JP4817102B2 - ダイヤモンド状炭素薄膜、それを表面に成膜したプラスチックフィルム及びガスバリア性プラスチックボトル - Google Patents
ダイヤモンド状炭素薄膜、それを表面に成膜したプラスチックフィルム及びガスバリア性プラスチックボトル Download PDFInfo
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Description
(数2)酸化ハフニウムの含有量(原子%)=(ハフニウム原子の数)/(炭素原子の数+ハフニウム原子の数)×100
この化合物は最密充てん構造をとり、ダイヤモンド状炭素のネットワーク構造に入りやすい。また、これらの化合物は化学的に安定であり、ダイヤモンド状炭素薄膜の化学的安定性を低下させにくい。
(数3)酸化アルミニウムの含有量(原子%)=(アルニウム原子の数)/(炭素原子の数+アルニウム原子の数)×100
(数2)酸化ハフニウムの含有量(原子%)=(ハフニウム原子の数)/(炭素原子の数+ハフニウム原子の数)×100
(実施例1)
PETシート(厚さ200μm)を100×100mmに切り出して、基板とした。パルスレーザー堆積法により、ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料を含有させた薄膜をPETシートの片面に成膜した。ここで、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットとグラファイトターゲットについて、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)を一方のターゲットに10パルス照射した後、他方のターゲットに10パルス照射し、これを1セットとして全部で10セット繰り返した。グラファイトターゲットを10パルス照射することは1nmのダイヤモンド状炭素層を形成し、また、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットを10パルス照射することは1nmの酸化ハフニウム層を形成する条件であったが、厚さ1nm相当のダイヤモンド状炭素層と厚さ1nm相当の酸化ハフニウム層を交互に全部で20層積層した。厚さでは20nmであった。これを実施例1とした。
実施例1において、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)をグラファイトターゲットに3パルス照射した後、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットに17パルス照射し、これを1セットとして全部で10セット繰り返した以外は同様にして、ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料として酸化ハフニウム(HfO2)を含有させた薄膜をPETシートの片面に成膜した。グラファイトターゲットを3パルス照射することは0.3nmのダイヤモンド状炭素層を形成し、また、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットを17パルス照射することは1.7nmの酸化ハフニウム層を形成する条件であったが、厚さ0.3nm相当のダイヤモンド状炭素層と厚さ1.7nm相当の酸化ハフニウム層を交互に全部で20層積層した。厚さでは20nmであった。これを実施例2とした。
実施例1で使用したPETシートと同じPETシートについて、成膜を行なわずに酸素ガス透過度の測定を実施例1と同様に行なった。結果を表1に示した。
実施例1で使用したPETシートの片面に、パルスレーザー堆積法により、ダイヤモンド状炭素薄膜を成膜した。ここで、グラファイトターゲットのみについて、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)を200パルス照射した。この結果、酸化ハフニウムを含有しないダイヤモンド状炭素薄膜が20nmの厚さで成膜された。これを比較例2とした。実施例1と同様にして、酸素ガス透過度を測定した。結果を表1に示した。
実施例1で使用したPETシートの片面に、パルスレーザー堆積法により、酸化ハフニウム薄膜を成膜した。ここで、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットのみについて、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)を200パルス照射した。この結果、酸化ハフニウム薄膜が20nmの厚さで成膜された。これを比較例3とした。実施例1と同様にして、酸素ガス透過度を測定した。結果を表1に示した。
実施例1において、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)をグラファイトターゲットに2パルス照射した後、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットに18パルス照射し、これを1セットとして全部で10セット繰り返した以外は同様にして、ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料として酸化ハフニウム(HfO2)を含有させた薄膜をPETシートの片面に成膜した。グラファイトターゲットを2パルス照射することは0.2nmのダイヤモンド状炭素層を形成し、また、酸化ハフニウム(HfO2)ターゲットを18パルス照射することは1.8nmの酸化ハフニウム層を形成する条件であったが、厚さ0.2nm相当のダイヤモンド状炭素層と厚さ1.8nm相当の酸化ハフニウム層を交互に全部で20層積層した。厚さでは20nmであった。これを実施例3とした。実施例3のサンプルは、ダイヤモンド炭素薄膜中における酸化ハフニウムの含有量が90原子%と見積もることができる。このサンプルについて、実施例2と同様にラマン解析を行なった。図4は、ラマン分光スペクトルであり、(a)はPETシート(未コート)のスペクトル、(b)は実施例3のスペクトルである。図4の(a)と(b)とを比較すると、図4(b)には、PETシートに由来するピークを除外すれば、DLCに由来するピーク(波長1500nm付近)が観察されず、酸化ハフニウムに由来するピーク(波長500nm付近)のみが観察された。実施例2と実施例3の組成を考慮して、図3(b)と図4(b)とを比較すれば、次のことがわかる。すなわち、DLCの量が10原子%と少ないため、ダイヤモンド状炭素のネットワーク構造が形成されていない状態で、酸化ハフニウムが分散していると考えられる。したがって、酸化ハフニウム‐DLC薄膜の場合、ダイヤモンド炭素薄膜中における酸化ハフニウムの含有量が0原子%超〜90原子%未満の範囲において、図1に示すような、ダイヤモンド状炭素のネットワーク構造の中にナノオーダーサイズの酸化ハフニウムが取り込まれた状態となっていることが確認できた。
PETシート(厚さ200μm)を100×100mmに切り出して、基板とした。パルスレーザー堆積法により、ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料を含有させた薄膜をPETシートの片面に成膜した。ここで、酸化亜鉛(ZnO)ターゲットとグラファイトターゲットについて、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)を酸化亜鉛(ZnO)ターゲットに5パルス照射した後、グラファイトターゲットに15パルス照射し、これを1セットとして全部で10セット繰り返した。グラファイトターゲットを15パルス照射することは1.5nmのダイヤモンド状炭素層を形成し、また、酸化亜鉛(ZnO)ターゲットを5パルス照射することは0.5nmの酸化亜鉛層を形成する条件であったが、厚さ1.5nm相当のダイヤモンド状炭素層と厚さ0.5nm相当の酸化亜鉛層を交互に全部で20層積層した。厚さでは20nmであった。これを参考例4とした。
実施例1で使用したPETシートの片面に、パルスレーザー堆積法により、酸化亜鉛薄膜を成膜した。ここで、酸化亜鉛(ZnO)ターゲットのみについて、KrFレーザーのパルス光(2Hz、5W)を200パルス照射した。この結果、酸化亜鉛(ZnO)薄膜が20nmの厚さで成膜された。これを比較例4とした。実施例1と同様にして、酸素ガス透過度を測定した。結果を表3に示した。なお、比較のため、比較例1と2の結果を合わせて表3に掲載した。
着色についてより詳細な検討を行なうために着色度について測定を行なった。
色の評価は着色度b*値を指標とした。b*値は、JISK 7105−1981の色差であり、三刺激値X,Y,Zから式(数5)で求まる。
実施例1、実施例2及び比較例3に各サンプルについて密着試験を行なった。密着試験の方法は次のとおりである。薄膜が、条件1のJISK5400の碁盤目テープ法によって剥離が生じるか否かの試験を行なった。切り傷によって100分割し、テープにより剥がれなかった個数の割合として評価した。剥がれなかった個数の割合が高いほど密着性が良好である。
(条件1)切り傷の隙間は1mm、ます目の数は100。
2 空間
3 酸素原子(或いは窒素原子若しくは炭素原子)
4 金属原子
100 ネットワーク構造
200 イオン性結合材料
300 格子構造
Claims (6)
- ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料を含有させた組成を有し、且つ、前記ダイヤモンド状炭素と前記イオン性結合材料とにより形成される相を主相として有し、前記イオン性結合材料が、酸化ハフニウムであり、数2で求められる酸化ハフニウムの含有量が47原子%以上90原子%未満であることを特徴とするダイヤモンド状炭素薄膜。
(数2)酸化ハフニウムの含有量(原子%)=(ハフニウム原子の数)/(炭素原子の数+ハフニウム原子の数)×100 - ダイヤモンド状炭素にイオン性結合材料を含有させた組成を有し、且つ、前記ダイヤモンド状炭素と前記イオン性結合材料とにより形成される相を主相として有し、前記イオン性結合材料は酸化アルミニウムであり、数3で求められる酸化アルミニウムの含有量が50原子%以上90原子%未満であることを特徴とするダイヤモンド状炭素薄膜。
(数3)酸化アルミニウムの含有量(原子%)=(アルニウム原子の数)/(炭素原子の数+アルニウム原子の数)×100 - 前記ダイヤモンド状炭素を包接格子とし、該ダイヤモンド状炭素に前記イオン性結合材料が包接されてなり、前記ダイヤモンド状炭素と前記イオン性結合材料とにより形成される相が包接化合物相であることを特徴とする請求項1又は2記載のダイヤモンド状炭素薄膜。
- 前記ダイヤモンド状炭素のネットワークを構成する寄与する元素が炭素であり、ケイ素原子を含まないことを特徴とする請求項1、2又は3記載のダイヤモンド状炭素薄膜。
- プラスチックフィルムの表面に、請求項1、2、3又は4に記載のダイヤモンド状炭素薄膜が形成されていることを特徴とするガスバリア性プラスチックフィルム。
- プラスチックボトルの内表面、外表面又はその両方に、請求項1、2、3又は4に記載のダイヤモンド状炭素薄膜が形成されていることを特徴とするガスバリア性プラスチックボトル。
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