JP4869608B2 - 超音波探傷装置 - Google Patents

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Description

本発明は、検査対象物に対して超音波探傷部の位置及び方位を特定可能な超音波探傷装置に関する。
一般に、図21に示すように、配管100の検査対象物である溶接線101等を探傷する際、超音波探傷部102から配管100に対して所定の角度で溶接線101方向に超音波Uを発信しながら、溶接線101に対する超音波探傷部102を例えば、図中のA位置からB位置まで移動させることによって、溶接線101を配管100の板厚方向に探傷することができる。この際、得られた欠陥データと溶接線101の板厚方向の位置とを対応させるために、溶接線101に対する超音波探傷部102の位置及びそのときの時間を特定する必要がある。
このような超音波探傷部の特定方法として、超音波探傷部近傍に配されて信号を発する複数又は一つの発信装置と検査対象物上に配された一つ又は複数の受信装置とを備え、発信装置間、受信装置間、又は、発信装置と受信装置との間の距離と、発信装置から受信装置に向かう信号の到達方向との関係から発信装置と受信装置との相対座標位置を特定する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
また、発信装置としてLED等の光源を利用し、これをCCDカメラ等で観察して位置を特定する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。
ここで、通常、配管100が金属から構成されているために表面100Aが反射面とされている。そのため、上記特許文献1に記載の超音波探傷装置において、図22に示すように、発信装置として放射光を発するLED等の光源103を使用し、受信装置として受光センサ104を用いる場合、光源103からの射出光が、直接受光センサ104に到達する光と、表面100Aにて反射して受光センサ104に到達する光とに分かれてしまう。
従って、図23に示すように、配管100の表面100Aに反射した射出光によって光源103の虚像105が発生してしまい、受光センサ104がこれを位置データとして取り込んでしまう場合がある。この場合、超音波探傷部102の正確な位置を把握することが困難となる。
また、特許文献2に記載の超音波探傷装置の場合、配管等の表面からの反射光を受光しないようにするためには光源に対してCCDカメラを向ける方向が限定されてしまう。従って、カメラ三脚等を設置する十分な場所を確保できない場合には、反射光を含めて撮影してしまう問題がある。
特公昭62―7978号公報 特許第3007474号公報
本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、検査対象物が配された被検体の表面上で超音波探傷部を走査する際、検査対象物に対する超音波探傷部の正確な位置を特定することができる超音波探傷装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を採用する。
本発明に係る超音波探傷装置は、光が反射しやすい被検体の表面でも前記被検体に配された検査対象物を非破壊的に検査できる超音波探傷装置であって、超音波を発して前記被検体の表面上を移動する超音波探傷部と、該超音波探傷部の前記検査対象物に対する位置を特定する位置計測部と、を備え、該位置計測部は、前記被検体及び前記超音波探傷部の何れか一方に配された光源と、前記被検体及び前記超音波探傷部の何れか他方に配されて前記光源から射出した光を検知する受光子と、前記光源から前記受光子へ向かう光路上に配され、前記被検体表面の反射光を規制する調整部と、を備え、前記受光子は、前記光の光量を検出する光量検出センサを備え、前記調整部は、前記光源から射出された光の放射角及び放射方向のうち少なくとも一つを変更し、前記光を、前記被検体の表面に到達する前に、前記被検体の表面へ向かう光が除去された光束に変換し、前記光束の仰角を、前記光束が前記被検体の表面から離れる方へ向き前記光量検出センサにおいて検出される前記光量が検出限界以下となる第一の仰角に設定し、前記光束の仰角が前記第一の仰角に設定された後、前記光束の放射方向を、前記被検体の表面に近づく方へと漸次変動させ、前記光量検出センサにおいて所定以上の前記光量が検出されたときに前記放射方向の変動を停止させることを特徴とする。
この超音波探傷装置は、光が反射しやすい表面を有する被検体に検査対象物が配されている場合、光源から被検体の表面までの光路上に調整部を配することによって、射出光が光源から被検体の表面に向かうのを規制することができ、被検体の表面における光源の虚像の発生を抑えることができる。
