JP4851596B2 - 銅合金材の製造方法 - Google Patents

銅合金材の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4851596B2
JP4851596B2 JP2009539148A JP2009539148A JP4851596B2 JP 4851596 B2 JP4851596 B2 JP 4851596B2 JP 2009539148 A JP2009539148 A JP 2009539148A JP 2009539148 A JP2009539148 A JP 2009539148A JP 4851596 B2 JP4851596 B2 JP 4851596B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass
copper alloy
rolling
strength
alloy material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009539148A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2009057788A1 (ja
Inventor
清慈 廣瀬
邦照 三原
洋 金子
立彦 江口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Original Assignee
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD. filed Critical THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority to JP2009539148A priority Critical patent/JP4851596B2/ja
Publication of JPWO2009057788A1 publication Critical patent/JPWO2009057788A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4851596B2 publication Critical patent/JP4851596B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • C22C9/06Alloys based on copper with nickel or cobalt as the next major constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

本発明は、銅合金材及びその製造方法に関する。
従来、一般的に電気・電子機器用材料としては、鉄系材料の他、電気伝導性および熱伝導性に優れるリン青銅、丹銅、黄銅等の銅系材料も広く用いられている。近年、電気・電子機器の小型化、軽量化、さらにこれに伴う高密度実装化に対する要求が高まり、これらに適用される銅系材料にも種々の特性が求められている。主な特性として、機械的性質、導電性、耐応力緩和特性、曲げ加工性などが挙げられる。その中でも近年の部品小型化の要求を満足するため、引張強度および、曲げ加工性の向上が強く要求されている。
また、コネクタ形状に成型をした後にはバネ接点部での接圧を維持する為にバネ性が重要となる。その為、使用される材料には、引張強度のみでなく、弾性変形域の限界である耐力が高いことが求められる。
高強度の要求が特に高い電子部材用として、高強度ベリリウム銅(JIS−C1720合金)が用いられてきた。この合金はプレス成型加工後の時効熱処理を必要としないミルハードン材の1/2HM質別で引張強度で815MPa以上、HM質別で910MPa以上であり曲げ加工性にも優れる。しかしながら、金属ベリリウムが人体に有害である為、その製造過程および環境への配慮からその代替材料が望まれている。
その代替材として、強度と導電率のバランスに優れるCu−Ni−Si系合金が使用されるようになった。Cu−Ni−Si系合金は、NiとSiから構成される析出物を形成させて強化させる析出型の合金で、その強化する能力が非常に高い。
しかしながら、Cu−Ni−Si系合金においては、引張強度および耐力が高くなるほど、曲げ加工性を維持することは困難である。強度を得る為に材料に高い加工率を導入した場合、耐応力緩和特性が劣化する問題がある。また、NiSiの析出量を増加させる為に高温での溶体化を行った場合は、結晶粒径が大きくなり強度異方性を有する、曲げ加工性が劣化するなどの問題がある。その為、耐力、曲げ加工性、耐応力緩和特性に優れ、且つ、強度異方性の小さいCu−Ni−Si系合金が求められている。高強度ベリリウム銅(JIS−C1720合金)に匹敵する材料として求められる具体的水準で言えば、耐力800MPa以上を有し、90°W曲げを行った場合に曲げ半径/板厚比率が1.0以下の曲げ試験においてもクラックを発生しない水準が求められている。
このようなコルソン合金に関連して、強度と曲げ加工性を改善した高強度銅合金は、例えば下記特許文献1〜3などに提案されている。しかしながら、これらの公知の発明においては、上述した、耐力、曲げ加工性、耐応力緩和特性に優れ、且つ、強度異方性を小さくすることを同時に満足したものはまだ開発されていない。
