JP4843189B2 - 配向膜、位相差板及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、新規な液晶性化合物の配向膜、及びそれを用いた位相差板及びその製造方法に関する。

液晶表示装置は、通常、液晶セル及び偏光板を含む。偏光板は保護フィルムと偏光膜とを有し、通常、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート及び偏光板が、この順で配置されている。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。

光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されている。また、延伸複屈折ポリマーフィルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に低分子もしくは高分子液晶性分子から形成された光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。液晶性分子には多様な配向形態があるため、液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することができる。さらに、偏光板の保護膜に複屈折性を付加することで、保護膜と光学補償シートを兼ねる構成も提案されている。

光学補償シートの光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性分子を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償シートを製造することができる。液晶性分子を用いた光学補償シートでは、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。例えば、ＴＮモード液晶セル用光学補償シートは、電圧印加により液晶分子がねじれ構造が解消しつつ基板面に傾斜した配向状態の光学補償を行い、黒表示時の斜め方向の光漏れ防止によるコントラストの視角特性を向上させる（特許文献１参照）。従来のＴＮモード液晶セル用光学補償シートは、延伸複屈折ポリマーフィルムに代えて液晶性分子からなるフィルムを用いることで、従来よりも正確に液晶セルを光学的に補償することを可能としている（特許文献２参照）。また、ディスコティック液晶性化合物をハイブリッド配向状態に固定することによって作製された位相差膜を、ＴＮセルの光学補償のために用いることも提案されている（特許文献３）。前記位相差膜は、配向膜の表面に重合性ディスコティック液晶性化合物を塗布して、配向制御し、配向膜側のチルト角と空気界面側のチルト角とが連続的に変化しているハイブリット配向の状態とし、この配向状態を光重合によって固定することによって得られる。重合性ディスコティック液晶性化合物をハイブリット配向させるための配向膜の材料として、種々の材料が提案されている（特許文献４）。

ところで、液晶材料からなる光学異方性層を連続的に製造する場合は、通常、長尺の支持体上に設けられた配向膜を連続的にラビングして、その表面に液晶材料を連続的に塗布して作製する。前記従来の配向膜では、例えばラビング布で連続的にラビング処理を行うと、ラビングの開始点と終了点と（長尺状のフィルムの一方の先端部と他方の先端部と）ではラビング布等の磨耗などによって、ラビング強度が変化してしまう。そのため、配向膜の配向制御能が不均一となり、領域によっては、その上に適用された液晶性化合物を所望の配向状態に配向制御できなくなり、例えば、光学異方性層中の配向欠陥（輝点）が増えるといった問題がある。そこで、長尺状のフィルム上に光学異方性層を連続的に作製する場合であっても、配向欠陥が少ない光学異方性層を安定的に製造するのに寄与する配向膜が求められている。
特開平６−２１４１１６号公報 特開平８−５０２０６号公報 特開平８−２７２８４号公報 特開平９−１５２５０９号公報 特開２００３−５７６５８号公報

本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、液晶を配向状態に固定してなる光学異方性層を安定的に作製するのに寄与する配向膜を提供することを課題とする。特に、前記光学異方性層を長尺状フィルム上に連続的に形成して長尺状の位相差板を作製する場合であっても、全体にわたって発生する配向欠陥が少ない光学異方性層を製造し得る、即ち安定に製造するのに寄与する配向膜を提供することを課題とする。また、本発明は、液晶の配向欠陥に起因する欠陥が少ない位相差板及びその製造方法を提供することを課題とする。

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 下記一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式（III）のいずれかで表される構造単位を少なくとも１種有する重合体を含む配向膜。

（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、Ｐ¹は酸素原子、−ＣＯ−又は−ＮＲ¹²−を表し、Ｒ¹²は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ¹は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のへテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ¹は水素結合性基を表し、ｎ１は１〜３の整数を表す。）

（式中、Ｒ²は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、Ｌ²¹は置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ²¹は単結合、−Ｏ−、−ＮＲ²¹−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ²¹は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ²²は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ²は水素結合性基を表し、ｎ２は０〜３の整数である。）

（式中、Ｌ³¹は置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ³¹は単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲ³¹−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ³¹は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ³²は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ³は水素結合性基を表し、ｎ３は０〜３の整数である。）

［２］ 前記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹が水素原子又はメチル基を表し、Ｐ¹が−ＮＲ¹²−を表し、Ｒ¹²が水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ¹が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基、２価のへテロ環基又はこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ¹が水素結合性基を表し、ｎ１は１〜３の整数である［１］に記載の配向膜。
［３］ 前記一般式（II）において、Ｒ²が水素原子又はメチル基を表し、Ｌ²¹が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ²¹が−Ｏ−、−ＮＲ²¹−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ²¹が水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ²²が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ²が水素結合性基を表し、ｎ２が０〜３の整数である［１］又は［２］に記載の配向膜。
［４］ 前記一般式（III）において、Ｌ³¹が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ³¹が−Ｏ−、−ＮＲ³¹−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ³¹が水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ³²が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｘ³が水素結合性基を表し、ｎ３が０〜３の整数である［１］〜［３］のいずれかに記載の配向膜。
［５］ 透明支持体上に、［１］〜［４］のいずれかに記載の配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定されたたディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層とを有する位相差板。
［６］ 前記ディスコティック液晶性化合物が、重合性基を有する［５］に記載の位相差板。
［７］ 前記ディスコティック液晶性化合物が、光重合反応によって固定されている［５］又は［６］に記載の位相差板。
［８］ 表面がラビング処理された［１］〜［４］のいずれかに記載の配向膜のラビング処理面に、ディスコティック液晶性化合物を含有する液晶性組成物を塗布して、ディスコティック液晶性分子を配向させるとともに、その配向状態に固定して光学異方性層を作製する工程を含む位相差板の製造方法。

本発明によれば、配向欠陥の少ない光学異方性層を連続的に作製するのに寄与する配向膜を提供することができる。本発明は、液晶材料、特にディスコティック液晶からなる光学異方性層を有する位相差板の生産性を改善するのに寄与する。

発明の実施の形態

以下、本発明の配向膜及び本発明の位相差板について順次説明する。
１．配向膜
本発明の配向膜は、下記一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式（III）のいずれかで表される繰り返し単位を少なくとも１種有する重合体（以下、「配向膜用ポリマー」という場合がある）を含む。以下、一般式（Ｉ）〜（III）について詳細に説明する。

式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、好ましくは水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｐ¹は酸素原子、−ＣＯ−又は−ＮＲ¹²−を表す。Ｒ¹²は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表す。前記アルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよい。好ましくは水素原子又は炭素原子数が１〜４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基である。

Ｌ¹は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のへテロ環基及びこれらの組み合わせから群から選ばれる２価の連結基を表す。アルキレン基としては炭素原子数が１〜１０のアルキレン基が好ましく、炭素原子数が１〜６のアルキレン基がより好ましい。例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基などが挙げられる。２価の環状脂肪族基としては、シクロヘキサン−１，２−ジイル、１，４−シクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロブタン−１，３−ジイルが好ましく、より好ましくは１，４−シクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロブタン−１，３−ジイルである。２価の芳香族基の芳香族環としてはベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環が含まれるが、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。２価の芳香族基としては、１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、１，２−フェニレン、１、２−ナフチレン、１，３−ナフチレン、１，４−ナフチレン、１，５−ナフチレン、１、８−ナフチレン、２，６−ナフチレンが好ましく、より好ましくは１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−ナフチレン、１，５−ナフチレン、２，６−ナフチレンである。２価のヘテロ環基のヘテロ環としては、５員、６員又は７員のヘテロ環が好ましく、５員環又は６員環がさらに好ましい。ヘテロ環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子のいずれかが好ましい。ヘテロ環の例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリジン環、オキサジアゾール環、イソオキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、ピラン環、チアン環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、及びトリアジン環が含まれる、２価のへテロ環基としては、ピリジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，４−ジイル、１，３，５−トリアジン−２，４−ジイルが好ましい。

Ｌ¹で表されるアルキレン基、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ）アリールアゾ基（例えばフェニルアゾ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、プロピルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ）、アシル基（例えば、ホルミル、アセチル、プロパノイル、オクタノイル、ベンゾイル）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ）、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基が含まれる。

Ｘ¹は水素結合性基を表す。水素結合性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アシルアミノ基及びスルホ基が好ましく、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基がより好ましい。
ｎ１は１〜３の整数を表す。

次に一般式（II）について説明する。

式（II）中、Ｒ²は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。Ｌ²¹は置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、前記一般式（Ｉ）中のＬ¹で表される２価の芳香族基及び２価のヘテロ環基とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｐ²¹は単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲ²¹−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ²¹は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、前記一般式（Ｉ）中のＲ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ²²は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表す。Ｌ²²は、前記一般式（Ｉ）中のＬ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｘ²は水素結合性基を表し、前記一般式（Ｉ）中のＸ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。ｎ２は０〜３の整数である。

次に、一般式（III）について説明する。

前記一般式（III）中、Ｌ³¹は置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、前記一般式（Ｉ）のＬ¹の２価の芳香族基及び２価のヘテロ環基とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｐ³¹は単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲ³¹−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ³¹は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、前記一般式（Ｉ）中のＲ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ³²は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｌ³²は前記一般式（Ｉ）のＬ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｘ³は水素結合性基を表し、前記一般式（Ｉ）中のＸ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。ｎ３は０〜３の整数である。

以下に本発明の一般式（Ｉ）、一般式（II）又は一般式（III）で表される繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明の配向膜は、一般式（Ｉ）、（II）及び（III）のいずれかで表される一種の構成単位からのみなる単独重合体でもよいし、一般式（Ｉ）、（II）及び（III）のいずれかで表される構成単位の二種以上からなる共重合体であってもよいし、又は一般式（Ｉ）、（II）及び（III）のいずれかで表される構成単位の一種以上と、それ以外の構成単位の一種以上との共重合体でもよい。一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される構成単位以外の構成単位については特に制限はないが、好ましい共重合構成単位としては、例えば、ビニル系モノマー（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリル酸アミド類、メタクリル酸アミド類、ビニルアルコール、アシルオキシビニル類、スチレン類、マレイン酸、マレイン酸エステル類、マレインアミド類、アクリロニトリル、及び、ビニルアルキルケトン類等）を逐次重合して得られる構成単位；及び下記一般式（ＩＶ−Ａ）又は一般式（ＩＶ−Ｂ）で表される構成単位；が挙げられる。

前記一般式（ＩＶ−Ａ）中、Ｒ⁴¹は、前記一般式（Ｉ）中のＲ¹と同義であり、その好ましい範囲も同様である。Ｌ⁴¹は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯＮＨＲ⁴²−を表し、Ｒ⁴²は水素原子、炭素原子数１〜１０の炭化水素基又は炭素原子数４〜１０のヘテロ環基を表す。炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニルなどが好ましい。ヘテロ環基としては前記一般式（Ｉ）中のＬ¹のヘテロ環基として示された基が好ましい基として挙げられる。これらの基は置換基を有していてもよい。一般式（ＩＶ−Ａ）及び（ＩＶ−Ｂ）中のＺは、水素原子、ハロゲン原子（例えば、クロロ原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、−ＯＲ¹’、−ＮＲ²’Ｒ³’、−ＳＲ⁴’、−ＰＲ⁵’Ｒ⁶’、−ＳｉＲ⁷’Ｒ⁸’Ｒ⁹’、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ¹⁰’、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ¹¹’、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹²’Ｒ¹³’、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ¹⁴’、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ¹⁵’Ｒ¹⁶’、−ＮＲ¹⁷’Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹⁸’Ｒ¹⁹’−、−Ｎ⁺Ｒ²¹’Ｒ²²’Ｒ²³’等を表す。尚、上記Ｒ¹’〜Ｒ²³’は、前記Ｒ⁴²で表される基と同義である。

