JP2001023154A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法Info
- Publication number
- JP2001023154A JP2001023154A JP11194399A JP19439999A JP2001023154A JP 2001023154 A JP2001023154 A JP 2001023154A JP 11194399 A JP11194399 A JP 11194399A JP 19439999 A JP19439999 A JP 19439999A JP 2001023154 A JP2001023154 A JP 2001023154A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- recording medium
- magnetic recording
- minutes
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 33
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 16
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】平面度に優れたガラス基板を効率良く生産でき
る製造方法を提供すること。 【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法にお
いて、所定の板厚にラッピング加工したガラス基板を、
５０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特
性を悪化させることのない範囲内の温度、３分間以上の
時間で、且つ時間を対数側にとった片対数グラフ上の点
Ａ（５分、７０℃）と点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ
線よりも高温側、長時間側の範囲内で熱処理し、次いで
ポリッシング加工する、平面度に優れた磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法。
る製造方法を提供すること。 【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法にお
いて、所定の板厚にラッピング加工したガラス基板を、
５０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特
性を悪化させることのない範囲内の温度、３分間以上の
時間で、且つ時間を対数側にとった片対数グラフ上の点
Ａ（５分、７０℃）と点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ
線よりも高温側、長時間側の範囲内で熱処理し、次いで
ポリッシング加工する、平面度に優れた磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法に関し、より詳しくは平面度に優れた
ガラス基板を効率良く生産できる製造方法に関する。
ス基板の製造方法に関し、より詳しくは平面度に優れた
ガラス基板を効率良く生産できる製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク記録装置の大容量化にとも
なって、記録密度向上のために磁気ヘッド浮上量の低減
が図られており、このためには平滑性に優れ、反りが少
ない即ち平面度に優れた磁気記録媒体用基板が必要とな
る。
なって、記録密度向上のために磁気ヘッド浮上量の低減
が図られており、このためには平滑性に優れ、反りが少
ない即ち平面度に優れた磁気記録媒体用基板が必要とな
る。
【０００３】ハードディスクの磁気記録媒体用の基板材
料としてアルミニウム合金又はガラスが使用されてきて
いる。なお、ガラスは一般に脆いのでそのままでは実用
性に乏しく、そのため表面化学強化処理を施して用いて
いるか、又は結晶化ガラスを用いている。ガラスはアル
ミニウム合金に比べて比較的容易に平滑性よく研摩する
ことが可能であるので、低浮上性基板の製作に好適な材
料である。
料としてアルミニウム合金又はガラスが使用されてきて
いる。なお、ガラスは一般に脆いのでそのままでは実用
性に乏しく、そのため表面化学強化処理を施して用いて
いるか、又は結晶化ガラスを用いている。ガラスはアル
ミニウム合金に比べて比較的容易に平滑性よく研摩する
ことが可能であるので、低浮上性基板の製作に好適な材
料である。
【０００４】磁気記録媒体用ガラス基板は通常は、 所定の円盤形状に加工、 内外周の面取り加工、 所定の板厚にラッピング加工、及び 表面を研摩して平滑化するポリッシング加工によっ
て製造されており、化学強化によってガラス基板の強度
を向上させる必要がある場合には、更に、 表面化学強化処理を追加している。
て製造されており、化学強化によってガラス基板の強度
を向上させる必要がある場合には、更に、 表面化学強化処理を追加している。
【０００５】上記の、及びの加工においては、ガ
ラス材質よりも硬度の高いダイヤモンド、アルミナ、炭
化ケイ素等の砥粒又はこれらの砥粒を用いて構成された
研削工具を使用してガラス元材から所定の形状に加工す
る。ガラスは脆性材料であるので、これらの工程で加工
された加工物の表面は微小なクラックの集合体であり、
加工により発生した加工応力も内在していると考えられ
る。
ラス材質よりも硬度の高いダイヤモンド、アルミナ、炭
化ケイ素等の砥粒又はこれらの砥粒を用いて構成された
研削工具を使用してガラス元材から所定の形状に加工す
る。ガラスは脆性材料であるので、これらの工程で加工
された加工物の表面は微小なクラックの集合体であり、
加工により発生した加工応力も内在していると考えられ
る。
【０００６】一方、のポリッシング加工においては、
酸化セリウムを主成分とする研磨材を用い、酸化セリウ
ムとガラス成分との化学反応を利用したいわゆるメカノ
・ケミカル研摩のメカニズムにより、の加工工程で発