特許第3520046号公報 特開2006−283107号公報 特開2006−219733号公報
上述のような問題点を鑑みて本発明の目的は、高強度を有し、且つ、曲げ加工性および耐応力緩和特性に共に優れる、銅合金材およびその製造方法を提供することにある。
本発明者らは、電気・電子部品用途に適した銅合金材について研究を行い、銅合金組成を制御することで、高強度を有し、曲げ加工性および耐応力緩和特性に優れた銅合金材の発明を完成するに至った。また、本発明者らは、さらに好ましくは、その銅合金組織中の結晶粒径と結晶粒の形状、および製造工程における硬化量を制御することにより、上記に加えて異方性が小さい銅合金材を得られることも見い出した。
本発明によれば、以下の手段が提供される:
[1]Ni2.8〜5.0mass%、Si0.4〜1.7mass%、Mg0.01〜0.20mass%を含み、Sの含有量が0.005mass%未満に制限され、残部がCuおよび不可避不純物からなり、耐力が800MPa以上で、曲げ加工性および耐応力緩和特性に優れることを特徴とする銅合金材の製造方法であって、銅合金板の溶体化再結晶組織を得る工程の後に、1回目の冷間圧延−時効処理−2回目の冷間圧延−低温焼鈍の一連の工程を有し、前記1回目の冷間圧延直前の耐力を基準とした前記低温焼鈍後の耐力の変化量をΔtotal(MPa)、前記1回目の冷間圧延の前後の耐力の変化量をΔC1(MPa)、前記2回目の冷間圧延の前後の耐力の変化量をΔC2(MPa)として表した時、下記(1)〜(3)式を満たすことを特徴とする銅合金材の製造方法、
0.1≦ΔC1/Δtotal≦0.35 ・・・(1)
0≦ΔC2/Δtotal≦0.35 ・・・(2)
0.1≦(ΔC1+ΔC2)/Δtotal≦0.45 ・・・(3)
[2]更に、Sn0.05〜1.5mass%、Zn0.2〜1.5mass%のうち少なくとも1種を含有することを特徴とする[1]に記載の銅合金材の製造方法、
[3]更に以下の(I)〜(IV)のうち1種または2種以上を合計で0.005〜2.0mass%含有することを特徴とし、更にZnを0.2〜1.5mass%含有することを特徴とする[1]または[2]に記載の銅合金材の製造方法、
(I)Sc、Y、Ti、Zr、Hf、V、MoおよびAgからなる群から選ばれる1種または2種以上を合計で0.005〜0.3mass%
(II)Mnを0.01〜0.5mass%
(III)Coを0.05〜2.0mass%
(IV)Crを0.15〜1.0mass%
ここで、耐力とは、0.2%耐力を意味する。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
図1は、本発明で規定する結晶粒径および結晶粒形状の求め方の説明図である。
本発明の銅合金材の組成および合金組織について好ましい実施の形態を、以下に詳細に説明する。なお、本発明において銅合金材とは、特定の形状を有する銅合金、例えば板材、条材、線材などを意味する。
銅合金中のNiとSiは時効処理を施すと、主としてNiSi相を形成して強度および導電率を向上する。Niの含有量は2.8〜5.0mass%、好ましくは3.0〜4.8mass%である。このように規定する理由は、添加量が2.8mass%よりも少ないと高強度ベリリウム銅(JIS−C1720合金)と同等以上の強度が得られず、5.0mass%より多過ぎると、鋳造時や熱間加工時に強度向上に寄与しない化合物形成が生じ、添加量に見合う強度が得られないばかりか、熱間加工性が低下し悪影響を及ぼすという問題が生じるためである。
Siの含有量は0.4〜1.7mass%、好ましくは0.6〜1.3mass%である。このように規定する理由は、Si量が0.4mass%よりも少ない場合には、時効処理による強度向上が不十分でJIS−C1720合金と同等以上の強度は得られず、また、Si含有量が1.7mass%より多過ぎる場合、Ni量が多い場合と同じ問題が生じることに加え、導電率の低下をもたらす。
NiとSiは主としてNiSi相を形成する為、強度を向上する為に最適なNiとSiの比が存在する。Si量がNiSi相を形成したときのNi(mass%)とSi(mass%)の比、Ni/Siは4.2であり、その値を中心に、Ni/Siを3.0〜6.0に制御することが好ましく、より好ましくは、Ni/Siを3.8〜4.6に制御することが望ましい。
Sは銅合金には微量含まれるものであるが、0.005mass%以上では熱間加工性を悪化させるため、その含有量は0.005mass%未満に規定する。特には0.002mass%未満が望ましい。
更に、銅合金にはMgを添加するのが好ましく、その量は0.01〜0.20mass%である。Mgは応力緩和特性を大幅に改善するが、曲げ加工性には悪影響を及ぼす。応力緩和特性の改善にはMg量は0.01mass%以上で多いほど良いが、0.20mass%を超えると曲げ加工性が要求特性を満たさなくなる。好ましくは0.05〜0.15mass%である。
更に、銅合金にはSnを添加するのが好ましく、その量は0.05〜1.5mass%である。SnはMgと相互に関係し合って、応力緩和特性をより一層向上させるが、その効果はMg程大きくはない。Snが0.05mass%未満ではその効果が充分に現れず、1.5mass%を超えると導電性が大幅に低下する。好ましくは0.1〜0.7mass%である。