一般式（Ｉ）、（II）及び（III）のいずれかで表される構成単位を有するポリマーは、水溶性基（例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、四級アンモニウム基、アミノ基、ホスホ基等）を有しているのが好ましい。特に、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するポリマーが好ましい。これらの水溶性置換基は、一般式（Ｉ）、（II）及び（III）のいずれかで表される構成単位中の置換基であっても、それ以外の構成単位中の置換基であってもよい。

以下に、前記一般式（ＩＶ−Ａ）又は一般式（ＩＶ−Ｂ）で表される構成単位の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。

前記配向膜用ポリマー中における前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される構成単位の合計の含率は、１質量％〜１００質量％が好ましく、１０質量％〜１００質量％がより好ましく、２０質量％〜１００質量％がさらに好ましい。

前記配向膜用ポリマーは、更に架橋性基を有する構成単位を含むのが好ましい。前記配向膜用ポリマーが重合性基を含むと、例えば重合性基を有する液晶性化合物を本発明の配向膜上で配向させ、重合により配向状態に固定する際に、配向膜層と固定された液晶性化合物からなる光学異方性層との密着性が改善される場合が多く好ましい。前記架橋性基は、付加、縮合、置換反応性基などいずれであってもよく、特に制限はない。一方で、液晶性化合物としては、アクリロイル基、メタクリロイル基などエチレン性不飽和基を有する材料を用いて、光ラジカル重合開始剤の存在下で紫外線照射により固定するのが好ましく、従って、前記配向膜用ポリマーも紫外線照射により、架橋反応し得る架橋性基を有することが好ましい。紫外線照射により架橋し得る反応の好ましい例として、紫外線照射によりカチオンを発生する化合物を併用したエポキシ環、オキセタン環などのヘテロ環状化合物の開環重合反応と紫外線照射によりラジカルを発生する化合物を併用したエチレン性不飽和基を有する化合物のラジカル重合反応が挙げられる。これらのうち前記配向膜用ポリマー中に含まれる最も好ましい架橋性基は、エチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基等）である。また、前記配向膜用ポリマー中への架橋性基導入方法としては特に制限はない。

以下に架橋性基を含む構成単位の好ましい具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。

本発明に用いられる配向膜用ポリマーは、付加、縮合、置換反応など種々の方法により製造することができる。前記一般式（Ｉ）〜（III）のいずれかで表される構成単位となるエチレン性不飽和化合物のラジカル重合反応により製造するのが最も簡便で好ましい。一方、前記配向膜用ポリマーが、架橋性基を有する構成単位を含む場合、該ポリマーは、（ａ）対応するモノマー（即ち、架橋性基となる置換基を有するモノマー）を重合して、直接エチレン性不飽和基を導入する手法；又は（ｂ）任意の官能基を有するモノマーを重合して得られたポリマーに、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する手法；により合成することができる。（ｂ）の方法が好ましい。前記高分子反応は、Ｉ）例えば２−クロロエチル基から塩酸を脱離させるようなエチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基を含むポリマーを生成させた後に、官能基変換（脱離反応、酸化反応、還元反応、脱保護反応など）によりエチレン性不飽和基に誘導する方法；及びII）任意の官能基を含むポリマーを生成させた後に、該ポリマー中の官能基と結合生成反応が進行し、共有結合を生成し得る官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する化合物（以降、「反応性モノマー」と称する。）を反応させる方法が挙げられる。また前記Ｉ）及びＩＩ）の方法を組み合わせて、前記ポリマーを合成してもよい。ここで言う結合形成反応とは、一般に有機合成分野で用いられる結合生成反応のなかで共有結合を形成する反応であれば特に制限なく使用できる。一方で、ポリマーに含まれるエチレン性不飽和基が反応中に熱重合し、ゲル化してしまう場合があるので、できるだけ低温（好ましくは６０℃以下、特に好ましくは室温以下）で反応が進行するものが好ましい。また反応の進行を促進させる目的で触媒を用いてもよく、ゲル化を抑制する目的で重合禁止剤を用いてもよい。

前記配向膜用ポリマーが、架橋性基を有する構成単位を含む場合、その構成単位の割合は０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．３質量％〜５０質量％がより好ましく、０．５質量％〜４０質量％がさらに好ましい。

前記配向膜用ポリマーの好ましい分子量範囲は、重量平均分子量で１０００以上１００万以下、さらに好ましくは２０００以上２０万以下である。最も好ましくは３０００以上１０万以下である。

以下に本発明に用いられる配向膜用ポリマーの好ましい例を表１に示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。なお、前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される構成単位、及び架橋性置換基を含む構成単位については、前述の具体例の番号により示し、共重合組成比は質量％で付記した。

本発明に用いられる配向膜の合成は、既知の方法を適用して容易に得ることができる。以下に本発明に用いられるポリマーの具体的合成例を記すが、合成例はこれに限定されるものではない。

（ＡＬ−１）の合成例
５００ｍＬの三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３００ｍｌ）を添加し、４−アミノ安息香酸（４０．３ｇ、０．２９４ｍｏｌ）を溶解し、０℃に冷却したところへ、アクリル酸クロリド（３０．０ｇ、０．３３１ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、反応液を４０℃まで加温し、更に２時間過熱攪拌後、反応液を水３Ｌに添加し、析出した固体を減圧濾過で濾別し、送風乾燥して（中間体Ａ）を定量的に得た。１００ｍＬの三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら６５℃に加熱したところへ、開始剤（和光純薬（株）製Ｖ−６５、７．５ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）溶液を添加した。１０分後に、中間体Ａ（７．５ｇ：０．０３９ｍｏｌ）及び開始剤（（和光純薬（株）製Ｖ−６５、１８．５ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、開始剤（（和光純薬（株）製Ｖ−６５、３．８ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）溶液を添加し、そのままの温度で３時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された水（８００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、更に水洗した。得られたウェットのポリマーは８．９ｇであった。このポリマーを乾燥することによって、配向膜用ポリマーＡＬ−１を６．９ｇ得た。得られた固体がポリマーであることは¹Ｈ−ＮＭＲより確認した。

本発明の配向膜は、前記配向膜用ポリマーを溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体表面に塗布し、２５℃〜１４０℃で塗布液中に含まれる溶媒を乾燥除去することで作製することができる。また、可能であれば蒸着によって形成することもできるが、塗布による形成がより好ましい。このようにして形成された配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

前記配向膜形成用塗布液の調製に用いられる溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が挙げられるが、好ましくは、水、アルコール類及びこれらの混合溶媒である。前記塗布液中の配向膜用ポリマーの濃度は、０．１質量％〜４０質量％であるのが好ましく、０．５質量％〜２０質量％であるのがより好ましく、２質量％〜１０質量％であるのがさらに好ましい。前記塗布液の粘度は、０．１ｃｐ〜１００ｃｐであるのが好ましく、０．５ｃｐ〜５０ｃｐであるのがより好ましい。

前記塗布液中には、前記配向膜用ポリマー以外にも、適宜添加剤を添加してもよい。例えば、前記配向膜用ポリマーが水溶性の溶媒に溶解し難い場合は、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸等）を添加して溶解を促進してもよい。

上記方法によって形成された配向膜は、その表面がラビング処理され、液晶配向性が付与されているのが好ましい。ラビング処理としてはポリマー塗布層の表面を、紙や布で一定方向（通常は長手方向）に、数回こすることにより実施することができる。また、ラビング以外の方法としては、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により液晶配向性を付与する事も出来る。液晶配向性を付与する方法としては、ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。

本発明の配向膜は、液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物を配向させるのに適している。本発明の配向膜を利用することによって、液晶性化合物からなる光学異方性層及びそれを有する位相差板を安定的に作製することができる。以下、本発明の位相差板について詳細に説明する。
２．位相差板
本発明の位相差板は、支持体上に本発明の配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された液晶性化合物を含有する光学異方性層を有することを特徴とする。
（１）光学異方性層
前記光学異方性層は、配向状態に固定された液晶性化合物、好ましくはディスコティック液晶性化合物を含有する。前記光学異方性層は、液晶性化合物、好ましくはディスコティック液晶性化合物、及び所望により重合性開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、例えば支持体上に形成された本発明の配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成することができる。液晶性化合物を配向及び固定化した後は、支持体を剥離してもよい。

（１）−ａ 形成方法
前記光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物もしくは棒状液晶性化合物を可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液を、上記の様に支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された本発明の配向膜上に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着による形成でも良いが、塗布による形成が好適に用いられる。塗布方法としてはカーテンコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティング、スロットコーティング、ロールコーティング、スライドコーテティング、ブレードコーティング、グラビアコーティング、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、液晶性化合物を配向させ、更に、紫外線照射等によって固定化することによって、液晶性化合物による光学異方性層が形成される。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、光学補償等の用途によって、最適なレタデーションの値によって異なるが、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

（１）−ｂ 光学異方性層の形成に用いられる材料
前記光学異方性層は、配向状態に固定された液晶性化合物を含有する。ディスコティック液晶性化合物が好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物として、重合性基を有する円盤状液晶性化合物が好ましい。円盤状液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。円盤状液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。

円盤状液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記式（Ｖ）で表わされる化合物であることが好ましい。
式（Ｖ） Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。

前記式（Ｖ）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。ディスコティック液晶性化合物の具体例としては、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されているものも好ましい。

これらの液晶性化合物は、光学異方性層中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。

前記光学異方性層は、液晶性化合物、好ましくは前記円盤状液晶性化合物、及び所望により下記の重合開始剤、他の添加剤等を含む塗布液を、本発明の配向膜上に塗布することにより形成するのが好ましい。以下、塗布液中に添加可能な液晶性化合物以外の材料について説明する。

液晶性分子は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性分子に導入した重合性基（一般式（Ｖ）で表すところのＰ）の重合反応により実施することが好ましい。そのためには、前記塗布液中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応、及び電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応（光硬化）及びＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。

光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることが更に好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。

前記光学異方性層形成用塗布液中には、上記光重合開始剤以外にも適宜添加剤を添加してもよい。例えば、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、配向制御剤及びカイラル剤等が挙げられる。以下に配向制御剤について詳細に説明する。本発明における配向制御剤とは、液晶性化合物の塗布液に添加され、塗布後に液晶性化合物の層の表面、つまり、空気界面側に偏在することによって、空気界面側での液晶性化合物の配向を制御することができる化合物を表す。この配向制御剤の構造によっては、液晶性化合物を空気界面側で略垂直に配向させたり、逆に略水平に配向させる事もできる。例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合には、特開２０００−３４４７３４号公報等に記載の下記一般式（VI）で表されるような化合物が挙げられる。
一般式（VI） （Ｈｂ−Ｌ²−）_nＢ¹
式（VI）中、Ｈｂは炭素原子数が６〜４０の脂肪族基又は炭素数６〜４０の脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を表し、Ｌ²は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁵−、−ＳＯ₂−、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ⁵は水素原子又は炭素数が１〜６のアルキル基を表し、ｎは２〜１２のいずれかの整数を表し、Ｂ¹は少なくとも３つの環構造を含むｎ価の基を表す。一般式（VI）のＨｂ、Ｌ²、Ｂ¹及びｎの詳細については、それぞれ特開２００２−１２９６１２号公報に記載があり、本発明に用いられる配向制御剤についても同様である。

また、配向制御剤は、以下に示すような高分子化合物であってもよい。添加される高分子配向制御剤は、光学異方性層形成用の塗布液中に溶解し得るポリマーであれば特に制限はない。好ましい高分子配向制御剤の一例を以下に示す。
ポリプロピレンオキシド
ポリテトラメチレンオキシド
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン トリオール
ポリビニルアセテート
ポリメラミン
ポリ（エチレン アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン グルタレート）
ポリ（１，２−ブチレン グリコール）
ポリ（１，４−ブチレン スクシネート）
ポリ（１，４−ブチレン テレフタレート）
ポリ（エチレンテレフタレート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレン グルタレート）
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）
ポリ（ネオペンチルグリコール セバケート）
ポリ（１，３−プロピレン アジペート）
ポリ（１，３−プロピレン グルタレート）
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリ（３−ヒドロキシブチリックアシッド）

配向制御剤の添加量は、液晶性化合物に対し０．０１質量％〜１０質量％であるのが好ましく、０．０５質量％〜５質量％であるのがより好ましい。

光学異方性層形成用の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。

塗布液中の液晶性化合物及びその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。また、塗布液の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐがより好ましい。

（２）支持体
本発明の位相差板は支持体を有する。支持体は、作製時に用いられる支持体と必ずしも同一でなくてもよく、前記光学異方性層を作製した後、作製時に用いた仮支持体から他の支持体に転写してもよい。本発明の位相差板に用いられる支持体は、透明で光学異方性が小さく、波長分散が小さいポリマーフィルムを用いることが好ましい。ここで支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。波長分散が小さいとは、具体的には、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。光学異方性が小さいとは、具体的には、面内レターデーション（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。透明支持体は、ロール状又は長方形のシート状の形状を有することが好ましく、ロール状の透明支持体を用いて、光学異方性層を積層してから、必要な大きさに切断することが好ましい。ポリマーの例には、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート及びポリメタクリレートが含まれる。セルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。セルロースアシレートフィルムを非塩素系溶媒を用いて製造することについて、発明協会公開技報２００１−１７４５号に詳しく記載されており、そこに記載されたセルロースアシレートフィルムも本発明に好ましく用いることができる。

支持体用のポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、ケン化処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。

本発明の位相差板は、種々の用途に利用される。液晶表示装置の光学補償シートや、直線偏光膜や透明保護膜と積層して偏光板として利用され得る。
３．偏光板
本発明の位相差板に、直線偏光膜又は透明保護膜を貼り合せ、偏光板とした後に、実際の液晶表示素子に用いるのが好ましい。以下に該偏光膜及び透明保護膜について説明する。

（１）直線偏光膜
直線偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。ディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に用いた場合には、偏光膜の透過軸は、配向膜側のディスコティック液晶性分子の面に対し、実質的に平行になるように配置される。また、棒状液晶性化合物を用いた場合、偏光膜の透過軸は、棒状液晶性分子の長軸方向（遅相軸）と、実質的に平行になるように配置する。通常は、位相差板の支持体側に貼り合せるのが好ましいが、必要によっては、光学異方性層側と貼り合せてもよい。

（２）透明保護膜
位相差板の光学異方性層側に透明保護膜を貼り合せてもよい。該透明保護膜としては、透明なポリマーフィルムが好ましい。保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。

［実施例１］
１．本発明の位相差板の作製
（１）配向膜の形成
厚さ１００μｍ、幅１５０ｍｍ、長さ２００ｍの光学的に等方性のトリアセチルセルロースフィルムを透明支持体として用いた。本発明の配向膜用ポリマー（例示化合物ＡＬ−１）を水／メタノール混合液に４質量％になるように希釈し、中和剤としてトリエチルアミンを添加し、配向膜の塗布液を調液した。この塗布液を透明支持体の片面に連続塗布し、塗布層を１２０℃で２分間加熱して、乾燥し、厚さ１μｍの配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向（搬送方向）に連続的にラビング処理を実施し、本発明の配向膜を形成した。

（２）光学的異方性層の形成
配向膜のラビング処理面上に、以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて、連続的に塗布した。

────────────────────────────────────
光学的異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────
下記ディスコティック液晶性化合物（ＤＬＣ−１） １８２質量部
エチレングリコール変性トリメチロールプロパントリアクリレート １８質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
セルロースアセテートブチレート ４質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）
光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製） ６質量部
光重合増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ２質量部
メチルエチルケトン ３４３質量部
────────────────────────────────────

塗布層を１２５℃で２分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を配向させた。その温度で４秒間、６００ｍｊ／ｃｍ²の紫外線を照射して液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして光学異方性層を形成し、長さ１８０ｍの光学補償シート１０１を作製した。