生した加工ダメージ層（微小クラック）を、新たにダメ
ージを与えることなしで、除去して、表面に加工ダメー
ジ層のない、高品質な表面を創成することができる。
酸化セリウムを主成分とする研磨材を用い、酸化セリウ
ムとガラス成分との化学反応を利用したいわゆるメカノ
・ケミカル研摩のメカニズムにより、の加工工程で発
生した加工ダメージ層（微小クラック）を、新たにダメ
ージを与えることなしで、除去して、表面に加工ダメー
ジ層のない、高品質な表面を創成することができる。
【０００７】ガラス基板の強度を向上させる必要がある
場合に実施されるの表面化学強化処理は、使用するガ
ラスのガラス転移点以下の温度領域において、ガラス表
面近傍のイオンを、よりイオン半径の大きいイオンで置
換してガラス表面に圧縮応力を発生させる処理であり、
例えば、ガラスを硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混
合溶融塩中に浸漬させ、ガラス中のリチウムイオンを前
記溶融塩中のカリウムイオン及びナトリウムイオンと置
換させることにより行われる。
場合に実施されるの表面化学強化処理は、使用するガ
ラスのガラス転移点以下の温度領域において、ガラス表
面近傍のイオンを、よりイオン半径の大きいイオンで置
換してガラス表面に圧縮応力を発生させる処理であり、
例えば、ガラスを硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混
合溶融塩中に浸漬させ、ガラス中のリチウムイオンを前
記溶融塩中のカリウムイオン及びナトリウムイオンと置
換させることにより行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記の製造方法によっ
て製造される磁気記録媒体用ガラス基板の平面度は実用
に耐え得るものであるが、磁気ディスク記録装置の大容
量化にともなって、磁気記録媒体用ガラス基板の平面度
について更なる向上が求められている。
て製造される磁気記録媒体用ガラス基板の平面度は実用
に耐え得るものであるが、磁気ディスク記録装置の大容
量化にともなって、磁気記録媒体用ガラス基板の平面度
について更なる向上が求められている。
【０００９】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製
造方法において、従来と同等の研摩装置を用いながら、
平面度に優れたガラス基板を効率良く生産できる製造方
法を提供することを課題としている。
造方法において、従来と同等の研摩装置を用いながら、
平面度に優れたガラス基板を効率良く生産できる製造方
法を提供することを課題としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題について鋭意検討した結果、磁気記録媒体用ガラス基
板の製造方法において、所定の板厚にラッピング加工し
たガラス基板を熱処理し、その後ポリッシング加工する
ことにより、ポリッシング加工後のガラス基板の平面度
を向上させ得る（平面度の数値を低下させ得る）ことを
見いだし、本発明を完成した。
題について鋭意検討した結果、磁気記録媒体用ガラス基
板の製造方法において、所定の板厚にラッピング加工し
たガラス基板を熱処理し、その後ポリッシング加工する
ことにより、ポリッシング加工後のガラス基板の平面度
を向上させ得る（平面度の数値を低下させ得る）ことを
見いだし、本発明を完成した。
【００１１】即ち、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板
の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に
おいて、所定の板厚にラッピング加工したガラス基板
を、５０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要
な特性を悪化させることのない範囲内の温度、３分間以
上の時間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の点Ａ（５
分、７０℃）と点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ線より
も高温側、長時間側の範囲内で熱処理し、次いでポリッ
シング加工することを特徴とする。
の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に
おいて、所定の板厚にラッピング加工したガラス基板
を、５０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要
な特性を悪化させることのない範囲内の温度、３分間以
上の時間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の点Ａ（５
分、７０℃）と点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ線より
も高温側、長時間側の範囲内で熱処理し、次いでポリッ
シング加工することを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法で用いるガラス
基板はカナサイト結晶系、リチウムケイ酸塩結晶系等の
結晶化ガラス基板であっても、あるいは、化学強化処理
で強化層を形成することのできる基板、例えばアルミノ
シリケート系ガラス、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガ
ラス、アルミノホウ珪酸ガラス等製の基板であってもよ
い。強化層を容易に厚く形成することのできるガラス基
板としては、例えば５５〜７７重量％のＳｉＯ2 、３〜
２５重量％のＡｌ2 Ｏ3 、３〜１０重量％のＬｉ2 Ｏ、
３〜１３重量％のＮａ2 Ｏを含有し、必要に応じてＺｒ
Ｏ2 、ＭｇＯ、ＺｎＯ、Ｂ2 Ｏ3 等を含有するアルミノ
シリケート系ガラス基板がある。
基板はカナサイト結晶系、リチウムケイ酸塩結晶系等の
結晶化ガラス基板であっても、あるいは、化学強化処理
で強化層を形成することのできる基板、例えばアルミノ
シリケート系ガラス、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガ
ラス、アルミノホウ珪酸ガラス等製の基板であってもよ
い。強化層を容易に厚く形成することのできるガラス基
板としては、例えば５５〜７７重量％のＳｉＯ2 、３〜
２５重量％のＡｌ2 Ｏ3 、３〜１０重量％のＬｉ2 Ｏ、
３〜１３重量％のＮａ2 Ｏを含有し、必要に応じてＺｒ
Ｏ2 、ＭｇＯ、ＺｎＯ、Ｂ2 Ｏ3 等を含有するアルミノ
シリケート系ガラス基板がある。
【００１３】本発明の製造方法で用いる所定の板厚にラ
ッピング加工したガラス基板は、研磨材として炭化ケイ
素砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒等の周知の研
摩材を用いてラッピング加工したガラス基板であり、磁
気記録媒体用ガラス基板として適した大きさ、形状であ
れば、いかなる大きさでも、いかなる形状でもよく、例
えば公称２．５インチ、３．５インチ、５．２５インチ
磁気ディスクの大きさ、形状であることができる。
ッピング加工したガラス基板は、研磨材として炭化ケイ
素砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒等の周知の研
摩材を用いてラッピング加工したガラス基板であり、磁
気記録媒体用ガラス基板として適した大きさ、形状であ
れば、いかなる大きさでも、いかなる形状でもよく、例
えば公称２．５インチ、３．５インチ、５．２５インチ
磁気ディスクの大きさ、形状であることができる。
【００１４】このような所定の板厚にラッピング加工し
たガラス基板は、一般的には、ガラス板を所定の円盤形
状に加工し、内外周の面取り加工を実施し、次いで所定
の板厚にラッピング加工することにより得られる。しか
し、この方法に限定されるものではなく、所定の板厚に
ラッピング加工したガラス基板であれば、いかなる方法
によって得られたものでもよい。
たガラス基板は、一般的には、ガラス板を所定の円盤形
状に加工し、内外周の面取り加工を実施し、次いで所定
の板厚にラッピング加工することにより得られる。しか
し、この方法に限定されるものではなく、所定の板厚に
ラッピング加工したガラス基板であれば、いかなる方法
によって得られたものでもよい。
【００１５】本発明の製造方法においては、生産性を確
保し（必要な熱処理時間が長くならないようにし）且つ
所望の熱処理効果を得るためには熱処理を好ましくは５
０℃以上、より好ましくは１００℃以上で実施する。し
かし、熱処理温度が高くなり過ぎると磁気記録媒体用ガ
ラス基板に必要な強度、硬度等の特性を悪化させるこに
なるので、磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特性を悪
化させることのない範囲内の温度で実施する必要があ
る。
保し（必要な熱処理時間が長くならないようにし）且つ
所望の熱処理効果を得るためには熱処理を好ましくは５
０℃以上、より好ましくは１００℃以上で実施する。し
かし、熱処理温度が高くなり過ぎると磁気記録媒体用ガ
ラス基板に必要な強度、硬度等の特性を悪化させるこに
なるので、磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特性を悪
化させることのない範囲内の温度で実施する必要があ
る。
【００１６】本発明の製造方法においては、熱処理効果
がガラス基板全体に均等に行き渡るためには熱処理を好
ましくは３分間以上、より好ましくは５分間以上継続す
る。また、目的とする熱処理効果が充分に達成されるた
めに必要な熱処理時間は熱処理温度に依存する。この熱
処理温度と必要な熱処理時間との間には相関関係がある
が、数式で表すことは極めて困難である。しかし、多数
の実験に基づいて近似的に表すことができる。後記の実
施例のデータを図１の片対数グラフ上にプロットするこ
とにより、本発明における熱処理条件を次にように規定
することができる。
がガラス基板全体に均等に行き渡るためには熱処理を好
ましくは３分間以上、より好ましくは５分間以上継続す
る。また、目的とする熱処理効果が充分に達成されるた
めに必要な熱処理時間は熱処理温度に依存する。この熱
処理温度と必要な熱処理時間との間には相関関係がある
が、数式で表すことは極めて困難である。しかし、多数
の実験に基づいて近似的に表すことができる。後記の実
施例のデータを図１の片対数グラフ上にプロットするこ
とにより、本発明における熱処理条件を次にように規定
することができる。
【００１７】本発明の製造方法においては、５０℃以上
で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特性を悪化さ
せることのない範囲内の温度、３分間以上の時間で、且
つ図１に示す片対数グラフ上の点Ａ（５分、７０℃）と
点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ線よりも高温側、長時
間側の範囲内で熱処理することが好ましい。この場合に
は平面度を５％以上改善することができる。
で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特性を悪化さ
せることのない範囲内の温度、３分間以上の時間で、且
つ図１に示す片対数グラフ上の点Ａ（５分、７０℃）と
点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ線よりも高温側、長時
間側の範囲内で熱処理することが好ましい。この場合に
は平面度を５％以上改善することができる。
【００１８】更に、本発明の製造方法においては、１０
０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特性
を悪化させることのない範囲内の温度、５分間以上の時
間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の点Ｃ（５分、３
００℃）と点Ｄ（６０分、１００℃）とを結ぶ線よりも