更にまた、銅合金にはZnを添加するのが好ましく、その量は0.2〜1.5mass%である。Znは曲げ加工性を若干改善する。Zn量を0.2〜1.5mass%に規定することにより、Mgを最大0.20mass%まで添加しても実用上問題ない水準の曲げ加工性が得られる。この他、ZnはSnメッキやハンダメッキの密着性やマイグレーション特性を改善する。Zn量が0.2mass%未満ではその効果が充分に得られず、1.5mass%を超えると導電性が低下する。好ましくは0.3〜1.0mass%である。
また、銅合金にはSc、Y、Ti、Zr、Hf、V、Mo、Agいずれか1種又は2種以上を合計で0.005〜0.3mass%添加することができる。Sc、Y、Ti、Zr、Hf、V、Moは、NiまたはSiと化合物を形成し、結晶粒径の粗大化を抑制する効果がある。その添加量は強度や導電性などの特性を低下させない上記の範囲で添加することが可能である。
Agは耐熱性および強度を向上させると同時に、結晶粒の粗大化を阻止して曲げ加工性を改善する。Ag量が0.005mass%未満ではその効果が充分に得られず、0.3mass%を超えて添加しても特性上に悪影響はないもののコスト高になる。これらの観点からAgの含有量は前記の範囲が好ましい。
Mnは熱間加工性を改善する効果があり、導電性を劣化させない程度に0.01〜0.5mass%添加することは有効である。
Coは、Niと同様にSiと化合物を形成して強度を向上させる作用を有するので、Coを0.05〜2.0mass%含有するのが好ましい。含有量が0.05mass%未満ではその効果が充分に得られず、2.0mass%を超えると、溶体化処理後にも強度に寄与しない晶出・析出物が存在して曲げ加工性が劣化する。
Crは、銅中に微細に析出して強度向上に寄与するともに、SiもしくはNiとSiと化合物を形成し、前述のSc、Y、Ti、Zr、Hf、V、Moの群と同様、結晶粒径の粗大化を抑制する効果がある。0.05mass%未満ではその効果が充分に得られず、1.0mass%を超えると曲げ加工性が劣化する。
上述のSc、Y、Ti、Zr、Hf、V、Mo、Ag、Mn、Co、Crを2種以上添加する場合には、要求特性に応じて合計で0.005〜2.0mass%の範囲内で決定される。
本発明では、前記組成の銅合金材の特性を好適に実現するために結晶粒径および結晶粒の形状を規定することが好ましい。本発明において、前記結晶粒径は好ましくは0.001mmを超え0.025mm以下、より好ましくは0.001mmを超え0.015mm以下である。結晶粒径が小さすぎると再結晶組織が混粒(大きさの異なる結晶粒が混在した組織)と成り易く、曲げ加工性並びに応力緩和特性が低下し、また結晶粒径が大きすぎると曲げ加工性に悪影響が及ぶ。また、結晶粒が大きい場合には圧延垂直方向と平行方向の強度差が大きくなる為でもある。なお、前記結晶粒径はJIS−H0501(切断法)に基づいて測定した値とする。
本発明において、結晶粒の形状とは、最終塑性加工方向と平行な断面における結晶粒の長径aと最終塑性加工方向と直角な断面における結晶粒の長径bの比(a/b)を指し、本発明ではその比(a/b)は好ましくは0.8以上1.5以下、より好ましくは1.0〜1.3である。前記比(a/b)が大きすぎると、応力緩和特性が低下する。なお、前記比(a/b)が小さすぎる場合も応力緩和特性が低下し易くなるので、0.8以上が望ましい。
また、本発明において、圧延方向(通常、前記最終塑性加工方向に等しい)の耐力と、圧延方向となす角度が90°方向の耐力の差の最大値を100MPa以下に規定するのが好ましい。その理由は、100MPaを超えると、コネクタ設計や曲げ加工時の金型の設定が難しくなる、コネクタの接圧強度が設計値と異なり特性を満たさないなどの問題が発生する為である。前記各差の最大値は50MPa以下がより望ましい。この差の下限値には特に制限はないが、通常5MPa程度であれば、方向による耐力の差がほぼ無いとみなす。
次に、本発明に係る銅合金材の好ましい製造方法は、例えば次のような態様である。本発明に係る銅合金材の好ましい製造工程の概略は、鋳造→熱間圧延→生地圧延(通常、冷間圧延)→溶体化処理→1回目の冷間圧延(圧延1)→時効処理→2回目の冷間圧延(圧延2)→低温焼鈍である。
本発明において、鋳造→熱間圧延→生地圧延→溶体化処理→圧延1→時効処理→圧延2→低温焼鈍の工程によって製造されるものののうち、溶体化により再結晶組織を得た後の圧延1の直前の耐力から低温焼鈍後の耐力の変化量をΔtotal(MPa)とし、圧延1の前後の耐力の変化量をΔC1(MPa)、および圧延2の前後の耐力変化量をΔC2(MPa)として表す。このとき、下記(1)〜(3)式を満たす製造方法を用いる
0.1≦ΔC1/Δtotal≦0.35 ・・・(1)
0≦ΔC2/Δtotal≦0.35 ・・・(2)
0.1≦(ΔC1+ΔC2)/Δtotal≦0.45 ・・・(3)
この耐力の変化量は後述するJISに準拠して求めたLD方向(圧延方向に対して平行な方向)の耐力より算出したものである。
各工程での耐力の変化量を制御することが好ましい理由は、耐力の変化量、特に冷間圧延における耐力の変化量が材料に導入されたひずみ量に対して相関がある為である。材料の耐力、曲げ加工性、および耐応力緩和特性などは材料に導入されたひずみ量に依存し、ひずみ量が多い場合には、曲げ加工性、耐応力緩和特性が劣化する。しかしながら、材料に導入されるひずみ量は、銅母相の固溶・析出状態に依存する。その為、従来の圧延率などでの評価は成分および析出状態が異なる場合には統一的な解釈はなされない。
本発明者らは、冷間圧延における耐力の変化量を、溶体化直後から低温焼鈍後の耐力の全変化量で規格化を行い、この規格化された値が規定範囲内となるように制御することで、従来と比較して、高強度を有し、曲げ加工性および耐応力緩和特性に優れた銅合金材が製造できることを見出した。
本発明では、鋳造は一般的なDC法などで行う。熱間圧延は、鋳塊を850〜1000℃の温度で0.5〜6時間の均質化処理を施した直後、700〜1000℃の温度で圧延を行った後、冷却中の析出を防ぐ為に水冷することが望ましい。熱間圧延後酸化膜を面削後に生地圧延を行うが、生地圧延は圧延1、圧延2において所定の加工率が得られる板厚になるように圧延を行う。前述の熱間圧延と生地圧延により板形状の試料を得る。
溶体化は材料実体温度が800〜1000℃で行い、3〜60s程度保持後、析出を防ぐ為冷却速度は15℃/秒以上(より好ましくは30℃/秒以上、上限値には特に制限はないが通常150℃/秒以下)の冷却速度で冷却するのが望ましい。溶体化処理温度が低すぎる場合には、健全な再結晶組織が得られずに曲げ加工性に悪影響を及ぼし、また、Ni,Siの固溶量が不十分になり時効処理時におけるNiSiの析出量が不十分で耐力が得られないなどの問題がある。溶体化処理温度が高すぎる場合には、再結晶粒径の粗大化がおこり、強度の低下、異方性の発現、曲げ加工性の劣化をもたらす。
圧延1は、時効処理における引張強度、耐力を向上させる目的で行う。圧延1において銅合金母相中には転位が導入されるが、それらの一部は次工程の時効処理においてNiSiの異質核生成サイトとして機能し、NiSiが高密・微細に形成することを助ける。圧延1の耐力増加分ΔC1を高めると時効強度も向上する為に導入することが望ましいが、ΔC1が高過ぎても時効強度向上の効果は飽和してしまい、また、曲げ加工性の劣化を引き起こす。その為、ΔC1/Δtotalを0.1以上0.35以下に規定した。
時効処理は、銅母相にNiSi化合物を均一に分散析出させ、強度、導電率を向上させる。バッチ式の炉を用い、実体温度350〜600℃で0.5〜12時間保持することが望ましい。時効温度が低すぎると十分なNiSi析出量を得る為に長時間を要することになりコスト高になる、または、耐力および導電率が不十分である。また、時効温度が高すぎると粗大化したNiSiが形成する為、耐力を十分に得られない。
圧延2は、耐力の向上を目的として行う。時効後の耐力が十分な場合には、圧延2を導入しなくても良い。圧延2による耐力増加分ΔC2が高過ぎると、曲げ加工性が劣化し、耐応力緩和特性を劣化させる。その為、ΔC2/Δtotalを0以上0.35以下に規定した。
また、材料に導入されるひずみ量の総量が高すぎる場合にも、曲げ加工性が劣化し、耐応力緩和特性が劣化する為、総ひずみ量を規格化した値(ΔC1+ΔC2)/Δtotalを0.1以上0.45以下に規定した。
低温焼鈍は、強度をある程度維持したまま、伸び、曲げ加工性およびバネ限界値を回復させる目的で行う。実体温度が高温過ぎる場合には、再結晶が起こり耐力の低下をもたらすので、実体温度300〜600℃で、5〜60秒の短時間での焼鈍を行うことが望ましい。低温焼鈍の温度が低すぎると、伸び、曲げ加工性およびバネ限界値の回復が不十分である。逆に、低温焼鈍の温度が高すぎると強度低下をもたらす。
本発明のCu−Ni−Si系銅合金材は、高強度を有し、曲げ加工性および耐応力緩和特性に共に優れた銅合金材である。そして電気・電子機器用のリードフレーム、コネクタ、端子材、リレー、スイッチなどに好適である。
以下に、本発明を実施例および比較例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。
本発明の実施例および比較例に用いた銅合金材は、表1に示す化学組成(残部はCu)の銅合金(No.1〜30)で形成される。これらの銅合金を高周波溶解炉にて溶解し、DC法により厚さ30mm、幅120mm、長さ150mmの鋳塊に鋳造し、次にこれら鋳塊を950℃に加熱し、この温度に1時間保持後、厚さ12mmに熱間圧延し、速やかに冷却した。
この際、比較例No.24に関してはNi量が規定量よりも多い為、比較例25に関してはS量が規定量よりも多い為、比較例No.26に関してはSi量が規定量よりも多い為、比較例No.28に関してはCr量が規定量よりも多い為、比較例No.29および30に関しては、Zr、Ti、HfおよびV、Mo、Yの量が規定量よりも多い為、熱間圧延中に割れが発生して次工程以降を中止した。
次いで、両面を各1.5mmずつ切削して酸化皮膜を除去したのち、冷間圧延(生地圧延)により厚さ0.16〜0.50mmに加工した。この際、比較例No.27はSnが規定量よりも多かった為、冷間圧延中にコバ割れを発生し、次工程以降を中止した。この後、800〜950℃で30秒間溶体化処理し、直ちに15℃/秒以上の冷却速度で冷却した。
