JP4857571B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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まず、この発明の第1の実施形態に係る磁気記録媒体用のガラス基板について、図1乃至図5を参照しつつ説明する。
第1の実施形態に係る磁気記録媒体用のガラス基板1の構成について、図1を参照しつつ説明する。図1は、この発明の第1の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の構造を示すものであり、図1(a)はガラス基板1の斜視図、図1(b)は図1(a)に示すガラス基板1の断面図である。
次に、本実施形態のガラス基板1を用いて、最終製品の磁気記録媒体用ガラス基板を作製する工程について図2及び図3を参照しつつ説明する。図2は、この発明の第1の実施形態に係るガラス基板を研削する工程を順番に示す基板の断面図である。図3は、ガラス基板を研削する状態を模式的に示す斜視図である。この工程は上述した第1ラッピング工程に相当し、ガラス基板1(ブランクス材)の両面を研削することにより、基板の平行度、平面度、及び厚さを調整する。なお、第1ラッピング工程を施す前に、ガラス基板1(ブランクス材)の中心部に孔を開け、ドーナツ状のガラス基板(穴明きブランクス材)を作製するが、図3においては、説明の便宜上、中心部の孔の図示を省略する。
次に、本実施形態に係るガラス基板1の製造方法について、図4を参照しつつ説明する。図4は、この発明の第1の実施形態に係るガラス基板の製造方法を順番に示す基板の断面図である。この製造方法は上述したプレス成形工程に相当する。図4(a)に示すように、凸面を有する金型14a、14bを用意する。
次に、この発明の第2の実施形態に係るガラス基板について、図6を参照しつつ説明する。第1の実施形態に係るガラス基板は、片面又は両面が凹面で、表面が曲面になっているが、曲面となっていなくても良い。
第2の実施形態に係るガラス基板60の構成について、図6を参照しつつ説明する。図6は、この発明の第2の実施形態に係るガラス基板の断面図である。
次に、この発明の具体的な実施例について説明する。
まず、実施例1として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例1としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.95[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.25[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=3737[mm](=3.737[m])
表面1a及び表面1bのr/R2=3.33[1/mm]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
研磨機:スピードファム社製の16B型両面研磨機
研磨材:ダイヤモンドをペレット状に焼成成型した「ダイヤモンドペレット(DP)」を研磨定磐上に貼り付けた「ダイヤモンドプレート」
タイヤモンドペレットは三井研削砥石社製であり、ダイヤモンドの粒子径は10〜30[μm](平均15[μm])
加工圧:100〜300[g/cm2](通常、200[g/cm2])
回転数:5〜50[rpm](通常、30[rpm])
評価枚数:300
平面度:0.165[mm]
標準偏差:0.025[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0035[mm](=3.5[μm])
標準偏差:0.00023[mm](=0.23[μm])
以上のように、本実施例に係るガラス基板を用いると、第1ラッピング工程にて平面度が良好なガラス基板を得ることが可能となる。このことにより、例えば、2.5インチのハードディスクに用いられるガラス基板に要求される平面度の基準を満たすことが可能となる。
ガラスの種類:ホウ珪酸ガラス、アルミノシリケートガラス
凸面を有する金型:凸面の曲率半径が2500[mm](=2.5[m])、外周部に比べて中心部が0.15[mm]だけ突出している。
次に、実施例2として、第1の実施形態に係るガラス基板1の別の具体例を説明する。実施例2のガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.95[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.05[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=11222[mm](=11.22[m])
表面1a及び表面1bのr/R2=10.0[1/mm]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
評価枚数:300
平面度:0.045[mm]
標準偏差:0.0027[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0031[mm](=3.1[μm])
標準偏差:0.00013[mm](=0.13[μm])
以上のように、実施例2についても実施例1と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
次に、実施例3として、第1の実施形態に係るガラス基板1の別の具体例を説明する。実施例3のガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.95[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.25[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=5611[mm](=5.611[m])
表面1a及び表面1bのr/R2=5.00[1/mm]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
評価枚数:300
平面度:0.098[mm]
標準偏差:0.0022[mm」
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0032[mm](=3.2[μm])
標準偏差:0.00010[mm](=0.10[μm])
以上のように、実施例2についても実施例1と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
次に、実施例4として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例4としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=49[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.98[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.25[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=2000mm(=2[m])
表面1a及び表面1bのr/R2=3.33[1/mm]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
評価枚数:350
平面度:0.152[mm]
標準偏差:0.034[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.0028[mm](=2.8[μm])
標準偏差:0.00011[mm](=0.11[μm])
以上のように、実施例4についても実施例1〜3と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
次に、実施例5として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例5としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=49[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.98[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.18[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=3000[mm](=3[m])
表面1a及び表面1bのr/R2=5.00[1/mm]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
評価枚数:350
平面度:0.103[mm]
標準偏差:0.024[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.0024[mm](=2.4[μm])
標準偏差:0.00009[mm](=0.09[μm])
以上のように、実施例5についても実施例1〜4と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
次に、実施例6として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例6としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=49[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.98[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.08[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=6000[mm](=6[m])
表面1a及び表面1bのr/R2=10.0[1/mm]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
評価枚数:350
平面度:0.054[mm]
標準偏差:0.0052[mm]
(研磨後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.0021[mm](=2.1[μm])
標準偏差:0.00008[mm](=0.08[μm])
以上のように、実施例6についても実施例1〜5と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
次に、実施例7として、第2の実施形態に係るガラス基板60の具体例を説明する。実施例7としてのガラス基板60の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部61の厚さ:d7=0.98[mm]
外周部62の厚さ:d6=1.18[mm]
また、このガラス基板60は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
評価枚数:300
平面度:0.1[mm]
標準偏差:0.0033[mm]
(研削後のガラス基板に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0031[mm](=3.1[μm])
標準偏差:0.00023[mm](=0.23[μm])
以上のように、実施例7についても実施例1から実施例6と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
次に、実施例1〜実施例7に対する比較例を以下に説明する。実施例1〜実施例7のガラス基板は、凸面を有する金型を用いて成型されているが、比較例のガラス基板は、表面が平坦な金型を用いて成型されている。つまり、実施例1〜実施例7のガラス基板は、表面が意図的に凹面になるように、凸面の金型を用いて成型しているが、この比較例のガラス基板は、従来から用いられている平坦な金型を用いて成型されている。
評価枚数:100枚
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部及び外周部の厚さの平均値:1.25[mm]
100枚のガラス基板における、中心部と外周部との厚さの差(外周部の厚さ−中心部の厚さ)は、以下のようになっている。
100枚の平均値:0.03[mm]
最大値:0.12[mm]
最小値:−0.11[mm](外周部よりも中心部の方が厚い)
標準偏差:0.06[mm]
このように、平坦な金型を用いて成型すると、ガラス基板の厚さは均一にならず、部分的に厚さが異なってしまう。
評価枚数:100枚
平面度(平均値):0.0042[mm](=4.2[μm])
標準偏差:0.0015[mm](=1.5[μm])
平面度の平均値は、5[μm]以下となるが、100枚中、23枚のガラス基板においては、平面度は5[μm]より大きくなり、この発明の実施例のような良好な結果が得られなかった。
1a、1b、20a、20b、60a、60b、70a、70b、80a、80b 表面
2、21、61、71、81 中心部
3、22、62、72、82 外周部
13a、13b 砥石
14a、14b 金型
15 溶融したガラス素材
Claims (2)
- 研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研磨及び研削される前のガラス基板であって、
円盤状の形状を有し、一方の面が凹面、且つ他方の面が平坦であり、
前記凹面の曲率半径rが2〜12[m]
である前記ガラス基板の両面を研磨及び研削することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板は、溶融したガラス素材を凸状形状のプレス用金型で挟んでプレスすることによって製造されることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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