(4)の平面に垂直な軸(16)に沿って回転できることを特徴とする、請求項14または請求項15に記載の装置。
- 前記プラズマヘッド(10)のための前記キャリヤ(8)が前記基板(4)の平面に垂直に調整できることを特徴とする、請求項14〜16のいずれか1項に記載の装置。
- 前記プラズマヘッド(10)のための前記キャリヤ(8)が、前記バー(6)に誘導される保持板(7)上に、前記プラズマヘッド(10)の列の方向に調整できるように設置されることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 前記保持板(7)上の前記キャリヤ(8)が前記基板(4)の平面に垂直な軸に沿って回転できることを特徴とする、請求項18に記載の装置。
- 前記保持板(7)上の前記キャリヤ(8)が前記基板(4)の平面に平行に直線的に調整できることを特徴とする、請求項18または19に記載の装置。
- 前記プラズマヘッド(10)が前記キャリヤ(8)上で互いに隣接する列に配置されることを特徴とする、請求項13〜20のいずれか1項に記載の装置。
- 前記保持板(7)上の前記キャリヤ(8)が、隣接するプラズマヘッド(10)の列の方向に調整できることを特徴とする、請求項21に記載の装置。
- 前記プラズマヘッドの作業領域にシールド(20)が提供されることを特徴とする、請求項13〜22のいずれか1項に記載の装置。
- 前記シールド(20)がフレームの形でプラズマの前記作業領域を取り囲むことを特徴とする、請求項23に記載の装置。
- 前記シールドが前記プラズマヘッドと共に誘導されることを特徴とする、請求項23または24に記載の装置。
- コーティング(22)の分離した粒子を排出するための装置(24)が、前記プラズマヘッドの作業領域内に提供されることを特徴とする、請求項13〜25のいずれか1項に記載の装置。
- コーティング(22)の分離した粒子を排出するための装置(24)が、前記プラズマヘッドの作業領域内に提供され、
前記コーティング(22)の分離した粒子を排出するための装置(24)が前記シールド(20)に接合し、それと共に誘導されることを特徴とする、請求項23に記載の装置。 - 前記基板の縁端または面に垂直な方向のプラズマを偏向するために、前記キャリヤが前記基板の表面に平行な少なくとも1つの軸に沿って回転できることを特徴とする、請求項13〜27のいずれか1項に記載の装置。
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