高温側、長時間側の範囲内で熱処理することがより好ま
しく（この場合には平面度を１０％以上改善することが
できる）、１００℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基
板に必要な特性を悪化させることのない範囲内の温度、
５分間以上の時間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の
点Ｅ（５分、３５０℃）と点Ｆ（６０分、１５０℃）と
を結ぶ線よりも高温側、長時間側の範囲内で熱処理する
ことが一層好ましい（この場合には平面度を２０％以上
改善することができ、最良の場合には７０％以上改善す
ることができる）。
０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特性
を悪化させることのない範囲内の温度、５分間以上の時
間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の点Ｃ（５分、３
００℃）と点Ｄ（６０分、１００℃）とを結ぶ線よりも
高温側、長時間側の範囲内で熱処理することがより好ま
しく（この場合には平面度を１０％以上改善することが
できる）、１００℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基
板に必要な特性を悪化させることのない範囲内の温度、
５分間以上の時間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の
点Ｅ（５分、３５０℃）と点Ｆ（６０分、１５０℃）と
を結ぶ線よりも高温側、長時間側の範囲内で熱処理する
ことが一層好ましい（この場合には平面度を２０％以上
改善することができ、最良の場合には７０％以上改善す
ることができる）。
【００１９】本発明の製造方法においては、熱処理の後
にポリッシング加工を実施する。ポリッシング加工とは
ガラス基板を研磨して基板表面を平滑にし、しかも反り
を発生させない加工工程をいい、研摩材として例えば酸
化セリウムを用いる。本発明の製造方法においては、上
記のように処理し、加工することにより平面度に優れた
磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。
にポリッシング加工を実施する。ポリッシング加工とは
ガラス基板を研磨して基板表面を平滑にし、しかも反り
を発生させない加工工程をいい、研摩材として例えば酸
化セリウムを用いる。本発明の製造方法においては、上
記のように処理し、加工することにより平面度に優れた
磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。
【００２０】
【実施例】以下の実施例、比較例においては、平面度は
Ｈｅ−Ｎｅレーザーを用いた光波干渉方式によって測定
した。具体的にはラッピング加工後で熱処理前（比較例
においては熱処理なし）の平面度はニディック製ＦＴ−
１１で測定し、熱処理及びポリッシング加工を実施した
後（比較例においては熱処理なし）の平面度はオリンパ
ス製ＫＩＦ−４０１で測定した。
Ｈｅ−Ｎｅレーザーを用いた光波干渉方式によって測定
した。具体的にはラッピング加工後で熱処理前（比較例
においては熱処理なし）の平面度はニディック製ＦＴ−
１１で測定し、熱処理及びポリッシング加工を実施した
後（比較例においては熱処理なし）の平面度はオリンパ
ス製ＫＩＦ−４０１で測定した。
【００２１】実施例１〜２０ ６３．０重量％のＳｉＯ2 、１２．０重量％のＡｌ2 Ｏ
3 、４．５重量％のＬｉ2 Ｏ、１０．０重量％のＮａ2
Ｏ、３．５重量％のＺｒＯ2 、２．０重量％のＭｇＯ、
２．０重量％のＺｎＯ、３．０重量％のＢ2 Ｏ3 を含有
するアルミノシリケート系ガラス板から、通常のハード
ディスク用基板の作製手順に従って、内外径加工し、ス
ピードファム製１６Ｂ両面研磨機で１００枚のガラス基
板を一括してラッピング加工して、外形６５．０ｍｍ、
内径２０．０ｍｍ、板厚０．６８０ｍｍの多数のドーナ
ツ状基板を作製した。それらの表面粗さはＲａ＝０．３
μｍであった。
3 、４．５重量％のＬｉ2 Ｏ、１０．０重量％のＮａ2
Ｏ、３．５重量％のＺｒＯ2 、２．０重量％のＭｇＯ、
２．０重量％のＺｎＯ、３．０重量％のＢ2 Ｏ3 を含有
するアルミノシリケート系ガラス板から、通常のハード
ディスク用基板の作製手順に従って、内外径加工し、ス
ピードファム製１６Ｂ両面研磨機で１００枚のガラス基
板を一括してラッピング加工して、外形６５．０ｍｍ、
内径２０．０ｍｍ、板厚０．６８０ｍｍの多数のドーナ
ツ状基板を作製した。それらの表面粗さはＲａ＝０．３
μｍであった。
【００２２】上記のようにして得た各々のドーナツ状基
板の平面度（μｍ）を測定した後、各々のドーナツ状基
板を第１表に示す熱処理温度、熱処理時間で熱処理し
た。それぞれの条件について５枚のドーナツ状基板を熱
処理した。熱処理温度が５０℃及び１００℃の場合には
熱風乾燥庫を用い、熱処理温度が２００℃、３００℃及
び４００℃の場合には電気炉を用いて大気中で熱処理し
た。
板の平面度（μｍ）を測定した後、各々のドーナツ状基
板を第１表に示す熱処理温度、熱処理時間で熱処理し
た。それぞれの条件について５枚のドーナツ状基板を熱
処理した。熱処理温度が５０℃及び１００℃の場合には
熱風乾燥庫を用い、熱処理温度が２００℃、３００℃及
び４００℃の場合には電気炉を用いて大気中で熱処理し
た。
【００２３】研磨機としてスピードファム製５Ｂ両面研
磨機を用い、研磨布としてロデールニッタ製ＭＨＣ１５
Ａを用い、研磨材としてい三井金属鉱業製ミレーク８０
１を用いて、加工単位５Ｐ／回、研摩量３０μｍとなる
ように、上記の熱処理した基板（合計で１００枚）をポ
リッシング加工した。ポリッシング加工した各々のガラ
ス基板の平面度（μｍ）を測定した。それらのガラス基
板の平面度は第１表に示す通りであった。なお、ラッピ
ング加工後で熱処理前に測定した平面度を括弧内に示
す。
磨機を用い、研磨布としてロデールニッタ製ＭＨＣ１５
Ａを用い、研磨材としてい三井金属鉱業製ミレーク８０
１を用いて、加工単位５Ｐ／回、研摩量３０μｍとなる
ように、上記の熱処理した基板（合計で１００枚）をポ
リッシング加工した。ポリッシング加工した各々のガラ
ス基板の平面度（μｍ）を測定した。それらのガラス基
板の平面度は第１表に示す通りであった。なお、ラッピ
ング加工後で熱処理前に測定した平面度を括弧内に示
す。
【００２４】比較例１ 熱処理を実施しなかった以外は実施例１〜２０と同様に
して加工し、ラッピング加工後の平面度、及びポリッシ
ング加工後の平面度を測定した。その結果も実施例１〜
２０と同様に第１表に示す。
して加工し、ラッピング加工後の平面度、及びポリッシ
ング加工後の平面度を測定した。その結果も実施例１〜
２０と同様に第１表に示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】実施例２１及び比較例２ 実施例１〜２０及び比較例１で用いたアルミノシリケー
ト系ガラス板の代りにリチウムケイ酸塩結晶系ガラス
（結晶化ガラス）基板（株式会社オハラ製、ＴＳ−１０
ＳＸ）を用い、熱処理を大気中、１００℃で６０分間実
施した以外は実施例１〜２０又は比較例１と同様にして
加工した。ラッピング加工後の平面度、及びポリッシン
グ加工後の平面度を測定した。その結果は第２表に示す
通りであった。
ト系ガラス板の代りにリチウムケイ酸塩結晶系ガラス
（結晶化ガラス）基板（株式会社オハラ製、ＴＳ−１０
ＳＸ）を用い、熱処理を大気中、１００℃で６０分間実
施した以外は実施例１〜２０又は比較例１と同様にして
加工した。ラッピング加工後の平面度、及びポリッシン
グ加工後の平面度を測定した。その結果は第２表に示す
通りであった。
【００２７】
【００２８】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の磁気記
録媒体用ガラス基板の製造方法に従ってガラス基板を製
造することにより、平面度に優れたガラス基板を効率良
く生産できる。
録媒体用ガラス基板の製造方法に従ってガラス基板を製
造することにより、平面度に優れたガラス基板を効率良
く生産できる。
【図１】 熱処理温度と時間との相関関係を示す片対数
グラフである。
グラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤村 明男 埼玉県入間市狭山ケ原11−10 株式会社三 井金属プレシジョン内 (72)発明者 亀山 伸一 埼玉県入間市狭山ケ原11−10 株式会社三 井金属プレシジョン内 Ｆターム(参考） 3C058 AA07 CA06 CB01 CB03 CB10 DA17 4G059 AA09 AC03 AC18 5D112 AA02 BA03 BA09 GA09 GA26 GB01
Claims (4)
- 【請求項１】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法にお
いて、所定の板厚にラッピング加工したガラス基板を、
５０℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス基板に必要な特
性を悪化させることのない範囲内の温度、３分間以上の
時間で、且つ図１に示す片対数グラフ上の点Ａ（５分、
７０℃）と点Ｂ（６０分、５０℃）とを結ぶ線よりも高
温側、長時間側の範囲内で熱処理し、次いでポリッシン
グ加工することを特徴とする平面度に優れた磁気記録媒
体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項２】ラッピング加工したガラス基板が、ガラス
板を所定の円盤形状に加工し、内外周の面取り加工を実
施し、次いで所定の板厚にラッピング加工して得たガラ
ス基板であることを特徴とする請求項１記載の平面度に
優れた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項３】１００℃以上で且つ磁気記録媒体用ガラス
基板に必要な特性を悪化させることのない範囲内の温
度、５分間以上の時間で、且つ図１に示す片対数グラフ
上の点Ｃ（５分、３００℃）と点Ｄ（６０分、１００
℃）とを結ぶ線よりも高温側、長時間側の範囲内で熱処
理することを特徴とする請求項１又は２記載の平面度に
優れた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項４】ポリッシング加工を実施した後、表面化学
強化処理を実施することを特徴とする請求項１、２又は
３記載の平面度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11194399A JP2001023154A (ja) | 1999-07-08 | 1999-07-08 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11194399A JP2001023154A (ja) | 1999-07-08 | 1999-07-08 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001023154A true JP2001023154A (ja) | 2001-01-26 |
Family
ID=16323962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11194399A Pending JP2001023154A (ja) | 1999-07-08 | 1999-07-08 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001023154A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002346912A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-12-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2006225181A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板、ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| JP2008287779A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Konica Minolta Opto Inc | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
-
1999
- 1999-07-08 JP JP11194399A patent/JP2001023154A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002346912A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-12-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
| JP2006225181A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板、ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| JP2008287779A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Konica Minolta Opto Inc | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4274708B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
| JP4185266B2 (ja) | 情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| JP5005645B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| WO2002076675A1 (fr) | Substrat pour support d'enregistrement d'informations et procede de production dudit substrat, support d'enregistrement d'informations et feuille de verre ebauche | |
| JP2972830B1 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| WO2010044325A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2002338283A (ja) | ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造されたガラス基板 | |
| WO2013145503A1 (ja) | Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法 | |
| JP3254157B2 (ja) | 記録媒体用ガラス基板、及び該基板を用いた記録媒体 | |
| WO2010041537A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP5297281B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2001023154A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2011108355A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
| JP5350853B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2008282539A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
| JP2010080015A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP6170557B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研削砥石 | |
| JP2003187424A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板 | |
| JP2014235760A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2013012280A (ja) | Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2015069670A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| CN109285565B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
| JP2015011738A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2015069675A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| WO2015066735A1 (en) | Glass substrate for magnetic disk and magnetic disk for heat assisted magnetic recording |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020820 |