各試料に50%以下の種々の圧延率(圧下率、%)で圧延1を行い、不活性ガス雰囲気中にて500℃、2時間の時効処理を施した。その後、最終塑性加工である圧延2を種々の圧延率(圧下率、%)で行い、最終的な板厚を0.15mmに揃えた。圧延2の後、400〜600℃で30秒の低温焼鈍処理を施した各No.(No.1−1〜No.1−11およびNo.2−1〜No.2−3は、それぞれ上記実施例No.1および実施例No.2の組成の合金を上記した範囲内で異なる熱処理、圧延条件を施したものである)の銅合金板を得た。この銅合金板材料で各種特性評価を行った。
実施例および比較例で製造した各々のNo.の銅合金板について、(a)結晶粒径、(b)結晶粒形状、(c)圧延平行方向と垂直方向の耐力、(d)導電率、(e)90°W曲げ特性、(f)応力緩和特性を調べた。
(a)結晶粒径および(b)結晶粒形状は、JISで規定する切断法(JIS−H0501)により結晶粒径を測定し、これを基に算出した。
前記結晶粒径の測定断面は、図1に示す最終冷間圧延方向(最終塑性加工方向)と平行な断面A、および最終冷間圧延方向と直角な断面Bである。前記断面Aでは最終冷間圧延方向と平行な方向および直角な方向の2方向で結晶粒1の径を測定し、測定値の大きい方を長径a、小さい方を短径とした。前記断面Bでは圧延面の法線方向と平行な方向、および圧延面の法線方向と直角な方向の2方向で結晶粒2の径を測定し、測定値の大きい方を長径b、小さい方を短径とした。
前記結晶粒径は、前記銅合金板の結晶組織を走査型電子顕微鏡で1000倍に拡大して写真にとり、写真上に200mmの線分を引き、前記線分で切られる結晶粒数nを数え、〔200mm/(n×1000)〕の式から求めた。前記線分で切られる結晶粒数が20未満の場合は、500倍の写真にとり長さ200mmの線分で切られる結晶粒数nを数え、〔200mm/(n×500)〕の式から求めた。
結晶粒径は、断面A、Bで求めたそれぞれの長径と短径の4値の平均値を0.005mmの整数倍に丸めて示した。
また、結晶粒の形状は、前記断面Aの長径aを前記断面Bの長径bで除した値(a/b)で示した。
(c)耐力は、JIS−Z2201記載の5号試験片を用い、JIS−Z2241に準拠して求めた。圧延方向(前記圧延1及び圧延2の方向に等しい)に対して平行方向(LD)および垂直方向(TD)の試験を行った。
(d)導電率はJIS−H0505に準拠して求めた。導電率は、高強度ベリリウム銅(JIS−C1720合金)の導電率25%IACSを基準として、30%IACS以上を「優」、25%IACSを超え30%IACS未満を「良好」、25%IACS以下を「不良」とする。
(e)曲げ加工性は、内側曲げ半径が0.15mmとなる90゜曲げ治具を用い、曲げ半径/板厚比率R/tが1.0となる90°W曲げ試験を行い、曲げ部にクラックが生じないものは良好「○」、クラックが生じたものは不良「×」と判定した。
(f)耐応力緩和特性は、日本電子材料工業会標準規格(EMAS−3003)の片持ちブロック式を採用し、表面最大応力が耐力の80%になるように負荷応力を設定して150℃の恒温槽に1000時間保持して応力緩和率(S.R.R.(%))を求めた。耐応力緩和特性は、応力緩和率が10%以下を「優」、10%を超え15%未満を「良好」、15%以上を「不良」とする。
No.1〜23までの評価結果を実施例および比較例として、表2に示す。
Figure 0004851596
Figure 0004851596
実施例に示す、No.1−1〜1−6、2−1、2−2および3〜17は、いずれの銅合金も高強度、良好な曲げ加工性、耐応力緩和特性にすぐれ、異方性も小さい。
比較例、No.1−7ではΔC1/Δtotalの値が規定よりも小さい為、耐力が低かった。比較例、No.1−8および2−3ではΔC2/Δtotalの値が規定よりも大きい為、曲げ加工性および耐応力緩和特性が劣化した。比較例、No.1−9ではΔC2/Δtotalおよび(ΔC1+ΔC2)/Δtotalの値が規定よりも大きい為、曲げ加工性および耐応力緩和特性が劣化した。比較例、No.1−10では、a/bおよび(ΔC1+ΔC2)/Δtotalの値が規定よりも大きい為、曲げ加工性および耐応力緩和特性が劣化した。比較例、No.1−11では、結晶粒径が規定よりも大きい為、耐力の異方性が発現し、また曲げ加工性が劣化した。
比較例、No.18ではNi濃度が、比較例No.19ではSi濃度が規定よりも少ない為、耐力が低かった。また、比較例No.18では耐応力緩和特性が劣った。比較例、No.20ではMg濃度が規定よりも多い為、曲げ加工性が劣化した。比較例、No.21および22では、MnおよびZn濃度が規定よりも多いため導電率が低下した。比較例、No.23ではCo濃度が規定よりも多い為、耐力が低下し、また、曲げ加工性も劣化した。
本発明の銅合金材は、端子、コネクタ、スイッチなどの材料として好適なものである。
また、本発明の銅合金材の製造方法は、前記銅合金材の製造方法として好適なものである。
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
本願は、2007年11月1日に日本国で特許出願された特願2007-285605に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。

