JP4811032B2 - 反射型レプリカ光学素子 - Google Patents
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Description
2 離型材
3 樹脂
4 基板
5 アルミニウム膜
6 レプリカ回折格子
Claims (1)
- オリジナルの光学素子の形状を直接あるいはネガ・マスター光学素子を経由する刻印操作を介して別個の基板上の樹脂層に転写複製することによって製作される反射型レプリカ光学素子であって、前記樹脂層の入射面側に入射光の一部が透過する程度の厚みの金属反射層が更に形成され、前記樹脂層が光を吸収する物質を含有するものであることを特徴とする反射型レプリカ光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006020035A JP4811032B2 (ja) | 2006-01-30 | 2006-01-30 | 反射型レプリカ光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006020035A JP4811032B2 (ja) | 2006-01-30 | 2006-01-30 | 反射型レプリカ光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007199540A JP2007199540A (ja) | 2007-08-09 |
JP4811032B2 true JP4811032B2 (ja) | 2011-11-09 |
Family
ID=38454200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006020035A Expired - Fee Related JP4811032B2 (ja) | 2006-01-30 | 2006-01-30 | 反射型レプリカ光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4811032B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5205242B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2013-06-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光器の製造方法 |
JP5205241B2 (ja) | 2008-05-15 | 2013-06-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール |
JP5207938B2 (ja) | 2008-05-15 | 2013-06-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール及び分光モジュールの製造方法 |
JP2009300418A (ja) | 2008-05-15 | 2009-12-24 | Hamamatsu Photonics Kk | 分光モジュール |
JP5205243B2 (ja) | 2008-05-15 | 2013-06-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光器 |
JP5415060B2 (ja) | 2008-05-15 | 2014-02-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール |
JP5205238B2 (ja) | 2008-05-15 | 2013-06-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール |
JP5205240B2 (ja) | 2008-05-15 | 2013-06-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュールの製造方法及び分光モジュール |
JP5512961B2 (ja) | 2008-05-15 | 2014-06-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール及びその製造方法 |
JP5667894B2 (ja) * | 2011-01-21 | 2015-02-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 回折格子,キャピラリアレイ電気泳動装置,液体クロマトグラフ,分光光度計,生化学自動分析装置 |
CN103348270B (zh) | 2011-02-08 | 2016-08-17 | 浜松光子学株式会社 | 光学元件及其制造方法 |
DE102011015141A1 (de) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Bauelements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage und derartiges Bauelement |
JP6153305B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2017-06-28 | キヤノン株式会社 | エシェル型回折格子の製造方法 |
JP6234667B2 (ja) * | 2012-08-06 | 2017-11-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07104590B2 (ja) * | 1986-12-06 | 1995-11-13 | 株式会社クラレ | 透過率変調型フォトマスク、その製法及びそれを用いる回折格子の製法 |
JPH05124401A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-05-21 | Seiko Epson Corp | 機器の方向変換装置 |
JPH07261010A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子 |
JP2002350611A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Canon Inc | 高反射性銀鏡及び反射型光学部品 |
JP2004219995A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-08-05 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射鏡 |
JP2004247072A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-02 | Funai Electric Co Ltd | 面光源装置 |
-
2006
- 2006-01-30 JP JP2006020035A patent/JP4811032B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007199540A (ja) | 2007-08-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080324 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100427 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110506 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110726 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110808 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |