JP4825130B2 - 近赤外線活性型ポジ型樹脂組成物 - Google Patents
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Description
(A)エーテル酸素の隣にアルケニル基を有するエーテルでブロックされたカルボキシル基を有する下記一般式(1b)で表される構造単位を有するビニル系重合体と、
(B)近赤外域の光により熱を発生する下記式(D1)又は(D2)で表される少なくとも1種の色素と、
(A)エーテル酸素の隣にアルケニル基を有するエーテルでブロックされたカルボキシル基を有する前記一般式(1b)で表される構造単位を有するビニル系重合体。
(B)近赤外域の光により熱を発生する前記式(D1)又は(D2)で表される少なくとも1種の色素。
(C)熱により酸を発生する前記式(G1)〜(G3)の何れかで表される少なくとも1種の熱酸発生剤。
で表わされる(メタ)アクリル酸またはその誘導体と、対応するブロック用エーテル(II)とを反応させて、一般式(2b)の化合物のカルボキシル基をブロックして、下記式(3b)の構造の単量体として得ることができる。
上記の単量体の形成に用いるブロック用エーテル(II)としては、単量体単位を構成するエチレン性不飽和結合及びカルボキシル基等のアルカリ可溶性基を有する化合物のカルボキシル基をブロックできるものであればよく、例えば下記一般式(4b)で示される構造を有するものが好ましい。
本発明にかかる組成物の(A)成分として用いるブロック用アルケニルエーテルでブロックされた構造単位を有するビニル系重合体は、上記のような重合性のエチレン性不飽和結合とアルカリ可溶性基を有する化合物のアルカリ可溶性基をブロック用アルケニルエーテルでブロックした状態で、重合反応を行うことで得ることができる。アルカリ可溶性基であるカルボキシル基等のブロック用アルケニルエーテルを用いたブロックは、例えば、国際公開第03/6407号パンフレットに記載の方法等の公知の方法に従って行うことができる。
カラム保持温度:40℃
検出器:RI
展開溶媒:テトラヒドロフラン(流速0.5ml/分)
標準物質:ポリスチレン
各実施例における感光層へのレーザ照射は以下の条件によって行った。
・ビーム数:208本
・解像度:3200dpi
・レーザ出力(合計):17W
・描画用レーザ波長:830nm
・レーザ走査速度:2000mm/秒
参考例B−1:モノマーの合成
メタクリル酸 50gとエチルビニルエーテル 42gおよびリン酸0.4gを添加し、室温で3時間反応させた。メタクリル酸の転化率は82%であり、メタクリル酸1−エトキシエチルへの選択率は85%であった。反応液を5質量%炭酸ナトリウム水溶液で中和した後、分液により得られた有機層を減圧濃縮することにより、メタクリル酸1−エトキシエチル74gを取得した。
1H−NMRスペクトル(400MHz)
測定機器:日本電子 GSX−400
測定溶媒:重クロロホルム
δ:6.16−6.14(m,1H)、6.00(q,J=5.4Hz,1H)、5.60 −5.59(m,1H)、3.73(dq,J=9.5,7.1Hz,1H)、3.56(dq,J=9.6,7.1Hz,1H)、1.95−1.94(m,3H)、1.44(d,J=5.1Hz,3H)、1.22(t,J=7.1Hz,3H)
参考例B−2:ビニル系重合体の製造(Q−1)
滴下装置、攪拌装置、温度計、冷却管および窒素ガス導入管を備えたフラスコ内に、シクロヘキサノン200.0gを仕込み、80℃まで加熱し、窒素雰囲気下にて攪拌しながら、メタクリル酸1−エトキシエチル40g、メタクリル酸ブチル160gおよび2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(AMBN)16gを均一に溶解したものを滴下装置より2時間かけて滴下した。滴下終了後、30分毎に3回、AMBN/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=0.2g/1.8gの混合溶液を添加して、80℃で3.5時間熟成し、重合反応を終了した。得られたポリマー溶液は、固形分53質量%であり、重量平均分子量13,000のビニル系重合体(Q−1)を得た。
ビニル系重合体(Q−1)100質量部、下記に示すフタロシアニン色素20質量部、下記に示す熱酸発生剤10質量部、p−トルエンスルホン酸0.5質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示すフタロシアニン色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示すフタロシアニン色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示すフタロシアニン色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示すフタロシアニン色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部、p−トルエンスルホン酸0.5 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示すフタロシアニン色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部、p−トルエンスルホン酸0.5 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部、p−トルエンスルホン酸0.5 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部、p−トルエンスルホン酸0.5 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部、p−トルエンスルホン酸0.5 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
ビニル系重合体(Q-1)100 質量部、下記に示す色素20 質量部、下記に示す熱酸発生剤10 質量部、p−トルエンスルホン酸0.5 質量部、UV 吸収剤1.5 質量部をメチルエチルケトン中に固形分が20 質量%となるように添加して、液状組成物を得た。
Claims (6)
- 一般式(1b)で表される構造単位を有するビニル系重合体の重量平均分子量が2,000〜300,000である請求項1に記載の近赤外線活性型ポジ型レジスト組成物。
- 前記ビニル系重合体が、カルボキシル基が前記エーテル酸素の隣にアルケニル基を有するエーテルを用いてブロックされたモノマーを用いて得られたものである請求項1または2に記載の近赤外線活性型ポジ型レジスト組成物。
- 酸を更に含む請求項1〜3のいずれかに記載の近赤外線活性型ポジ型レジスト組成物。
- 基板上に請求項1〜4のいずれかに記載の近赤外線活性型ポジ型レジスト組成物の層を形成する工程と、該層の所定部に近赤外線を照射する工程と、アルカリ現像により照射部を前記基板上から除去して、該基板上に前記近赤外線活性型ポジ型レジスト組成物のパターンを形成する工程と、を有することを特徴とするパターンの形成方法。
- 前記近赤外線が、830nmの光を含む請求項5に記載のパターンの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006529304A JP4825130B2 (ja) | 2004-07-22 | 2005-07-22 | 近赤外線活性型ポジ型樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004214903 | 2004-07-22 | ||
JP2004214903 | 2004-07-22 | ||
JP2004214901 | 2004-07-22 | ||
JP2004214901 | 2004-07-22 | ||
PCT/JP2005/013508 WO2006009258A1 (ja) | 2004-07-22 | 2005-07-22 | 近赤外線活性型ポジ型樹脂組成物 |
JP2006529304A JP4825130B2 (ja) | 2004-07-22 | 2005-07-22 | 近赤外線活性型ポジ型樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006009258A1 JPWO2006009258A1 (ja) | 2008-05-01 |
JP4825130B2 true JP4825130B2 (ja) | 2011-11-30 |
Family
ID=35785365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006529304A Expired - Fee Related JP4825130B2 (ja) | 2004-07-22 | 2005-07-22 | 近赤外線活性型ポジ型樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7544461B2 (ja) |
EP (1) | EP1788432A4 (ja) |
JP (1) | JP4825130B2 (ja) |
KR (1) | KR100900610B1 (ja) |