Claims (3)

  1. Ni2.8〜5.0mass%、Si0.4〜1.7mass%、Mg0.01〜0.20mass%を含み、Sの含有量が0.005mass%未満に制限され、残部がCuおよび不可避不純物からなり、耐力が800MPa以上で、曲げ加工性および耐応力緩和特性に優れることを特徴とする銅合金材の製造方法であって、銅合金板の溶体化再結晶組織を得る工程の後に、1回目の冷間圧延−時効処理−2回目の冷間圧延−低温焼鈍の一連の工程を有し、前記1回目の冷間圧延直前の耐力を基準とした前記低温焼鈍後の耐力の変化量をΔtotal(MPa)、前記1回目の冷間圧延の前後の耐力の変化量をΔC1(MPa)、前記2回目の冷間圧延の前後の耐力の変化量をΔC2(MPa)として表した時、下記(1)〜(3)式を満たすことを特徴とする銅合金材の製造方法。
    0.1≦ΔC1/Δtotal≦0.35 ・・・(1)
    0≦ΔC2/Δtotal≦0.35 ・・・(2)
    0.1≦(ΔC1+ΔC2)/Δtotal≦0.45 ・・・(3)
  2. 更に、Sn0.05〜1.5mass%、Zn0.2〜1.5mass%のうち少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1に記載の銅合金材の製造方法。
  3. 更に以下の(I)〜(IV)のうち1種または2種以上を合計で0.005〜2.0mass%含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の銅合金材の製造方法。
    (I)Sc、Y、Ti、Zr、Hf、V、MoおよびAgからなる群から選ばれる1種または2種以上を0.005〜0.3mass%
    (II)Mnを0.01〜0.5mass%
    (III)Coを0.05〜2.0mass%
    (IV)Crを0.15〜1.0mass%
JP2009539148A 2007-11-01 2008-10-31 銅合金材の製造方法 Expired - Fee Related JP4851596B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009539148A JP4851596B2 (ja) 2007-11-01 2008-10-31 銅合金材の製造方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007285605 2007-11-01
JP2007285605 2007-11-01
JP2009539148A JP4851596B2 (ja) 2007-11-01 2008-10-31 銅合金材の製造方法
PCT/JP2008/069977 WO2009057788A1 (ja) 2007-11-01 2008-10-31 強度、曲げ加工性、耐応力緩和特性に優れる銅合金材およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009057788A1 JPWO2009057788A1 (ja) 2011-03-10
JP4851596B2 true JP4851596B2 (ja) 2012-01-11

