JP4852333B2 - 分極曲線測定方法及び電解処理装置 - Google Patents
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Description
E=(φM−φMS)+(φMS−φRS)+(φRS−φR)
ルギン管511における電圧降下はほとんどないので、(φMS−φRS)=0、
参照電極509における電圧降下α0は一定なので、
α0=φRS−φR、とおくと、
分極曲線φは、
φ=−f(i)=−E=φMS−(φM+α0)
但し、i:電流密度(電流値Iをカソード505の被めっき面507の面積で割ったもの)
となる。
(1)従来の分極曲線の測定は、実験室でビーカー500を用いて行うなど、実際にめっきする系とは異なる測定装置を用いて行っていたため、測定される分極曲線が実際のめっき槽でめっきする際の分極曲線と異なるものとなっていた。例えば従来の測定装置は、実際のめっき槽では設置されているめっき液攪拌のためのパドルを設置していないため、めっき液流れ等の影響を考慮できなかった。
〔第1実施形態〕
図1は本発明の第一実施形態にかかる分極曲線測定方法を用いた電解処理装置(以下「めっき装置」という)1−1を示す概略図、図2は電解処理槽(以下「めっき槽」という)10内の各部品の設置状態を上方から見た概略平面図である。めっき装置1−1は、めっき槽10内に電解液(以下「めっき液」という)Qを満たし、このめっき液Q中に試料極(以下「カソード」という)15と対極(以下「アノード」という)13とを浸し、カソード15の電解処理面(以下「被めっき面」という)17近傍にめっき液Qを攪拌するパドル19を設置し、さらにパドル19とカソード15(被めっき面17)との間のめっき液Q中に参照電極21に接続された1本のルギン管23を設置して浸し、アノード13とカソード15間を可変抵抗器25を介して直列に直流電源27につなぎ、さらにアノード13とカソード15間を流れる電流値Iを測定する電流計29と、前記ルギン管23の先端とカソード15の被めっき面17との間の電位差Eを求める電位差計31とを設置して構成されている。以下各構成部品について説明する。
φ=−f(i)=−E=φMS−(φM+α0)
但し、α0=φRS−φR
i:電流密度(電流値Iをカソード15の被めっき面17の面積で割ったもの)
となる。
図3は本発明の第2実施形態にかかる分極曲線測定方法を用いためっき装置1−2を示す概略図、図4はめっき槽10内の各部品の設置状態を上方から見た概略平面図である。両図に示すめっき装置1−2において、前記図1,図2に示すめっき装置1−1と同一又は相当部分には同一符号を付す。なお以下で説明する事項以外の事項については、前記図1,図2に示す実施形態と同じである。
φ2−φ1=E2−E1=iκ
より第1,第2ルギン管23−1,23−2の先端における局所的な電流密度iを求めることができる。
図6は本発明の第3実施形態にかかる分極曲線測定方法を用いためっき装置1−3を示す概略図である。同図に示すめっき装置1−3において、前記図1〜図5に示すめっき装置1−1,1−2と同一又は相当部分には同一符号を付す。なお以下で説明する事項以外の事項については、前記図1〜図5に示す実施形態と同じである。
図7は本発明の第4実施形態にかかる分極曲線測定方法を用いためっき装置1−4を示す概略図である。なお同図に示すめっき槽10はこれをその上方から見た状態を示している。同図に示すめっき装置1−4において、前記図1〜図2に示すめっき装置1−1と同一又は相当部分には同一符号を付す。なお以下で説明する事項以外の事項については、前記図1〜図2に示す実施形態と同じである。
10 めっき槽(電解処理槽)
Q めっき液(電解液)
13 アノード(対極)
15 カソード(試料極)
17 被めっき面(電解処理面)
19 パドル
21 参照電極
23 ルギン管
25 可変抵抗器
27 直流電源
29 電流計
31 電位差計
33 パドル駆動機構
1−2 めっき装置(電解処理装置)
21−1 第1参照電極
21−2 第2参照電極
23−1 第1ルギン管
23−2 第2ルギン管
24 駆動機構
31−1 第1電位差計
31−2 第2電位差計
40 制御装置(膜厚分布モニタリング手段)
41 モニタ(膜厚分布モニタリング手段)
1−3 めっき装置
1−4 めっき装置
Claims (10)
- 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する分極曲線測定方法であって、