実施例１に示した位相差板の作製方法において、配向膜用ポリマーＡＬ−１の代わりに、表１に示した配向膜用ポリマーＡＬ−２、ＡＬ−４、ＡＬ−５、ＡＬ−９及びＡＬ−１０をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート１０２〜１０６を作製した。

［比較例１］
配向膜用ポリマーＡＬ−１の代わりに、ＰＶＡ−２０３（（株）クラレ製）を用いた以外は、実施例１と同様に配向膜を作製し、次いで実施例１と同様に光学異方性層を形成し、長さ１８０ｍの光学補償シート２０１を作製した。

［光学補償シートの評価］
実施例１及び２、比較例１で作製した光学補償シートを０．０８ｍ²（１５インチ液晶モニターの表示面積に相当）の大きさで、４５ｍ間隔に５点サンプリングし、各々の輝点の数をクロスニコル下にサンプルを消光位において測定した。結果を表２に示す。

本発明の配向膜を用いると、長尺の光学補償シートを欠陥が少ない状態で安定に製造できる。

Claims (8)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される構造単位の単独重合体、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位と下記一般式（II）もしくは下記一般式（III）で表される構造単位とからなる共重合体、又は下記一般式（II）で表される構造単位の単独重合体を含む配向膜。
   

   

   （式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、Ｐ¹は酸素原子、−ＣＯ−又は−ＮＲ¹²−を表し、Ｒ¹²は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ¹は置換もしくは無置換の、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のへテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ¹はヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アシルアミノ基及びスルホ基から選択される水素結合性基を表し、ｎ１は１〜３の整数を表す。）
   

   

   （式中、Ｒ²は水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、Ｌ²¹は置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ²¹は単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲ²¹−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ²¹は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ²²は置換もしくは無置換の、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ²はヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、又はアシルアミノ基を表し、ｎ２は０〜３の整数である。）
   

   

   （式中、Ｌ³¹は置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ³¹は単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲ³¹−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ³¹は水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ³²は置換もしくは無置換の、アルキレン基、２価の環状脂肪族基、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ³はヒドロキシル基、カルボキシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アシルアミノ基及びスルホ基から選択される水素結合性基を表し、ｎ３は０〜３の整数である。）
2. 前記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹が水素原子又はメチル基を表し、Ｐ¹が−ＮＲ¹²−を表し、Ｒ¹²が水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ¹が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基、２価のへテロ環基又はこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ¹がカルボキシル基、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表し、ｎ１が１〜３の整数である請求項１に記載の配向膜。
3. 前記一般式（II）において、Ｒ²が水素原子又はメチル基を表し、Ｌ²¹が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基又は２価のヘテロ環基を表し、Ｐ²¹が−Ｏ−、−ＮＲ²¹−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｒ²¹が水素原子又は置換もしくは無置換の炭素原子数が１〜６のアルキル基を表し、Ｌ²²が置換もしくは無置換の、２価の芳香族基、２価のヘテロ環基及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、Ｘ²がカルボキシル基、カルバモイル基、又はスルファモイル基を表し、ｎ２が０〜３の整数である請求項１又は２に記載の配向膜。
4. 透明支持体上に、請求項１〜３のいずれか１項に記載の配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定されたディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層とを有する位相差板。
5. 前記ディスコティック液晶性化合物が、重合性基を有する請求項４に記載の位相差板。
6. 前記ディスコティック液晶性化合物が、光重合反応によって固定されている請求項４又は５に記載の位相差板。
7. 表面がラビング処理された請求項１〜３のいずれか１項に記載の配向膜のラビング処理面に、ディスコティック液晶性化合物を含有する液晶性組成物を塗布して、ディスコティック液晶性分子を配向させるとともに、その配向状態に固定して光学異方性層を作製する工程を含む位相差板の製造方法。
8. 長尺状の支持体の表面上に形成された前記配向膜の表面を、連続的にラビング処理する工程を含む請求項７に記載の製造方法。