JP5303889B2 - レプリカ回折格子 - Google Patents
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Description
このレプリカ回折格子をマスター回折格子(ネガマスター回折格子)として上記した作業を繰り返すことにより、元のマスター回折格子と同じ形状の格子溝が転写された金属薄膜を有するレプリカ回折格子が得られる。
前記レプリカ基板に反転接着された前記金属膜の表面を当該金属膜よりも薄い補助膜で被覆したことを特徴とする。
石英ガラス等である平面ガラス基板にフォトレジスト層をコーティングし、ホログラフィック露光法などにより格子溝に相当するフォトレジストパターンを形成する。次に、そのレジストパターンをマスクとしてイオンビームエッチング等により溝断面形状が所定のブレーズ角度の鋸歯形状となるように格子溝を形成する。これにより、ネガマスター回折格子12の母型としてのマスター回折格子が完成する。
前記マスター回折格子は、例えばサイズが60mm×60mm×10mm、溝本数が1200本/mmであり、ブレーズ波長が500nm(ブレーズ角度が17.5度、溝深さが240nm)の断面鋸歯形状の格子溝を有している。
まず、マスター回折格子12の格子面に、離型剤として油拡散ポンプ油等による厚さ1nmの油膜13を形成し、その上に真空蒸着によって膜厚が0.5μm程度のアルミニウム膜14を形成する(図1(a)の状態)。このアルミニウム膜14が本発明の金属膜に相当する。
また、測定データは図示しないが、波長400nmの単色光を本実施例のレプリカ回折格子に入射させた場合も同様に、従来例よりも迷光レベルが低減することが確認された。
例えば、本発明のレプリカ回折格子は、図1に示すような平面状の格子面を有するいわゆる平面回折格子の他、曲面状の格子面を有するいわゆる凹面回折格子にも適用できる。
補助膜はアルミニウムの他、金やフッ化マグネシウム(MgF2)、二酸化珪素(SiO2)から構成することができる。また、補助膜は金属膜の反射率の低下を補う目的の他、金属膜の表面を保護する目的として用いてもよい。更に、補助膜は省略しても良い。
本発明のレプリカ回折格子は、平面上の格子面を有するいわゆる平面回折格子の他、曲面状の格子面を有するいわゆる凹面回折格子にも同様に適用することができる。
12・・・マスター回折格子
13・・・油膜(剥離剤)
14・・・アルミニウム膜(金属膜)
15・・・フロートガラス基板(レプリカ基板)
16・・・接着剤
22・・・補助金属膜
Claims (1)
- アスペクト比が0.288以上のマスター回折格子を母型とし、前記マスター回折格子の格子溝の表面に金属膜を形成し、該金属膜とレプリカ基板とを接着剤を介して密着させた後に該レプリカ基板をマスター回折格子から剥離させ、前記金属膜を前記レプリカ基板に反転接着させることで格子面が形成されてなるレプリカ回折格子において、
前記金属膜の厚みを前記格子溝の深さよりも大きくし、
前記レプリカ基板に反転接着された前記金属膜の表面を当該金属膜よりも薄い補助膜で被覆したことを特徴とするレプリカ回折格子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007260112A JP5303889B2 (ja) | 2007-10-03 | 2007-10-03 | レプリカ回折格子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007260112A JP5303889B2 (ja) | 2007-10-03 | 2007-10-03 | レプリカ回折格子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009092687A JP2009092687A (ja) | 2009-04-30 |
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ID=40664786
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007260112A Active JP5303889B2 (ja) | 2007-10-03 | 2007-10-03 | レプリカ回折格子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5303889B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3056929B1 (en) | 2013-10-07 | 2019-09-18 | Shimadzu Corporation | Blazed diffraction grating and method for manufacturing blazed diffraction grating |
JP6414620B2 (ja) * | 2017-08-23 | 2018-10-31 | 株式会社島津製作所 | ブレーズド回折格子およびブレーズド回折格子の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3307031B2 (ja) * | 1993-11-18 | 2002-07-24 | 株式会社島津製作所 | レプリカ回折格子 |
US6511703B2 (en) * | 1997-09-29 | 2003-01-28 | Cymer, Inc. | Protective overcoat for replicated diffraction gratings |
JP2006084885A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子の製造方法 |
JP5066815B2 (ja) * | 2006-03-03 | 2012-11-07 | 株式会社島津製作所 | 反射型回折格子 |
-
2007
- 2007-10-03 JP JP2007260112A patent/JP5303889B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009092687A (ja) | 2009-04-30 |
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