前記試料極の電解処理面近傍に設置されて電解液を攪拌するパドルと前記試料極との間に設置した1又は2以上の前記ルギン管によってルギン管と試料極との間の電位差を求めることを特徴とする分極曲線測定方法。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する分極曲線測定方法であって、
前記試料極の電解処理面近傍に設置されて電解液を攪拌するパドルに取り付けた1又は2以上の前記ルギン管をパドルと一体に移動させてルギン管と試料極との間の電位差を求めることを特徴とする分極曲線測定方法。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する分極曲線測定方法であって、
前記ルギン管は、試料極の電解処理面に対して少なくとも前後又は左右又は上下にその位置及び移動速度が制御されて電解処理槽内の任意の場所の電位差を測定することを特徴とする分極曲線測定方法。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する分極曲線測定方法であって、
前記ルギン管によって、接近する2箇所以上の位置の前記電位差を測定し、測定したこれら2箇所以上の電位差と既知の電気伝導度から、電流密度を算出し、局所的な分極曲線を求めることを特徴とする分極曲線測定方法。 - 前記局所的な分極曲線を試料極表面の複数箇所で測定して得た分極曲線群を試料極表面の境界値として、数値解析手段を用いて電解処理槽内全体の電位−電流密度分布を求め、その結果から試料極表面の膜厚分布を算出することを特徴とする請求項4に記載の分極曲線測定方法。
- 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、前記試料極と対極の間に電解液を介して電流を流すことで試料極表面の電解処理を行うとともに、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する電解処理装置であって、
前記試料極の電解処理面近傍に設置されて電解液を攪拌するパドルと前記試料極との間に、1又は2以上の前記ルギン管を設置することを特徴とする電解処理装置。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、前記試料極と対極の間に電解液を介して電流を流すことで試料極表面の電解処理を行うとともに、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する電解処理装置であって、
前記試料極の電解処理面近傍に設置されて電解液を攪拌するパドルに、1又は2以上の前記ルギン管を取り付けたことを特徴とする電解処理装置。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、前記試料極と対極の間に電解液を介して電流を流すことで試料極表面の電解処理を行うとともに、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する電解処理装置であって、
前記ルギン管は1又は2以上であり、
前記1又は2以上のルギン管を、試料極の電解処理面に対して少なくとも前後又は左右又は上下の任意の場所に移動させる制御装置を具備することを特徴とする電解処理装置。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、前記試料極と対極の間に電解液を介して電流を流すことで試料極表面の電解処理を行うとともに、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の分極曲線を測定する電解処理装置であって、
前記分極曲線を試料極表面の複数箇所で測定することで分極曲線群を得、この分極曲線群を試料極表面の境界値として、数値解析手段を用いて電解処理槽内全体の電位−電流密度分布を求め、その結果から試料極表面の膜厚分布を算出してモニタリングする膜厚分布モニタリング手段を搭載したことを特徴とする電解処理装置。 - 電解処理槽内に満たした電解液中に試料極と対極と参照電極に接続されたルギン管とを浸し、前記試料極と対極の間に電解液を介して電流を流すことで試料極表面の電解処理を行うとともに、これら試料極と対極との間に流れる電流値と前記ルギン管と試料極との間の電位差とを求めることで電解液の電位を測定する電解処理装置であって、
前記ルギン管より電解処理槽内の複数箇所で電位を測定し、場合によっては測定された電位から電流密度を算出し、少なくとも求められた電位または電流密度のどちらか一方に基づいて境界値逆解析を行って試料極表面の電位−電流密度分布を求める試料極表面の電位−電流密度測定手段を搭載したことを特徴とする電解処理装置。
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