また、光源からの射出光が放射光の場合には、被検体の表面から受光子までの光路上に調整部を配することによって、被検体の表面に反射した光が受光子に入射するのを規制することができ、被検体の表面に生じた光源の虚像を受光子が受光するのを抑えることができる。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部が、間に開口部を形成して互いに対向して配され、前記開口部の大きさを変化させる一対の遮蔽部を備えている。
この超音波探傷装置は、光源からの射出光が開口部を通過する際に、一対の遮蔽部間に生じる開口部の大きさを変化させることによって、光束の放射角と放射方向とを変更することができる。従って、開口部を所定の大きさにすることによって、光源から被検体の表面へ向かう光、又は、被検体の表面から受光子に入射する反射光を好適に遮蔽することができる。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部が、前記一対の遮蔽部を前記光源からの射出光の進行方向に沿って前後移動させる駆動機構を備えていることを特徴とする。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部が、前記一対の遮蔽部を前記光源からの射出光の進行方向に対して直交する方向に移動させる駆動機構を備えていることを特徴とする。
この超音波探傷装置は、駆動機構によって一対の遮蔽部を移動して開口部の大きさを変更することができ、光源から被検体の表面へ向かう光、又は、被検体の表面から受光子に入射する反射光を好適に遮蔽することができる。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記駆動機構が、前記一対の遮蔽部のそれぞれを独立に駆動させる複数の駆動源を備えていることを特徴とする。
この超音波探傷装置は、光源又は受光子と被検体の表面との距離や視野に応じて一対の遮蔽部を独立に駆動して、開口部の被検体の表面からの高さと開口幅とを好適に変更することができ、光源から受光子に向かう光束のうち、光源から検査対象物に向かう光束又は被検体の表面から受光子に向かう光束を遮蔽することができる。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部が、前記光源の放射角度を変更する光学系を備えていることを特徴とする。
この超音波探傷装置は、光源と受光子と被検体の表面との相対位置に応じて射出光の光束の放射角度を変更することができ、光源から受光子へ到達する光量を変えることなく、光源からの射出光が被検体の表面へ向かうのを好適に抑えることができる。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記光学系は、前記光源からの光をビーム光に変換するビーム光生成レンズと、前記ビーム光生成レンズを透過した前記ビーム光をスリット光に変換するシリンドリカルレンズと、前記光源および前記シリンドリカルレンズに対して前記ビーム光生成レンズを相対移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部が、前記光源の放射方向を変更する反射部を備えていることを特徴とする。
この超音波探傷装置は、反射部によって光源からの射出光の光路を変更することができ、光源と受光子と被検体の表面との相対位置に応じて射出光が被検体の表面へ向かうのを好適に抑えることができる
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部は、前記放射方向の変動を停止させたあと、前記光束の放射角を、前記光源から発せられた光束の6割以上が前記受光子に入射する放射角に設定することを特徴とする。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記受光子は、前記光源からの射出光をライン光に変換するシリンドリカルレンズを有することを特徴とする。
また、本発明の超音波探傷装置は、前記超音波探傷装置であって、前記調整部は前記光源側に配置され、前記受光子には、前記被検体表面の反射光を規制する第二調整部が設けられ、前記調整部と前記第二調整部とは同期させて制御されることを特徴とする。
本発明によれば、受光子への好適な受光量を確保しつつ検査対象物が配された被検体の表面における虚像の発生又は発生した虚像の入力を抑えることができ、光源の虚像に対する情報を測量データに誤入力してしまうことを抑えて、光源の実像のみから超音波探傷部の検査対象物に対する正確な位置を光学的に算出することができる。
本発明に係る第1の実施形態について、図1から図9を参照して説明する。
本実施形態に係る超音波探傷装置1は、図1に示すように、光が反射しやすい配管(被検体)2に配された溶接線(検査対象物)3を非破壊的に検査する超音波探傷装置であって、超音波を発して配管2上を移動する超音波探傷部4と、超音波探傷部4の配管2に対する位置を特定する位置計測部5と、超音波探傷部4及び位置計測部5と電気的に接続されて超音波の送受信、波形や画像を表示する探傷器6とを備えている。
超音波探傷部4は、例えば、斜角探触子とされて配管2の板厚方向に対して進行方向斜め前方に向けて超音波が発信される。
位置計測部5は、図1及び図2に示すように、超音波探傷部4と接続された発光用筐体7及びこの発光用筐体7内に配されて放射光を射出するLED等の光源8を有する発光ユニット10と、配管2に配される受光用筐体11及びこの受光用筐体11に配されて光源8からの射出光を検知する1次元の位置検出素子(受光子)12を有する受光ユニット13と、光源8から位置検出素子12へ向かう光路上に配されて、光源8から射出された光束の放射角及び放射方向を変更して配管2の表面2Aの反射光を規制する調整部15と、位置検出素子12の計測データに基づき超音波探傷部4の位置等を算出する位置計測制御部16とを備えている。
調整部15は発光用筐体7に接続され、図2及び図3に示すように、間に開口部17を形成して互いに対向して配され、開口部17の大きさを変化させる一対の遮蔽部18、20と、一対の遮蔽部18、20を前後方向に移動させる駆動機構21とを備えている。
なお、説明の都合上、光源8に対して射出光の進行方向に沿う方向を前方向、その反対方向を後方向とする。また、配管2の表面2Aの法線方向に沿って表面2Aから遠ざける方向を上方向、表面2Aに近づける方向を下方向とする。
一対の遮蔽部18、20は、発光用筐体7の内壁面側に沿って前後方向に移動する遮蔽基部22と、遮蔽基部22から上下方向に所定の長さで板状に突出する凸部23とをそれぞれ備えている。この凸部23の長さは、各凸部23の先端23A間に開口部17を形成可能な長さとされている。
駆動機構21は、一対の遮蔽部18、20を互いに独立して駆動させるためのモータ(駆動源)25と、モータ25の回転数を所望の回転数に減速する減速機26と、減速機26に接続されたプーリ27と、プーリ27と一対の遮蔽部18、20それぞれの遮蔽基部22に接続されるワイヤ28と、発光用筐体7と各遮蔽部18、20の凸部23とを接続するバネ30とを備えている。
発光ユニット10の発光用筐体7には、発光用筐体7の中心軸線C上にて光源8を支持する支持板31が形成されている。
受光ユニット13は、図1に示す配管2の表面2Aの溶接線3に沿って、図4に示すように、配管2の周方向に複数連接して配されている。各受光ユニット13は、図2及び図5に示すように、受光ユニット13の移動に伴う光源8からの射出光をライン光に変換するシリンドリカルレンズ33と、図6に示すように、配管2の表面2Aに沿って並ぶ二つの位置検出素子12と、その間に配された光量検出センサ35とを備えている。
次に、本実施形態に係る超音波探傷装置1の探傷方法、及び、作用・効果について、図6から図8を適宜参照しながら説明する。
探傷開始に伴い、発光ユニット10の光源8を点灯し、発光ユニット10とともに超音波を発信させながら超音波探傷部4を溶接線3に対して所定の範囲内で遠近移動する。
同時に、一対の遮蔽部18、20のそれぞれの駆動機構21を駆動する。
この際、まず、発光ユニット10の初期位置及び溶接線3に対する移動速度に対し、図3における光源8及び各遮蔽部18、20の凸部23の先端23Aを結ぶそれぞれの直線と中心軸線Cとのなす上下方向それぞれの仰角R1、R2、支持板31に対する一対の遮蔽部18、20の前後方向移動量L1、L2、それぞれのモータ25の回転数、プーリ27の減速比のそれぞれの関係を予め算出しておく。そしてこれらの関係に基づき、図6に示すように、光束36の放射角Rが小さく、かつ、中心軸線C方向に対する上方向の仰角R1が高くなるように、一対の遮蔽部18、20をそれぞれ移動して開口部17の位置及び大きさを変化させる。
この状態から、図7に示すように、受光ユニット13の位置検出素子12が射出光を検出するまで、光束36の放射角Rを維持しながら一対の遮蔽部18、20をそれぞれ移動して光束36の仰角R1を小さくし、かつ、仰角R2を大きくする。
そして、光量検出センサ35によって光量を検知しながら、例えば、光束36の8割程度が位置検出素子12に検知される位置まで開口部17を移動する。
その後、配管2近位側の下側の遮蔽部20をさらに光源8に近づけて、例えば、光帯幅の6割程度が位置検出素子12を覆うように光束36の放射角Rを大きくして、図8に示すように、光束36の光帯幅を太くする。
このような光束36の制御を計測中常に行うことによって取得したデータに基づき、公知の方法によって溶接線3に対する超音波探傷部4の位置を算出する。
この超音波探傷装置1によれば、光源8から配管2の表面2Aまでの光路上に調整部15を配することによって、光源8からの射出光の光束36の放射角R及び放射方向を変更することができる。そして、光が反射しやすい配管2の表面2Aを探傷する場合であり、かつ、光源8からの射出光が放射光の場合であっても、配管2の表面2Aに向かう光束36を抑えることができ、配管2の表面2Aにおける光源8の虚像の発生を抑えることができる。
この際、配管2の表面2Aにおける虚像の発生を抑えるとともに、位置検出素子12への好適な受光量を確保することができ、光源8の実像のみから超音波探傷部4の配管2に対する正確な位置を探傷器6によって光学的に算出することができる。
特に、駆動機構21によって光源8又は位置検出素子12と配管2の表面2Aとの距離や視野に応じて一対の遮蔽部18、20をそれぞれ独立に調整して、開口部17の配管2の表面2Aからの高さと開口幅とを好適に変更することができる。従って、光源8から位置検出素子12に向かう光束36のうち、光源8から配管2に向かう光束を遮蔽することができる。
次に、第2の実施形態について図9から図14を参照しながら説明する。
なお、上述した第1の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第2の実施形態と第1の実施形態との異なる点は、図9に示すように、本実施形態に係る超音波探傷装置40の調整部41が、一対の遮蔽部18、20の代わりに、光源45の放射角度を変更する光学系42を備えているとした点である。
発光ユニット43に配される光源45は、レーザダイオード等のビーム光を射出する光源とされている。
光学系42は、図9及び図10に示すように、発光ユニット43に配され、光源45の前方に配されるビーム光生成レンズ46と、そのさらに前方に配されるシリンドリカルレンズ47と、ビーム光生成レンズ46を光源45とシリンドリカルレンズ47とに対して前後方向、かつ、上下方向に移動させる移動機構48とを備えている。
移動機構48は、図11に示すように、ビーム光生成レンズ46を上下方向から支持する第一支持部50と、第一支持部50を内部に前後方向から支持する第二支持部51とを備えている。
第一支持部50の上下方向及び第二支持部51の前後方向には、内部に永久磁石52Aが配されたスライドピン52が配されている。第一支持部50には、スライドピン52が挿通する貫通孔50Aが配されており、貫通孔50Aにはコイル53が配されている。このコイル53に通電することによって、スライドピン52内部の永久磁石52Aとの間に電磁力が発生する。従って、第一支持部50が第二支持部51との間に配されたバネ55の弾性変形範囲内で第二支持部51に対してスライドピン52に沿って前後方向に移動する。
第二支持部51には、スライドピン52が挿通する貫通孔51Aが配されており、貫通孔51Aにはコイル53が配されている。このコイル53に通電することによって、スライドピン52内部の永久磁石52Aとの間に電磁力が発生する。従って、第二支持部51が発光用筐体56との間に配されたバネ55の弾性変形範囲内で発光用筐体56に対してスライドピン52に沿って上下方向に移動する。
そして、例えば、発光ユニット43からの射出光の光束36を太くする際には、第一支持部50に配されたコイル53に通電して第一支持部50をスライドピン52に沿って第二支持部51に対して、図12に示すように、ビーム光生成レンズ46を光源45に近づける方向に移動する。
逆に、光束36を細くする際には、図13に示すように、ビーム光生成レンズ46を光源45から遠ざける方向に移動する。
また、発光ユニット43からの射出光の光束36の仰角R1、R2を変更する際には、第二支持部51に配されたコイル53に通電して第二支持部51をスライドピン52に沿って発光用筐体56に対して、図14に示すように、ビーム光生成レンズ46を上下方向に移動する。
次に、本実施形態に係る超音波探傷装置40の探傷方法、及び、作用・効果について説明する。
探傷開始に伴い、発光ユニット43の光源45を点灯し、発光ユニット43とともに超音波を発信させながら超音波探傷部を溶接線に対して所定の範囲内で遠近移動する。
同時に、調整部41を駆動して射出光の光束36を調整する。
この際、まず、発光ユニット43の初期位置及び溶接線3に対する移動速度に対し、コイル53に対する通電量とそのときの第一支持部50及び第二支持部51それぞれの移動距離との関係を予め算出しておく。そしてこれらに基づき、第一支持部50又は第二支持部51を移動させる。そして、光源45からビーム光生成レンズ46までの距離や光源45に対するビーム光生成レンズ46の方向とを変更することによって、中心軸線Cに対する射出光の光束36の放射角R及び放射方向が変更する。