Family

ID=40591167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009539148A Expired - Fee Related JP4851596B2 (ja) 2007-11-01 2008-10-31 銅合金材の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20100269963A1 (ja)
EP (1) EP2221390B1 (ja)
JP (1) JP4851596B2 (ja)
CN (1) CN101842506B (ja)
WO (1) WO2009057788A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109385555A (zh) * 2018-12-04 2019-02-26 广东华兴换热设备有限公司 一种铜铬锆合金及其制备方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI461252B (zh) * 2010-12-24 2014-11-21 Murata Manufacturing Co A bonding method, a bonding structure, an electronic device, an electronic device manufacturing method, and an electronic component
JP5522692B2 (ja) * 2011-02-16 2014-06-18 株式会社日本製鋼所 高強度銅合金鍛造材
JP6265582B2 (ja) * 2011-12-22 2018-01-24 古河電気工業株式会社 銅合金材およびその製造方法
JP6210563B2 (ja) * 2015-04-10 2017-10-11 古河電気工業株式会社 ばね用銅合金線材、該ばね用銅合金線材の製造方法、並びにばね、該ばねの製造方法
WO2017043551A1 (ja) 2015-09-09 2017-03-16 三菱マテリアル株式会社 電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金塑性加工材、電子・電気機器用部品、端子、及び、バスバー
EP3348659B1 (en) * 2015-09-09 2020-12-23 Mitsubishi Materials Corporation Copper alloy for electronic/electrical device, copper alloy plastically-worked material for electronic/electrical device, component for electronic/electrical device, terminal, and busbar
CN106636734B (zh) * 2015-10-30 2019-01-15 北京有色金属研究总院 高强度、高导电、高抗应力松弛铜合金弹性材料及其制备方法
CN105349805A (zh) * 2015-11-03 2016-02-24 虞惠财 一种晶体细致铜合金生产方法
WO2017170699A1 (ja) 2016-03-30 2017-10-05 三菱マテリアル株式会社 電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金板条材、電子・電気機器用部品、端子、バスバー、及び、リレー用可動片
FI3438299T3 (fi) 2016-03-30 2023-05-23 Mitsubishi Materials Corp Kupariseoksesta valmistettu nauha elektronisia laitteita ja sähkölaitteita varten, komponentti, liitosnapa, virtakisko sekä liikuteltava kappale releitä varten
CN105695797A (zh) * 2016-04-20 2016-06-22 苏州市相城区明达复合材料厂 一种铸造加工零部件用青铜合金
CN108193080B (zh) * 2016-12-08 2019-12-17 北京有色金属研究总院 高强度、高导电耐应力松弛铜镍硅合金材料及其制备方法
CN108315579B (zh) * 2018-03-06 2019-12-06 北京科技大学 织构稀土CuNiSiCr合金材料及制备工艺和应用
MX2020009869A (es) 2018-03-30 2020-10-12 Mitsubishi Materials Corp Aleacion de cobre para dispositivo electronico/electrico, material en lamina/tira de aleacion de cobre para dispositivo electronico/electrico, componente para dispositivo electronico/electrico, terminal, y barra colectora.
JP6780187B2 (ja) 2018-03-30 2020-11-04 三菱マテリアル株式会社 電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金板条材、電子・電気機器用部品、端子、及び、バスバー
CN113215439A (zh) * 2021-04-16 2021-08-06 安徽绿能技术研究院有限公司 一种高强度铜合金板材及其生产工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002180161A (ja) * 2000-12-15 2002-06-26 Furukawa Electric Co Ltd:The 高強度銅合金
JP2006219733A (ja) * 2005-02-14 2006-08-24 Kobe Steel Ltd 異方性の小さい電気電子部品用銅合金板
JP2007039789A (ja) * 2005-03-29 2007-02-15 Nikko Kinzoku Kk すずめっきの耐熱剥離性に優れるCu−Ni−Si−Zn−Sn系合金条およびそのすずめっき条