WO (1) | WO2006009258A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006115117A1 (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Kansai Paint Co., Ltd. | 記録媒体原盤用ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いた記録媒体原盤の製造方法及びスタンパの製造方法 |
JP2007163772A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Kansai Paint Co Ltd | 回路基板用ポジ型レジスト組成物、回路基板用ポジ型ドライフィルム、及び、それを用いた回路基板の製造方法 |
WO2007069585A1 (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-21 | Kansai Paint Co., Ltd. | 回路基板用ポジ型レジスト組成物、回路基板用ポジ型ドライフィルム、及び、それを用いた回路基板の製造方法 |
JP2007163767A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Kansai Paint Co Ltd | 回路基板用ポジ型レジスト組成物、回路基板用ポジ型ドライフィルム、及び、それを用いた回路基板の製造方法 |
JP2008102277A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
CN104350377B (zh) | 2012-07-29 | 2017-06-27 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 散射光谱学纳米传感器 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60175046A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-09-09 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニ− | 輻射線感光性組成物及びそれを用いた輻射線感光要素 |
JPH10198036A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JPH10282670A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-23 | Konica Corp | 平版印刷版材料 |
JP2000035666A (ja) * | 1997-09-25 | 2000-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
JP2001117223A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2002116539A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2002278050A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
WO2003006407A1 (fr) * | 2001-07-13 | 2003-01-23 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Procédé de production de composé d'éther |
JP2004045448A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト材料及びパターン形成方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4708925A (en) * | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
JP3266017B2 (ja) | 1996-01-10 | 2002-03-18 | 三菱化学株式会社 | 感光性組成物及び平版印刷版 |
JPH10161304A (ja) | 1996-12-04 | 1998-06-19 | Mitsubishi Chem Corp | レーザーダイレクト画像形成材料 |
EP0901902A3 (en) * | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
JPH11231515A (ja) | 1998-02-12 | 1999-08-27 | Mitsubishi Chemical Corp | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |
JP4458384B2 (ja) | 1999-12-06 | 2010-04-28 | コダック株式会社 | ポジ型感光性平版印刷版、その製造方法及び刷版方法 |
TWI255393B (en) | 2000-03-21 | 2006-05-21 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, process for producing resist pattern and process for producing printed wiring board |
CN100470365C (zh) * | 2001-01-12 | 2009-03-18 | 富士胶片株式会社 | 正型成像材料 |
US7119418B2 (en) * | 2001-12-31 | 2006-10-10 | Advanced Technology Materials, Inc. | Supercritical fluid-assisted deposition of materials on semiconductor substrates |
-
2005
- 2005-07-22 KR KR1020077004103A patent/KR100900610B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-07-22 JP JP2006529304A patent/JP4825130B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-22 EP EP05766148A patent/EP1788432A4/en not_active Withdrawn
- 2005-07-22 WO PCT/JP2005/013508 patent/WO2006009258A1/ja active Application Filing
- 2005-07-22 US US11/632,834 patent/US7544461B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60175046A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-09-09 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニ− | 輻射線感光性組成物及びそれを用いた輻射線感光要素 |
JPH10198036A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JPH10282670A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-23 | Konica Corp | 平版印刷版材料 |
JP2000035666A (ja) * | 1997-09-25 | 2000-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
JP2001117223A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2002116539A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2002278050A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型画像形成材料 |
WO2003006407A1 (fr) * | 2001-07-13 | 2003-01-23 | Kyowa Yuka Co., Ltd. | Procédé de production de composé d'éther |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070043858A (ko) | 2007-04-25 |
EP1788432A1 (en) | 2007-05-23 |
KR100900610B1 (ko) | 2009-06-02 |
US20070259279A1 (en) | 2007-11-08 |
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US7544461B2 (en) | 2009-06-09 |
JPWO2006009258A1 (ja) | 2008-05-01 |
WO2006009258A1 (ja) | 2006-01-26 |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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