位置検出素子12への照射手順については、第1の実施形態と同様の手順にて行う。
この超音波探傷装置40によれば、光源45と位置検出素子12と配管表面との相対位置に応じて光源45の放射角度及び放射方向を変更することができる。従って、光源45から位置検出素子12へ到達する光量を変えることなく、光源45からの射出光が配管表面へ向かうのを好適に抑えることができる。
次に、第3の実施形態について図15及び図16を参照しながら説明する。
なお、上述した他の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第3の実施形態と第2の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る超音波探傷装置60の調整部61が、移動機構48の代わりに光源45の放射方向を変更する反射部62を備えているとした点である。
発光ユニット63は、図15に示すように、反射部62とともにレーザダイオード等のビーム光を射出する光源45と、光源45の前方に配されるビーム光生成光学系65と、ビーム光生成光学系65のさらに前方に配されてスリット光を生成するシリンドリカルレンズ66とを備えている。
反射部62は、光源45からの射出光を反射するミラー部67と、光源45のミラー部67からの反射角rを調整する角度変更機構68とを備えている。
角度変更機構68は、ミラー部67の上下端に一つずつ配された上側永久磁石70A及び下側永久磁石70Bと、これら永久磁石70A、70Bにそれぞれ対向して発光用筐体71内に配された電磁石72とを備えている。
ミラー部67の発光用筐体71に対する角度を変える際には、永久磁石70A、70Bと電磁石72との間に反発する方向の磁界を発生させ、この反発力の大きさを調整して角度変更させる。
次に、本実施形態に係る超音波探傷装置60の探傷方法、及び、作用・効果について説明する。
探傷開始に伴い、発光ユニット63の光源45を点灯し、発光ユニット63とともに超音波を発信させながら超音波探傷部を溶接線に対して所定の範囲内で遠近移動する。
同時に、発光ユニット63の調整部61を駆動して射出光の光束36を調整する。
このとき、まず、発光ユニット63の初期位置及び溶接線3に対する移動速度に対し、予め算出した発光用筐体71に対するミラー部67の角度と、電磁石72に対する通電量との関係に基づき、発光用筐体71に対してミラー部67を移動する。
即ち、第1の実施形態と同様、図16にて実線で示す位置である位置検出素子12の上端側に光束36を配するように反発力を調整する。そして、上側永久磁石70Aと電磁石72との間の反発力を強めながらミラー部67を傾け、図16にて破線で示す位置である位置検出素子12上に光束36を配するように調整する。こうして、射出光の放射方向を変更する。
このような光束36の制御を計測中常に行うことによって取得したデータに基づき、公知の方法によって溶接線に対する超音波探傷部の位置を算出する。
この超音波探傷装置60によれば、反射部62によって光源45からの射出光に係る光束36の放射方向を変更することができ、光源45、位置検出素子12、配管表面のそれぞれの相対位置に応じて射出光が配管表面へ向かうのを好適に抑えることができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、発光ユニットを超音波探傷部に配して移動可能としているが、図17に示すように、受光ユニット13が超音波探傷部に配されて移動可能とされ、発光ユニット10が配管2に複数固定されたものとしても構わない。この場合、図17に破線で示す受光範囲A内で、上記実施形態と同様に発光ユニット10からの射出光を検出することができる。
また、図18に示すように、上記第1の実施形態に係る調整部15が、受光ユニット75にも配されているとしても構わない。
この場合、受光ユニット75に係る調整部15も発光ユニット10側の調整部15と同期させて制御されることによって、射出光が配管2の表面2Aに達してしまって配管2の表面2Aに反射する光があったとしても、受光ユニット75側で配管2の表面2Aからの反射光の光束36を遮蔽して配管2の表面2Aに生じた光源8の虚像を位置検出素子12が受光するのを抑えることができる。
さらに、第1の実施形態に係る調整部15の代わりに、図19に示すように、一対の遮蔽部76、77の遮蔽基部78が、無端ワイヤ80によってプーリ27と連動されて発光用筐体81に対して回動可能に接続されている調整部82としても構わない。
この場合、一対の遮蔽部76、77は、遮蔽基部78を回動中心として発光用筐体81の中心軸線Cに対して駆動機構85によって前後方向に回動するものとされている。発光用筐体81の上側に配された遮蔽部76及び下側に配された遮蔽部77の遮蔽基部78は、それぞれ光源8からの距離が互いに異なる距離となるように配されている。
このとき、一対の遮蔽部76、77の凸部23の先端23A間に開口部17が形成され、中心軸線Cと光源8及び一対の遮蔽部76、77の凸部23の各先端23Aとを結ぶ直線とのなす角度が仰角R1、R2とされる。そして、駆動機構85を駆動して、一対の遮蔽部76、77のそれぞれの凸部23を遮蔽基部78の回りに回動させて、凸部23の互いの先端23Aを接近又は離間させる。こうして、光源8からの光束36の放射角Rのみならず放射方向をも変更させることができる。
また、第1の実施形態に係る調整部15の代わりに、図20(a)に示すように、一対の遮蔽部86、87を光源8からの射出光の進行方向に対して直交する方向に移動させる駆動機構88を備えている調整部90としても構わない。
この場合、一対の遮蔽部86、87は、図20(b)に示すように、基端側から先端側に延びる平板状に形成されており、基端側は発光用筐体91の内壁面に沿って配され、発光用筐体91に配されたローラ92によって、先端93側が発光用筐体91に対して上下方向に移動可能に折り曲げられている。一対の遮蔽部86、87の先端93と発光用筐体91とはバネ95によって接続されている。なお、発光用筐体91の上側に配されたローラ92と下側に配されたローラ92とは、それぞれ光源8からの距離が互いに異なる位置に配されている。
この調整部90を用いる場合には、光源8と一対の遮蔽部86、87の先端93とを結ぶそれぞれの直線と中心軸線Cとのなす上下方向それぞれの仰角R1、R2、それぞれのモータ25の回転数、プーリ27の減速比の関係に基づいて第1の実施形態と同様に駆動機構88を駆動する。そして、一対の遮蔽部86、87をそれぞれ独立に移動して先端93と発光用筐体91との間の距離を変更して開口部17を変更し、光束36の放射角R及び放射方向を変更することができる。
本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の全体を示す概要図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の(a)要部を示す側面図、(b)発光ユニットを示す正面図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の発光ユニットの構成を示す側面断面図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の要部を示す平面図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の受光ユニットの光学系を示す説明図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す(a)側面からの説明図、(b)正面からの説明図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す説明図である。 本発明の第1の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す説明図である。 本発明の第2の実施形態に係る超音波探傷装置の(a)発光ユニットの光学系を示す構成図、(b)受光ユニットを示す斜視図である。 本発明の第2の実施形態に係る超音波探傷装置の発光ユニットの構成を示す側面断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る超音波探傷装置の発光ユニットの構成を示す(a)側面断面図、(b)正面図である。 本発明の第2の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す(a)発光ユニットの光学系の説明図、(b)受光ユニットを示す説明図である。 本発明の第2の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す(a)発光ユニットの光学系の説明図、(b)受光ユニットを示す説明図である。 本発明の第2の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す(a)発光ユニットの光学系の説明図、(b)受光ユニットを示す説明図である。 本発明の第3の実施形態に係る超音波探傷装置の発光ユニットの構成を示す(a)側面断面図、(b)正面図である。 本発明の第3の実施形態に係る超音波探傷装置の探傷方法を示す(a)側面からの説明図、(b)正面からの説明図である。 本発明の他の実施形態に係る超音波探傷装置を示す平面図である。 本発明の他の実施形態に係る超音波探傷装置を示す側面図である。 本発明の他の実施形態に係る超音波探傷装置の発光ユニットを示す側面断面図である。 本発明の他の実施形態に係る超音波探傷装置の発光ユニットの構成を示す(a)側面断面図、(b)正面図である。 一般的な超音波探傷装置による探傷方法を説明する側面図である。 従来の超音波探傷装置による探傷方法を説明する側面図である。 従来の超音波探傷装置による探傷方法を説明する側面図である。
符号の説明
1、40、60 超音波探傷装置
2 配管(被検体)
3 溶接線(検査対象物)
4 超音波探傷部
5 位置計測部
8、45 光源
12 位置検出素子(受光子)
15、41、61、82、90 調整部
17 開口部
18、20、76、77、86、87 遮蔽部
21、85、88 駆動機構
25 モータ(駆動源)
42 光学系
62 反射部

Claims (11)

  1. 光が反射しやすい被検体の表面でも前記被検体に配された検査対象物を非破壊的に検査できる超音波探傷装置であって、
    超音波を発して前記被検体の表面上を移動する超音波探傷部と、
    該超音波探傷部の前記検査対象物に対する位置を特定する位置計測部と、
    を備え、
    該位置計測部は、
    前記被検体及び前記超音波探傷部の何れか一方に配された光源と、
    前記被検体及び前記超音波探傷部の何れか他方に配されて前記光源から射出した光を検知する受光子と、
    前記光源から前記受光子へ向かう光路上に配され、前記被検体表面の反射光を規制する調整部と、
    を備え、
    前記受光子は、前記光の光量を検出する光量検出センサを備え、
    前記調整部は、前記光源から射出された光の放射角及び放射方向のうち少なくとも一つを変更し、前記光を、前記被検体の表面に到達する前に、前記被検体の表面へ向かう光が除去された光束に変換し、前記光束の仰角を、前記光束が前記被検体の表面から離れる方へ向き前記光量検出センサにおいて検出される前記光量が検出限界以下となる第一の仰角に設定し、前記光束の仰角が前記第一の仰角に設定された後、前記光束の放射方向を、前記被検体の表面に近づく方へと漸次変動させ、前記光量検出センサにおいて所定以上の前記光量が検出されたときに前記放射方向の変動を停止させる
    ことを特徴とする超音波探傷装置。
  2. 前記調整部が、間に開口部を形成して互いに対向して配され、前記開口部の大きさを変化させる一対の遮蔽部を備えている請求項1に記載の超音波探傷装置。
  3. 前記調整部が、前記一対の遮蔽部を前記光源からの射出光の進行方向に対して前後移動させる駆動機構を備えていることを特徴とする請求項2に記載の超音波探傷装置。
  4. 前記調整部が、前記一対の遮蔽部を前記光源からの射出光の進行方向に沿って直交する方向に移動させる駆動機構を備えていることを特徴とする請求項2に記載の超音波探傷装置。
  5. 前記駆動機構が、前記一対の遮蔽部のそれぞれを独立に駆動させる複数の駆動源を備えていることを特徴とする請求項3又は4に記載の超音波探傷装置。
  6. 前記調整部が、前記光源の放射角度を変更する光学系を備えていることを特徴とする請求項1に記載の超音波探傷装置。
  7. 前記光学系は、
    前記光源からの光をビーム光に変換するビーム光生成レンズと、
    前記ビーム光生成レンズを透過した前記ビーム光をスリット光に変換するシリンドリカルレンズと、
    前記光源および前記シリンドリカルレンズに対して前記ビーム光生成レンズを相対移動させる移動機構と、
    を備えていることを特徴とする請求項6に記載の超音波探傷装置。
  8. 前記調整部が、前記光源の放射方向を変更する反射部を備えていることを特徴とする請求項6に記載の超音波探傷装置。
  9. 前記調整部は、前記放射方向の変動を停止させたあと、前記光束の放射角を、前記光源から発せられた光束の6割以上が前記受光子に入射する放射角に設定することを特徴とする請求項に記載の超音波探傷装置。
  10. 前記受光子は、前記光源からの射出光をライン光に変換するシリンドリカルレンズを有することを特徴とする請求項1からのいずれか一項に記載の超音波探傷装置。
  11. 前記調整部は前記光源側に配置され、
    前記受光子には、前記被検体表面の反射光を規制する第二調整部が設けられ、
    前記調整部と前記第二調整部とは同期させて制御される
    ことを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の超音波探傷装置。
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