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3520034B2 (ja) * 2000-07-25 2004-04-19 古河電気工業株式会社 電子電気機器部品用銅合金材
US7090732B2 (en) * 2000-12-15 2006-08-15 The Furukawa Electric, Co., Ltd. High-mechanical strength copper alloy
JP4809602B2 (ja) * 2004-05-27 2011-11-09 古河電気工業株式会社 銅合金
JP4813814B2 (ja) 2005-03-31 2011-11-09 Jx日鉱日石金属株式会社 Cu−Ni−Si系銅合金及びその製造方法
JP4566048B2 (ja) * 2005-03-31 2010-10-20 株式会社神戸製鋼所 曲げ加工性に優れた高強度銅合金板及びその製造方法
JP4754930B2 (ja) * 2005-10-14 2011-08-24 Jx日鉱日石金属株式会社 電子材料用Cu−Ni−Si系銅合金
JP5002768B2 (ja) * 2006-03-30 2012-08-15 Dowaメタルテック株式会社 曲げ加工性に優れた高導電性銅基合金およびその製造法
JP2007285605A (ja) 2006-04-17 2007-11-01 Chugoku Electric Power Co Inc:The 電気温水器、及びその漏電遮断器取付け方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002180161A (ja) * 2000-12-15 2002-06-26 Furukawa Electric Co Ltd:The 高強度銅合金
JP2006219733A (ja) * 2005-02-14 2006-08-24 Kobe Steel Ltd 異方性の小さい電気電子部品用銅合金板
JP2007039789A (ja) * 2005-03-29 2007-02-15 Nikko Kinzoku Kk すずめっきの耐熱剥離性に優れるCu−Ni−Si−Zn−Sn系合金条およびそのすずめっき条

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109385555A (zh) * 2018-12-04 2019-02-26 广东华兴换热设备有限公司 一种铜铬锆合金及其制备方法
CN109385555B (zh) * 2018-12-04 2020-11-17 广东华兴换热设备有限公司 一种铜铬锆合金及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2221390A4 (en) 2012-06-27
CN101842506A (zh) 2010-09-22
CN101842506B (zh) 2012-08-22
JPWO2009057788A1 (ja) 2011-03-10
EP2221390A1 (en) 2010-08-25
WO2009057788A1 (ja) 2009-05-07
US20100269963A1 (en) 2010-10-28
EP2221390B1 (en) 2014-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4851596B2 (ja) 銅合金材の製造方法
JP4660735B2 (ja) 銅基合金板材の製造方法
JP4655834B2 (ja) 電気部品用銅合金材とその製造方法
WO2009104615A1 (ja) 銅合金材
JP4440313B2 (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si−Co−Cr系合金
JP5466879B2 (ja) 銅合金板材およびその製造方法
CN108431257B (zh) 电子电气设备用铜合金、电子电气设备用铜合金板条材、电子电气设备用组件、端子、汇流条及继电器用可动片
JP5451674B2 (ja) 電子材料用Cu−Si−Co系銅合金及びその製造方法
JP5619389B2 (ja) 銅合金材料
JPWO2010064547A1 (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si−Co系銅合金及びその製造方法
JP2006009137A (ja) 銅合金
KR101114116B1 (ko) 전기전자기기용 동합금 재료 및 전기전자부품
EP2221391B1 (en) Copper alloy sheet
KR101917416B1 (ko) 전자 재료용 Cu-Co-Si 계 합금
JP3717321B2 (ja) 半導体リードフレーム用銅合金
JP6222885B2 (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si−Co系銅合金
TWI763982B (zh) 銅合金板材及其製造方法
JP2010215976A (ja) 銅合金板材
JP2007169764A (ja) 銅合金
JP4175920B2 (ja) 高力銅合金
JP4728704B2 (ja) 電気電子機器用銅合金
JP2012229467A (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si系銅合金
JP2010236029A (ja) 電子材料用Cu−Si−Co系合金及びその製造方法
JP4653239B2 (ja) 電気電子機器用銅合金材料および電気電子部品
JP2016183418A (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si−Co系銅合金

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110218

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110218

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110517

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110714

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110714

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110927

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111020

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4851596

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees