JP4801249B2 - 半導体装置の作製方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は絶縁表面を有する基板上に薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと記す）で構成された回路を有する半導体装置およびその作製方法に関する。特に本発明は、画素部と駆動回路を同一の基板上に設けた液晶表示装置またはＥＬ表示装置に代表される電気光学装置、およびそのような電気光学装置を搭載した電子機器に好適に利用できる技術を提供する。尚、本明細書において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能する装置全般を指し、上記電気光学装置およびその電気光学装置を搭載した機器をその範疇に含んでいる。
【０００２】
【従来の技術】
能動素子を配列して画素部を構成した表示装置はアクティブマトリクス型表示装置と呼ばれ、液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと記す）表示装置などが開発されている。能動素子には絶縁ゲート型のトランジスタが用いられ、好適にはＴＦＴが用いられている。ＴＦＴはガラスなどの基板上に気相成長法などにより半導体膜を形成し、その半導体膜でチャネル形成領域やソース領域やドレイン領域などを形成している。その半導体膜にはシリコンや、シリコン・ゲルマニウムなどシリコンを主成分とする材料が好適に用いられている。半導体膜はその作製法により、非晶質シリコンに代表される非晶質半導体膜と、多結晶シリコンに代表される結晶質半導体膜とに分類することができる。その他に近年では単結晶シリコン基板に形成された絶縁ゲート型のトランジスタで画素部を構成する技術も開発されている。
【０００３】
非晶質半導体（代表的には非晶質シリコン）膜で活性層を形成したＴＦＴは、非晶質構造などに起因する電子物性的要因から、１０cm²/V・sec以上の電界効果移動度を得ることは殆ど不可能であった。そのため、アクティブマトリクス型の液晶表示装置では、画素部において液晶を駆動するためのスイッチング素子（このスイッチング素子をＴＦＴで形成したものを以下、画素ＴＦＴと記す）として使用することはできても、画像表示を行うための駆動回路を形成することは不可能である。従って、駆動回路はＴＡＢ（Tape Automated Bonding）方式やＣＯＧ（Chip on Glass）方式を使ってドライバＩＣなどを実装する技術が用いられている。
【０００４】
一方、結晶構造を含む半導体（以下、結晶質半導体と記す）膜（代表的には、結晶質シリコン、或いは多結晶シリコン）を活性層としたＴＦＴでは、高い電界効果移動度が得られることから各種の機能回路を形成して駆動させることが出来、同一のガラス基板上に画素ＴＦＴの他に駆動回路においてシフトレジスタ回路、レベルシフタ回路、バッファ回路、サンプリング回路などを実現することが可能となった。駆動回路は、ｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴとから成るＣＭＯＳ回路を基本として形成されている。このような駆動回路の実装技術が根拠となり、液晶表示装置において軽量化および薄型化を推進するためには、画素部の他に駆動回路を同一基板上に一体形成できる結晶質半導体層を活性層とするＴＦＴが適していると考えられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ＴＦＴの特性から比較すると結晶質半導体層で活性層を形成した方が優れているが、画素ＴＦＴの他に各種回路に対応したＴＦＴを作製するためには、その製造工程が複雑なものとなり工程数が増加してしまう問題がある。工程数の増加は製造コストの増加要因になるばかりか、製造歩留まりを低下させる原因となることは明らかである。
【０００６】
画素ＴＦＴと駆動回路のＴＦＴとでは、それらの回路の動作条件は必ずしも同一ではなく、そのことからＴＦＴに要求される特性も少なからず異なっている。ｎチャネル型ＴＦＴで形成される画素ＴＦＴは、スイッチング素子として液晶に電圧を印加して駆動させている。液晶は交流で駆動しているので、フレーム反転駆動と呼ばれる方式が多く採用されている。画素ＴＦＴは１フレーム期間の間、液晶層に蓄積した電荷を保持するためにオフ電流値（ＴＦＴがオフ動作時に流れるドレイン電流）を十分低くすることが要求されている。一方、駆動回路のバッファ回路などには高い駆動電圧が印加されるため、高電圧が印加されても壊れないように耐圧を高めておく必要がある。また電流駆動能力を高めるために、オン電流値（ＴＦＴがオン動作時に流れるドレイン電流）を十分確保する必要がある。
【０００７】
オフ電流値を低減するためのＴＦＴの構造として、低濃度ドレイン（ＬＤＤ：Lightly Doped Drain）構造が知られている。この構造はチャネル形成領域と、高濃度に不純物元素を添加して形成するソース領域またはドレイン領域との間に低濃度に不純物元素を添加した領域を設けたものであり、この領域をＬＤＤ領域と呼んでいる。また、ホットキャリアによるオン電流値の劣化を防ぐための手段として、ＬＤＤ領域をゲート絶縁膜を介してゲート電極と重ねて配置させた、いわゆるＧＯＬＤ（Gate-drain Overlapped LDD）構造がある。このような構造とすることで、ドレイン近傍の高電界が緩和されてホットキャリア注入を防ぎ、劣化現象の防止に有効であることが知られている。
【０００８】
しかし、画素ＴＦＴと、シフトレジスタ回路やバッファ回路などの駆動回路のＴＦＴとでは、そのバイアス状態も必ずしも同じではない。例えば、画素ＴＦＴにおいてはゲートに大きな逆バイアス（ｎチャネル型ＴＦＴでは負の電圧）が印加されるが、駆動回路のＴＦＴは基本的に逆バイアス状態で動作することはない。また、ＧＯＬＤ構造はオン電流値の劣化を防ぐ効果は高いが、単純にゲート電極と重ねて配置させるだけではオフ電流値が大きくなってしまう。一方、通常のＬＤＤ構造はオフ電流値を抑える効果は高いが、ドレイン近傍の電界を緩和してホットキャリア注入による劣化を防ぐ効果は低い。このような問題は、特に結晶質シリコンＴＦＴにおいて、その特性が向上し、またアクティブマトリクス型液晶表示装置に要求される性能が高まるほど顕在化してきている。従って、ＴＦＴの動作状態の違いを考慮して、かつ、上記ホットキャリア効果を防ぐには、ＬＤＤ領域の不純物濃度やその分布などを最適なものとする必要がある。
【０００９】
本発明はこのような問題点を解決するための技術であり、ＴＦＴを用いて作製するアクティブマトリクス型の表示装置に代表される半導体装置において、各種回路に配置されるＴＦＴの構造を、回路の機能に応じて適切なものとすることにより、半導体装置の動作特性および信頼性を向上させると共に、工程数を削減して製造コストの低減および歩留まりの向上を実現することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
製造コストの低減および歩留まりを実現するには、工程数を削減することが一つの手段として適用できる。具体的には、ＴＦＴの製造に要するフォトマスクの枚数を削減することが必要である。フォトマスクはフォトリソグラフィーの技術において、エッチング工程のマスクとするレジストパターンを基板上に形成するために用いる。このフォトマスクを１枚使用することは、その前後の工程において被膜の成膜およびエッチングなどの工程の他に、レジスト剥離、洗浄や乾燥工程などが付加され、フォトリソグラフィーの工程においても、レジスト塗布、プレベーク、露光、現像、ポストベークなどの煩雑な工程が行われることを意味する。
【００１１】
フォトマスク数を削減しても、各種回路に配置されるＴＦＴの構造をその回路の機能に応じて適切なものとする。具体的には、画素部に設けるスイッチング素子用のＴＦＴは、動作速度よりもオフ電流値を低減させることに重点を置いた構造が望ましい。そのような構造として、マルチゲート構造を採用する。一方、高速動作が要求される駆動回路に設けられるＴＦＴは、動作速度を高めることと、それと同時に顕著な問題となるホットキャリア注入による劣化を抑制することに重点を置いた構造が必要となる。その構造をＬＤＤ領域に工夫を加えて実現する。即ち、チャネル形成領域とドレイン領域との間に設けるＬＤＤ領域において、ドレイン領域に近づくにつれて徐々に導電型制御用の不純物元素の濃度が高くなるような濃度勾配を持たせることにより、ドレイン領域近傍の空乏層において電界が集中するのを緩和する効果を高めることができる。ＬＤＤ領域の一部はゲート電極と重ねるように設けても良い。
【００１２】
上記のような不純物元素の濃度勾配を有するＬＤＤ領域を形成するために、イオン化した導電型制御用の不純物元素を、電界で加速してゲート電極の一部とゲート絶縁膜（本発明では、ゲート電極と半導体層とに密接してその両者の間に設けられるゲート絶縁膜と該ゲート絶縁膜からその周辺の領域に延在する絶縁膜を含めてゲート絶縁膜と称する）を通過させて、半導体層にドーピングする方法を用いる。さらに、ゲート電極の形状をゲート電極の端部から内側に向かって徐々に厚さが増加するいわゆるテーパー形状とし、その厚さの変化を利用して半導体層にドーピングする不純物元素の濃度を制御する。即ち、ＴＦＴのチャネル長方向に向かって不純物元素濃度が徐々に変化するＬＤＤ領域を形成する。
【００１３】
具体的には、ゲート電極を形成する導電層に対して第１のエッチング処理を行い、所定の領域の導電層を除去して半導体層上の一部の領域にゲート絶縁膜が露出させる。このとき導電層は端部から内側に向かって徐々に厚さが増加するテーパー形状とする。そして、一導電型の不純物元素を添加する第１のドーピング処理を行い、第１の低濃度不純物領域の形成を行う。次いで、同様に第２のエッチング処理と、第２のドーピング処理を行い、第２の低濃度不純物領域の形成を行う。ＬＤＤ領域は第１と第２の低濃度不純物領域から形成される。この場合、第２のエッチング処理によってゲート電極の形状が確定し、第２のドーピング処理の条件を適当なものとすればＬＤＤ領域の一部をゲート電極と重ねて設けることができる。
【００１４】
このように、本発明はエッチング処理とドーピング処理を複数回繰り返して行い、ＬＤＤ領域を形成することに特徴がある。その結果、チャネル長方向に対して濃度の異なるＬＤＤ領域を複数個形成することができ、ＬＤＤ領域の不純物濃度を段階的または連続的に変化させることができる。
【００１５】
ゲート電極を形成する導電層は耐熱性導電性材料を用いることが好ましく、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）から選ばれた元素、または前記元素を成分とする化合物或いは合金から形成する。このような耐熱性導電性材料を高速でかつ精度良エッチングして、さらに端部をテーパー形状とするためには、高密度プラズマを用いたドライエッチング法を適用することが好ましい。高密度プラズマを得る手法にはマイクロ波や誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma：ＩＣＰ）を用いたエッチング装置が適している。特に、ＩＣＰエッチング装置はプラズマの制御が容易であり、基板の大面積化にも対応できる。
【００１６】
以上のように、本発明の構成は、半導体層と、該半導体層に接して形成された絶縁膜と、該絶縁膜の上にテーパー部を有するゲート電極とを有する半導体装置において、半導体層は、チャネル形成領域と、一導電型の不純物元素を含むソース領域またはドレイン領域を形成する第１の不純物領域と、該チャネル形成領域に接しＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域を有し、第２の不純物領域の一部はゲート電極と重ねて設けられ、該第２の不純物領域に含まれる一導電型の不純物元素の濃度は、チャネル形成領域から遠ざかるにつれて高くなることを特徴としている。
【００１７】
このような本発明の構成は、基板上にＴＦＴを形成した半導体装置に好適に用いることができる。ｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴを有する半導体装置においては、ｎチャネル型ＴＦＴの半導体層が、チャネル形成領域と、一導電型の不純物元素を含むソース領域またはドレイン領域を形成する第１の不純物領域と該チャネル形成領域に接しＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域を有し、第２の不純物領域の一部はゲート電極と重ねて設けられ、該第２の不純物領域に含まれる前記一導電型の不純物元素の濃度は、チャネル形成領域から遠ざかるにつれて高くなり、ｐチャネル型ＴＦＴの半導体層が、チャネル形成領域と、ソース領域またはドレイン領域を形成する第３の不純物領域と、該チャネル形成領域に接しＬＤＤ領域を形成する第４の不純物領域を有し、第３の不純物領域と第４の不純物領域とには、一導電型の不純物元素と一導電型とは逆の導電型の不純物元素を含むことを特徴としている。
【００１８】
画素部を有する半導体装置においては、各画素に設けられる少なくとも一つのＴＦＴの半導体層は、チャネル形成領域と、一導電型の不純物元素を含むソース領域またはドレイン領域を形成する第１の不純物領域と、該チャネル形成領域に接しＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域を有し、第２の不純物領域の一部はゲート電極と重ねて設けられ、該第２の不純物領域に含まれる前記一導電型の不純物元素の濃度は、チャネル形成領域から遠ざかるにつれて高くなることを特徴としている。
【００１９】
また、本発明の半導体装置の作製方法は、半導体層上に絶縁膜を形成する第１の工程と、絶縁膜上に導電層を形成する第２の工程と、導電層を選択的にエッチングして第１のテーパー形状を有する導電層を形成する第３の工程と、第３の工程の後に一導電型の不純物元素を半導体層にドーピングする第４の工程と、第１のテーパー形状を有する導電層を選択的にエッチングして第２のテーパー形状を有する導電層を形成する第５の工程と、第５の工程の後に一導電型の不純物元素を前記半導体層にドーピングする第６の工程とを有し、第６の工程でドーピングする一導電型の不純物元素の濃度は、第４の工程でドーピングする一導電型の不純物元素の濃度よりも低いことを特徴としている。
【００２０】
このような本発明の構成は、基板上にＴＦＴを形成した半導体装置の作製方法に好適に用いることができる。ｎチャネル型薄膜トランジスタとｐチャネル型薄膜トランジスタを有する半導体装置においては、それぞれの半導体層上に絶縁膜を形成する第１の工程と、絶縁膜上に導電層を形成する第２の工程と、導電層を選択的にエッチングして第１のテーパー形状を有する導電層を形成する第３の工程と、第３の工程の後に一導電型の不純物元素を半導体層にドーピングする第４の工程と、第１のテーパー形状を有する導電層を選択的にエッチングして第２のテーパー形状を有する導電層を形成する第５の工程と、第５の工程の後に一導電型の不純物元素を半導体層にドーピングする第６の工程と、第６の工程の後にｐチャネル型薄膜トランジスタの半導体層に一導電型とは逆の導電型の不純物元素をドーピングする第７の工程とを有し、第６の工程でドーピングする一導電型の不純物元素の濃度は、第４の工程でドーピングする一導電型の不純物元素の濃度よりも低いことを特徴としている。
【００２１】
画素部を有する半導体装置の作製方法においては、各画素に設けられるＴＦＴを形成する半導体層上に絶縁膜を形成する第１の工程と、絶縁膜上に導電層を形成する第２の工程と、導電層を選択的にエッチングして第１のテーパー形状を有する導電層を形成する第３の工程と、第３の工程の後に一導電型の不純物元素を半導体層にドーピングする第４の工程と、第１のテーパー形状を有する導電層を選択的にエッチングして第２のテーパー形状を有する導電層を形成する第５の工程と、第５の工程の後に一導電型の不純物元素を半導体層にドーピングする第６の工程とを有し、第６の工程でドーピングする一導電型の不純物元素の濃度は、第４の工程でドーピングする一導電型の不純物元素の濃度よりも低いことを特徴としている。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図１と図２を用いて説明する。図１（Ａ）において、基板１００１にはコーニング社の＃７０５９ガラスや＃１７３７ガラスなどに代表されるバリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板の他に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）など光学的異方性を有しないプラスチック基板を用いることができる。また、石英基板を用いても良い。ガラス基板を用いる場合には、ガラス歪み点よりも１０〜２０℃程度低い温度であらかじめ熱処理しておくとその後の工程で基板が変形することを防ぐことができる。
【００２３】
基板１００１のＴＦＴを形成する表面に、基板１００１からの不純物拡散を防ぐために、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜から成る下地膜１００２を１０〜２００nmの厚さで形成する。下地膜は前記絶縁膜の一層で形成しても良いし、複数の層で形成しても良い。
【００２４】
島状半導体層１００３は、非晶質構造を有する半導体膜をレーザーアニール法や熱アニール法、またはラピットサーマルアニール法（ＲＴＡ法）などで結晶化させた結晶質半導体膜から形成する。また、スパッタ法、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法などで形成した結晶質半導体膜から形成しても良い。或いは特開平７−１３０６５２号公報で開示された技術に従って、触媒元素を用いる結晶化法で結晶質半導体層１０３ｂを形成することもできる。結晶化の工程ではまず、非晶質半導体層が含有する水素を放出させておくことが好ましく、４００〜５００℃で１時間程度の熱処理を行い含有する水素量を５atomic％以下にしてから結晶化させると膜表面の荒れを防ぐことができるので良い。いずれにしても、このように形成した結晶質半導体膜を選択的にエッチングして所定の場所に島状半導体層１００３を形成する。
【００２５】
または、基板１００１上に単結晶シリコン層を形成したＳＯＩ（Silicon On Insulators）基板としても良い。ＳＯＩ基板にはその構造や作製方法によっていくつかの種類が知られているが、代表的には、ＳＩＭＯＸ（Separation by Implanted Oxygen）、ＥＬＴＲＡＮ（Epitaxial Layer Transfer：キャノン社の登録商標）基板、Smart-Cut（SOITEC社の登録商標）などを使用することができる。勿論、その他のＳＯＩ基板を使用することも可能である。
【００２６】
ゲート絶縁膜はプラズマＣＶＤ法、スパッタ法、減圧ＣＶＤ法などにより、膜厚を４０〜１５０nmとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜などから形成する。これを第１の形状のゲート絶縁膜１００４とする。そして、第１の形状のゲート絶縁膜１００４上にゲート電極を形成するための導電層１００５を形成する。この導電層１００５は耐熱性を有する導電性材料から形成することが望ましく、単層で形成しても良いが、必要に応じて二層あるいは三層といった複数の層から成る積層構造としても良い。例えば、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）から選ばれた元素、または前記元素を成分とする合金か、前記元素を組み合わせた合金膜で形成する。また、これらの元素の窒化物である窒化タングステン（ＷＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化モリブデン（ＭｏＮ）やシリサイド化物であるタングステンシリサイド、タンタルシリサイド、チタンシリサイド、モリブデンシリサイドなどとの積層構造を形成しても良い。そして、第１の形状のマスク１００６を形成する。第１の形状のマスク１００６はフォトリソグラフィーの技術を用いてレジスト材料で形成する。
【００２７】
そして図１（Ｂ）で示す第１のエッチング処理を行う。このエッチング処理はテーパーエッチングであり、導電層１００５を第１の形状のマスク１００６により端部にテーパー部が形成されるようにエッチング処理する。エッチング処理はドライエッチング法を用い、好適にはＩＣＰエッチング装置を用いて行う。エッチングガスにはＣＦ₄とＣｌ₂の混合ガスを用い、基板にバイアス電圧を印加して行い、少なくとも島状半導体層１００３上に第1のテーパー形状を有する導電層１００８を形成する。テーパー部の形状は、上記エッチングガスの混合比、エッチング時の圧力、基板側に印加するバイアス電圧によって変化させることができる。最もテーパー形状を制御できるのは基板側に印加するバイアス電圧である。
【００２８】
ドライエッチングでは、フッ素（Ｆ）や塩素（Ｃｌ）などの元素または該元素を含む分子の中性種やイオン種により行われる。通常、中性種によるエッチングが支配的であると等方性にエッチングが進み、テーパー形状は形成されにくくなる。基板側に正または負のバイアス電圧を印加することにより異方性のエッチングが成される。テーパー形状を形成するためのエッチングは、基板側にバイアス電圧を印加すると同時に、被膜とレジストとのエッチング速度の差（選択比とも呼び、被加工物のエッチング速度／レジストのエッチング速度で表す）をある一定の範囲の値として、レジストを同時にエッチングしながら行う。最初に形成するレジストの形状を適したものとすることにより、レジストの端部から徐々にエッチングされ、下地にある被膜にテーパー形状を形成することができる。第１の形状のマスク１００６の形状も変化し、第２の形状のマスク１００７が形成される。また、エッチングが進むと導電層１００５の下層にあるゲート絶縁膜１００４の表面が露呈され、ゲート絶縁膜も表面からある程度エッチングされて第２の形状のゲート絶縁膜１００９が形成される。
【００２９】
その後、レジスト１００９をマスクとして、第1のドーピング処理を行い、島状半導体層１００３に一導電型の不純物元素を添加する。ドーピング処理は不純物元素をイオン化し電界で加速して半導体層に注入するイオンドープ法やイオン注入法で行う。一導電型の不純物元素はゲート絶縁膜を通してその下の半導体層に添加する。一部の一導電型の不純物元素はテーパー形状が形成された第１のテーパー形状を有する導電層１００８の端部及びその近傍を通してその下の半導体層に添加することができる。
【００３０】
第１の不純物領域１０１１には一導電型の不純物元素の濃度が１×１０²⁰〜１×１０²¹atoms/cm³の濃度で含まれるようにする。また、第２の不純物領域（Ａ）１０１２は第１の不純物領域１０１１に比較して第２の形状のゲート絶縁膜１００９の厚さが増加する分半導体層に添加される不純物元素の濃度が低下し、第２の不純物領域（Ａ）１０１２内で必ずしも均一な濃度分布を取り得ないが、１×１０¹⁷〜１×１０²⁰atoms／cm³の濃度範囲で不純物元素が添加されるようにする。
【００３１】
図１（Ｂ）において点線で囲んだ領域１０１７の拡大図を図２（Ａ−１）に示す。また、図２（Ａ−２）は不純物元素の濃度分布を任意の単位量で模式的に表す図でありうる。不純物領域はゲート絶縁膜とゲート電極のテーパー部の下に形成される。不純物元素の濃度分布は線１０３０で示され、第１の不純物領域１０１１から遠ざかるにつれ減少する。この減少の割合は、イオンドープにおける加速電圧やドーズ量などの条件、テーパー部の角度θ１や第１の形状のゲート電極１００８の厚さにより異なってくる。
【００３２】
次に、図１（Ｃ）に示すように第２のエッチング処理を行う。第２のエッチング処理は異方性エッチングであり、第１の形状を有するゲート電極１００８のチャネル長方向の幅を短くするようにエッチングする。エッチングの方法は、第１のエッチング処理と同じでありＩＣＰエッチング装置を用いる。エッチングガスには同様にＣＦ₄とＣｌ₂の混合ガスを用い、基板側にバイアス電圧を印加して行い、第２のテーパー形状を有する導電層１０１５を形成する。第２のエッチング処理においても下地であるゲート絶縁膜の一部が表面からエッチングされることにより第２形状のゲート絶縁膜１０１６が形成される。図１（Ｃ）で点線で囲んだ領域１０１９の拡大図を図２（Ｂ−１）に示すが、第２のテーパー形状を有する導電層１０１５の端部にもテーパー部が形成されるものの、チャネル長方向の幅を短くすることに重点を置いたエッチングのためテーパー角θ２はθ１よりも大きくなる。
【００３３】
そして、レジスト１０１４をマスクとして、第２のドーピング処理を行い、島状半導体層１００３に一導電型の不純物元素を添加する。この場合、一部の不純物元素は第２のテーパー形状を有する導電層１０１５の端部及びその近傍を通してその下の半導体層に添加することができる。
【００３４】
第２のドーピング処理では、半導体層に１×１０¹⁶〜５×１０¹⁸atoms/cm³の濃度で一導電型の不純物元素が含まれるようにする。図２（Ｂ−２）にも示すように、この処理では第１のドーピング処理で形成された第１の不純物領域１０１１と第２の不純物領域（Ａ）１０１２にも重ねて一導電型の不純物元素が添加されるが、添加量が低いためその影響を無視することができる。新に形成される第２の不純物領域（Ｂ）１０１８には一導電型の不純物元素の濃度が１×１０¹⁶〜５×１０¹⁸atoms/cm³の濃度で含まれるようにする。第２の不純物領域（Ｂ）１０１８は第２のテーパー形状を有する導電層１０１６の厚さが増加する分半導体層に添加される不純物元素の濃度が低下し、第２の不純物領域（Ｂ）１０１８内で必ずしも均一な濃度分布を取り得ないが上記濃度範囲で不純物元素が含まれるようにする。
【００３５】
第２の不純物領域（Ｂ）１０１８は第２の形状のゲート絶縁膜１０１６と第２のテーパー形状を有する導電層１０１５のテーパー部の下に形成される。不純物元素の濃度分布は線１０３１で示され、第１の不純物領域１０１１から遠ざかるにつれ減少する。第２のテーパー形状を有する導電層１０１５はゲート電極として用いる。このように、ゲート電極の端部をテーパー形状として、テーパー部を通して不純物元素をドーピングすることにより、テーパー部の下に存在する半導体層中に、徐々に前記不純物元素の濃度が変化するような不純物領域を形成することができる。本発明はこのような不純物領域を積極的に活用する。このような不純物領域を形成することにより、ドレイン領域近傍に発生する高電界を緩和して、ホットキャリアの発生を防ぎ、ＴＦＴの劣化を防止することができる。
【００３６】
以上のようにして、島状半導体層１００３にソース領域またはドレイン領域となる第１の不純物領域、ゲート電極と重ならないＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ａ）、ゲート電極と一部が重なるＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ｂ）及びチャネル形成領域１０２３が形成される。その後、図１（Ｄ）に示すように、必要に応じて層間絶縁膜１０２０を形成しソース領域またはドレイン領域とコンタクトを形成する配線１０２１を形成しても良い。
【００３７】
【実施例】
[実施例１]
本発明の実施例を図３〜図５を用いて説明する。ここでは、画素部の画素ＴＦＴおよび保持容量と、画素部の周辺に設けられる駆動回路のＴＦＴを同時に作製する方法について工程に従って詳細に説明する。
【００３８】
図３（Ａ）において、基板１０１にはコーニング社の＃７０５９ガラスや＃１７３７ガラスなどに代表されるバリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板や石英基板などを用いる。ガラス基板を用いる場合には、ガラス歪み点よりも１０〜２０℃程度低い温度であらかじめ熱処理しておいても良い。そして、基板１０１のＴＦＴを形成する表面に、基板１０１からの不純物拡散を防ぐために、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜から成る下地膜１０２を形成する。例えば、プラズマＣＶＤ法でＳｉＨ₄、ＮＨ₃、Ｎ₂Ｏから作製される酸化窒化シリコン膜１０２ａを１０〜２００nm（好ましくは５０〜１００nm）、同様にＳｉＨ₄、Ｎ₂Ｏから作製される酸化窒化水素化シリコン膜１０２ｂを５０〜２００nm（好ましくは１００〜１５０nm）の厚さに積層形成する。ここでは下地膜１０２を２層構造として示したが、前記絶縁膜の単層膜または２層以上積層させて形成しても良い。
【００３９】
酸化窒化シリコン膜は平行平板型のプラズマＣＶＤ法を用いて形成する。酸化窒化シリコン膜１０２ａは、ＳｉＨ₄を１０SCCM、ＮＨ₃を１００SCCM、Ｎ₂Ｏを２０SCCMとして反応室に導入し、基板温度３２５℃、反応圧力４０Pa、放電電力密度０．４１W/cm²、放電周波数６０MHzとした。一方、酸化窒化水素化シリコン膜１０２ｂは、ＳｉＨ₄を５SCCM、Ｎ₂Ｏを１２０SCCM、Ｈ₂を１２５SCCMとして反応室に導入し、基板温度４００℃、反応圧力２０Pa、放電電力密度０．４１W/cm²、放電周波数６０MHzとした。これらの膜は、基板温度を変化させ、反応ガスの切り替えのみで連続して形成することができる。
【００４０】
このようにして作製した酸化窒化シリコン膜１０２ａは、密度が９．２８×１０²²/cm³であり、フッ化水素アンモニウム（ＮＨ₄ＨＦ₂）を７．１３％とフッ化アンモニウム（ＮＨ₄Ｆ）を１５．４％含む混合溶液（ステラケミファ社製、商品名ＬＡＬ５００）の２０℃におけるエッチング速度が約６３nm/minと遅く、緻密で硬い膜である。このような膜を下地膜に用いると、この上に形成する半導体層にガラス基板からのアルカリ金属元素が拡散するのを防ぐのに有効である。
【００４１】
次に、２５〜８０nm（好ましくは３０〜６０nm）の厚さで非晶質構造を有する半導体層１０３ａを、プラズマＣＶＤ法やスパッタ法などの方法で形成する。非晶質構造を有する半導体膜には、非晶質半導体層や微結晶半導体膜があり、非晶質シリコンゲルマニウム膜などの非晶質構造を有する化合物半導体膜を適用しても良い。プラズマＣＶＤ法で非晶質シリコン膜を形成する場合には、下地膜１０２と非晶質半導体層１０３ａとは両者を連続形成することも可能である。例えば、前述のように酸化窒化シリコン膜１０２ａと酸化窒化水素化シリコン膜１０２ｂをプラズマＣＶＤ法で連続して成膜後、反応ガスをＳｉＨ₄、Ｎ₂Ｏ、Ｈ₂からＳｉＨ₄とＨ₂或いはＳｉＨ₄のみに切り替えれば、一旦大気雰囲気に晒すことなく連続形成できる。その結果、酸化窒化水素化シリコン膜１０２ｂの表面の汚染を防ぐことが可能となり、作製するＴＦＴの特性バラツキやしきい値電圧の変動を低減させることができる。
【００４２】
そして、結晶化の工程を行い非晶質半導体層１０３ａから結晶質半導体層１０３ｂを作製する。その方法としてレーザーアニール法や熱アニール法（固相成長法）、またはラピットサーマルアニール法（ＲＴＡ法）を適用することができる。前述のようなガラス基板や耐熱性の劣るプラスチック基板を用いる場合には、特にレーザーアニール法を適用することが好ましい。ＲＴＡ法では、赤外線ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどを光源に用いる。或いは特開平７−１３０６５２号公報で開示された技術に従って、触媒元素を用いる結晶化法で結晶質半導体層１０３ｂを形成することもできる。結晶化の工程ではまず、非晶質半導体層が含有する水素を放出させておくことが好ましく、４００〜５００℃で１時間程度の熱処理を行い含有する水素量を５atomic％以下にしてから結晶化させると膜表面の荒れを防ぐことができるので良い。
【００４３】
また、プラズマＣＶＤ法で非晶質シリコン膜の形成工程において、反応ガスにＳｉＨ₄とアルゴン（Ａｒ）を用い、成膜時の基板温度を４００〜４５０℃として形成すると、非晶質シリコン膜の含有水素濃度を５atomic%以下にすることもできる。このような場合において水素を放出させるための熱処理は不要となる。
【００４４】
結晶化をレーザーアニール法にて行う場合には、パルス発振型または連続発光型のエキシマレーザーやアルゴンレーザーをその光源とする。パルス発振型のエキシマレーザーを用いる場合には、レーザー光を線状に加工してレーザーアニールを行う。レーザーアニール条件は実施者が適宣選択するものであるが、例えば、レーザーパルス発振周波数３０Ｈｚとし、レーザーエネルギー密度を１００〜５００mJ/cm²(代表的には３００〜４００mJ/cm²)とする。そして線状ビームを基板全面に渡って照射し、この時の線状ビームの重ね合わせ率（オーバーラップ率）を８０〜９８％として行う。このようにして図３（Ｂ）に示すように結晶質半導体層１０３ｂを得ることができる。
【００４５】
そして、結晶質半導体層１０３ｂ上に第１のフォトマスク（ＰＭ１）を用い、フォトリソグラフィーの技術を用いてレジストパターンを形成し、ドライエッチングによって結晶質半導体層を島状に分割し、図３（Ｃ）に示すように島状半導体層１０４〜１０８を形成する。結晶質シリコン膜のドライエッチングにはＣＦ₄とＯ₂の混合ガスを用いる。
【００４６】
このような島状半導体層に対し、ＴＦＴのしきい値電圧（Ｖth）を制御する目的でｐ型を付与する不純物元素を１×１０¹⁶〜５×１０¹⁷atoms/cm³程度の濃度で島状半導体層の全面に添加しても良い。半導体に対してｐ型を付与する不純物元素には、ホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）など周期律表第１３族の元素が知られている。その方法として、イオン注入法やイオンドープ法（或いはイオンシャワードーピング法）を用いることができるが、大面積基板を処理するにはイオンドープ法が適している。イオンドープ法ではジボラン（Ｂ₂Ｈ₆）をソースガスとして用いホウ素（Ｂ）を添加する。このような不純物元素の注入は必ずしも必要でなく省略しても差し支えないが、特にｎチャネル型ＴＦＴのしきい値電圧を所定の範囲内に収めるために好適に用いる手法である。
【００４７】
ゲート絶縁膜１０９はプラズマＣＶＤ法またはスパッタ法を用い、膜厚を４０〜１５０nmとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。本実施例では、１２０nmの厚さで酸化窒化シリコン膜から形成する。また、ＳｉＨ₄とＮ₂ＯにＯ₂を添加させて作製された酸化窒化シリコン膜は、膜中の固定電荷密度が低減されているのでこの用途に対して好ましい材料となる。また、ＳｉＨ₄とＮ₂ＯとＨ₂とから作製する酸化窒化シリコン膜はゲート絶縁膜との界面欠陥密度を低減できるので好ましい。勿論、ゲート絶縁膜はこのような酸化窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良い。例えば、酸化シリコン膜を用いる場合には、プラズマＣＶＤ法で、ＴＥＯＳ（Tetraethyl Ortho Silicate）とＯ₂とを混合し、反応圧力４０Pa、基板温度３００〜４００℃とし、高周波（１３．５６MHz）電力密度０．５〜０．８W/cm²で放電させて形成することができる。このようにして作製された酸化シリコン膜は、その後４００〜５００℃の熱アニールによりゲート絶縁膜として良好な特性を得ることができる。
【００４８】
そして、図３（Ｄ）に示すように、第１の形状のゲート絶縁膜１０９上にゲート電極を形成するための耐熱性導電層１１１を２００〜４００nm（好ましくは２５０〜３５０nm）の厚さで形成する。耐熱性導電層は単層で形成しても良いし、必要に応じて二層あるいは三層といった複数の層から成る積層構造としても良い。本明細書でいう耐熱性導電層にはＴａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏから選ばれた元素、または前記元素を成分とする合金か、前記元素を組み合わせた合金膜が含まれる。これらの耐熱性導電層はスパッタ法やＣＶＤ法で形成されるものであり、低抵抗化を図るために含有する不純物濃度を低減させることが好ましく、特に酸素濃度に関しては３０ｐｐｍ以下とすると良い。本実施例ではＷ膜を３００nmの厚さで形成する。Ｗ膜はＷをターゲットとしてスパッタ法で形成しても良いし、６フッ化タングステン（ＷＦ₆）を用いて熱ＣＶＤ法で形成することもできる。いずれにしてもゲート電極として使用するためには低抵抗化を図る必要があり、Ｗ膜の抵抗率は２０μΩｃｍ以下にすることが望ましい。Ｗ膜は結晶粒を大きくすることで低抵抗率化を図ることができるが、Ｗ中に酸素などの不純物元素が多い場合には結晶化が阻害され高抵抗化する。このことより、スパッタ法による場合、純度９９．９９９９％のＷターゲットを用い、さらに成膜時に気相中からの不純物の混入がないように十分配慮してＷ膜を形成することにより、抵抗率９〜２０μΩｃｍを実現することができる。
【００４９】
一方、耐熱性導電層１１１にＴａ膜を用いる場合には、同様にスパッタ法で形成することが可能である。Ｔａ膜はスパッタガスにＡｒを用いる。また、スパッタ時のガス中に適量のＸｅやＫｒを加えておくと、形成する膜の内部応力を緩和して膜の剥離を防止することができる。α相のＴａ膜の抵抗率は２０μΩcm程度でありゲート電極に使用することができるが、β相のＴａ膜の抵抗率は１８０μΩcm程度でありゲート電極とするには不向きであった。ＴａＮ膜はα相に近い結晶構造を持つので、Ｔａ膜の下地にＴａＮ膜を形成すればα相のＴａ膜が容易に得られる。また、図示しないが、耐熱性導電層１１１の下に２〜２０nm程度の厚さでリン（Ｐ）をドープしたシリコン膜を形成しておくことは有効である。これにより、その上に形成される導電膜の密着性向上と酸化防止を図ると同時に、耐熱性導電層１１１が微量に含有するアルカリ金属元素が第１の形状のゲート絶縁膜１０９に拡散するのを防ぐことができる。いずれにしても、耐熱性導電層１１１は抵抗率を１０〜５０μΩcmの範囲ですることが好ましい。
【００５０】
次に、第２のフォトマスク（ＰＭ２）を用い、フォトリソグラフィーの技術を使用してレジストによるマスク１１２〜１１７を形成する。そして、第１のエッチング処理を行う。本実施例ではＩＣＰエッチング装置を用い、エッチング用ガスにＣｌ₂とＣＦ₄を用い、１Paの圧力で３．２W/cm²のＲＦ（13.56MHz）電力を投入してプラズマを形成して行う。基板側（試料ステージ）にも２２４mW/cm²のＲＦ（13.56MHz）電力を投入し、これにより実質的に負の自己バイアス電圧が印加される。この条件でＷ膜のエッチング速度は約１００nm/minである。第１のエッチング処理はこのエッチング速度を基にＷ膜がちょうどエッチングされる時間を推定し、それよりもエッチング時間を２０％増加させた時間をエッチング時間とした。
【００５１】
第１のエッチング処理により第１のテーパー形状を有する導電層１１８〜１２３が形成される。図２（Ａ）で示すと同様にテーパー部の角度は１５〜３０°が形成される。残渣を残すことなくエッチングするためには、１０〜２０％程度の割合でエッチング時間を増加させるオーバーエッチングを施すものとする。Ｗ膜に対する酸化窒化シリコン膜（第１の形状のゲート絶縁膜１０９）の選択比は２〜４（代表的には３）であるので、オーバーエッチング処理により、酸化窒化シリコン膜が露出した面は２０〜５０nm程度エッチングされ第１のテーパー形状を有する導電層の端部近傍にテーパー形状が形成された第２の形状のゲート絶縁膜１３４が形成される。
【００５２】
そして、第１のドーピング処理を行い一導電型の不純物元素を島状半導体層に添加する。ここでは、ｎ型を付与する不純物元素添加の工程を行う。第１の形状の導電層を形成したマスク１１２〜１１７をそのまま残し、第１のテーパー形状を有する導電層１１８〜１２３をマスクとして自己整合的にｎ型を付与する不純物元素をイオンドープ法で添加する。ｎ型を付与する不純物元素をゲート電極の端部におけるテーパー部とゲート絶縁膜とを通して、その下に位置する半導体層に達するように添加するためにドーズ量を１×１０¹³〜５×１０¹⁴atoms/cm²とし、加速電圧を８０〜１６０ｋｅＶとして行う。ｎ型を付与する不純物元素として１５族に属する元素、典型的にはリン（Ｐ）または砒素（Ａｓ）を用いるが、ここではリン（Ｐ）を用いた。このようなイオンドープ法により第１の不純物領域１２４〜１２８には１×１０²⁰〜１×１０²¹atomic/cm³の濃度範囲でｎ型を付与する不純物元素が添加され、テーパー部の下方に形成される第２の不純物領域（Ａ）には同領域内で必ずしも均一ではないが１×１０¹⁷〜１×１０²⁰atomic/cm³の濃度範囲でｎ型を付与する不純物元素が添加される。
【００５３】
この工程において、第２の不純物領域（Ａ）１２９〜１３３において、少なくとも第１の形状の導電層１１８〜１２３と重なった部分に含まれるｎ型を付与する不純物元素の濃度変化は、テーパー部の膜厚変化を反映する。即ち、第２の不純物領域（Ａ）１２９〜１３３へ添加されるリン（Ｐ）の濃度は、第１の形状の導電層に重なる領域において、該導電層の端部から内側に向かって徐々に濃度が低くなる。これはテーパー部の膜厚の差によって、半導体層に達するリン（Ｐ）の濃度が変化するためであり、その濃度変化は図２（Ａ−２）で示した通りである。
【００５４】
次に、図４（Ｂ）に示すように第２のエッチング処理を行う。エッチング処理も同様にＩＣＰエッチング装置により行い、エッチングガスにＣＦ₄とＣｌ₂の混合ガスを用い、ＲＦ電力３．２W/cm²(13.56MHz)、バイアス電力４５mW/cm²(13.56MHz)、圧力１．０Ｐａでエッチングを行う。この条件で形成される第２の形状を有する導電層１４０〜１４５が形成される。その端部にはテーパー部が形成され、該端部から内側にむかって徐々に厚さが増加するテーパー形状となる。第１のエッチング処理と比較して基板側に印加するバイアス電力を低くした分等方性エッチングの割合が多くなり、テーパー部の角度は３０〜６０°となる。また、第２の形状のゲート絶縁膜１３４の表面が４０nm程度エッチングされ、新たに第３の形状のゲート絶縁膜１７０が形成される。
【００５５】
そして、第１のドーピング処理よりもドーズ量を下げ高加速電圧の条件でｎ型を付与する不純物元素をドーピングする。例えば、加速電圧を７０〜１２０ｋｅＶとし、１×１０¹³atoms/cm²のドーズ量で行い、第２の形状を有する導電層１４０〜１４５と重なる領域の不純物濃度を１×１０¹⁶〜１×１０¹⁸atoms/cm³となるようにする。このようにして、第２の不純物領域（Ｂ）１４６〜１５０を形成する。
【００５６】
ｐチャネル型ＴＦＴを形成する島状半導体層１０４、１０６に一導電型とは逆の導電型の不純物領域１５６、１５７を形成する。この場合も第２の形状の導電層１４０、１４２をマスクとしてｐ型を付与する不純物元素を添加し、自己整合的に不純物領域を形成する。このとき、ｎチャネル型ＴＦＴを形成する島状半導体層１０５、１０７、１０８は、第３のフォトマスク（ＰＭ３）を用いてレジストのマスク１５１〜１５３を形成し全面を被覆しておく。ここで形成される不純物領域１５６、１５７はジボラン（Ｂ₂Ｈ₆）を用いたイオンドープ法で形成する。不純物領域１５６、１５７のｐ型を付与する不純物元素の濃度は、２×１０²⁰〜２×１０²¹atoms/cm³となるようにする。
【００５７】
しかしながら、この不純物領域１５６、１５７は詳細にはｎ型を付与する不純物元素を含有する３つの領域に分けて見ることができる。第３の不純物領域１５６ａ、１５７ａは１×１０²⁰〜１×１０²¹atoms/cm³の濃度でｎ型を付与する不純物元素を含み、第４の不純物領域（Ａ）１５６ｂ、１５７ｂは１×１０¹⁷〜１×１０²⁰atoms／cm³の濃度でｎ型を付与する不純物元素を含み、第４の不純物領域（Ｂ）１５６ｃ、１５７ｃは１×１０¹⁶〜５×１０¹⁸atoms/cm³の濃度でｎ型を付与する不純物元素を含んでいる。しかし、これらの不純物領域１５６ｂ、１５６ｃ、１５７ｂ、１５７ｃのｐ型を付与する不純物元素の濃度を１×１０¹⁹atoms／cm³以上となるようにし、第３の不純物領域１５６ａ、１５７ａにおいては、ｐ型を付与する不純物元素の濃度を１．５から３倍となるようにすることにより、第３の不純物領域でｐチャネル型ＴＦＴのソース領域およびドレイン領域として機能するために何ら問題はな生じない。また、第４の不純物領域（Ｂ）１５６ｃ、１５７ｃは一部が第２のテーパー形状を有する導電層１４０または１４２と一部が重なって形成される。
【００５８】
その後、図５（Ａ）に示すように、ゲート電極およびゲート絶縁膜上から第１の層間絶縁膜１５８を形成する。第１の層間絶縁膜は酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜、またはこれらを組み合わせた積層膜で形成すれば良い。いずれにしても第１の層間絶縁膜１５８は無機絶縁物材料から形成する。第１の層間絶縁膜１５８の膜厚は１００〜２００nmとする。ここで、酸化シリコン膜を用いる場合には、プラズマＣＶＤ法でＴＥＯＳとＯ₂とを混合し、反応圧力４０Pa、基板温度３００〜４００℃とし、高周波（１３．５６MHz）電力密度０．５〜０．８W/cm²で放電させて形成することができる。また、酸化窒化シリコン膜を用いる場合には、プラズマＣＶＤ法でＳｉＨ₄、Ｎ₂Ｏ、ＮＨ₃から作製される酸化窒化シリコン膜、またはＳｉＨ₄、Ｎ₂Ｏから作製される酸化窒化シリコン膜で形成すれば良い。この場合の作製条件は反応圧力２０〜２００Pa、基板温度３００〜４００℃とし、高周波（６０MHz）電力密度０．１〜１．０W/cm²で形成することができる。また、ＳｉＨ₄、Ｎ₂Ｏ、Ｈ₂から作製される酸化窒化水素化シリコン膜を適用しても良い。窒化シリコン膜も同様にプラズマＣＶＤ法でＳｉＨ₄、ＮＨ₃から作製することが可能である。
【００５９】
そして、それぞれの濃度で添加されたｎ型またはｐ型を付与する不純物元素を活性化する工程を行う。この工程はファーネスアニール炉を用いる熱アニール法で行う。その他に、レーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール法（ＲＴＡ法）を適用することができる。熱アニール法では酸素濃度が１ｐｐｍ以下、好ましくは０．１ｐｐｍ以下の窒素雰囲気中で４００〜７００℃、代表的には５００〜６００℃で行うものであり、本実施例では５５０℃で４時間の熱処理を行った。また、基板１０１に耐熱温度が低いプラスチック基板を用いる場合にはレーザーアニール法を適用することが好ましい。
【００６０】
活性化の工程に続いて、雰囲気ガスを変化させ、３〜１００％の水素を含む雰囲気中で、３００〜４５０℃で１〜１２時間の熱処理を行い、島状半導体層を水素化する工程を行う。この工程は熱的に励起された水素により島状半導体層にある１０¹⁶〜１０¹⁸/cm³のダングリングボンドを終端する工程である。水素化の他の手段として、プラズマ水素化（プラズマにより励起された水素を用いる）を行っても良い。いずれにしても、島状半導体層１０４〜１０８中の欠陥密度を１０¹⁶/cm³以下とすることが望ましく、そのために水素を０．０１〜０．１atomic％程度付与すれば良い。
【００６１】
このように、第２の層間絶縁膜を有機絶縁物材料で形成することにより、表面を良好に平坦化させることができる。また、有機樹脂材料は一般に誘電率が低いので、寄生容量を低減することができる。しかし、吸湿性があり保護膜としては適さないので、本実施例のように、第１の層間絶縁膜１５８として形成した酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜などと組み合わせて用いると良い。
【００６２】
その後、第４のフォトマスク（ＰＭ４）を用い、所定のパターンのレジストマスクを形成し、それぞれの島状半導体層に形成されソース領域またはドレイン領域とする不純物領域に達するコンタクトホールを形成する。コンタクトホールはドライエッチング法で形成する。この場合、エッチングガスにＣＦ₄、Ｏ₂、Ｈｅの混合ガスを用い有機樹脂材料から成る第２の層間絶縁膜１５９をまずエッチングし、その後、続いてエッチングガスをＣＦ₄、Ｏ₂として第１の層間絶縁膜１５８をエッチングする。さらに、島状半導体層との選択比を高めるために、エッチングガスをＣＨＦ₃に切り替えて第３の形状のゲート絶縁膜１７０をエッチングすることによりコンタクトホールを形成することができる。
【００６３】
そして、導電性の金属膜をスパッタ法や真空蒸着法で形成し、第５のフォトマスク（ＰＭ５）によりレジストマスクパターンを形成し、エッチングによってソース線１６０〜１６４とドレイン線１６５〜１６８を形成する。画素電極１６９はドレイン線と一緒に形成される。画素電極１７１は隣の画素に帰属する画素電極を表している。図示していないが、本実施例ではこの配線を、Ｔｉ膜を５０〜１５０nmの厚さで形成し、島状半導体層のソースまたはドレイン領域を形成する不純物領域とコンタクトを形成し、そのＴｉ膜上に重ねてアルミニウム（Ａｌ）を３００〜４００nmの厚さで形成（図５（Ｃ）において１６０ａ〜１６９ａで示す）し、さらにその上に透明導電膜を８０〜１２０nmの厚さで形成（図５（Ｃ）において１６０ｂ〜１６９ｂで示す）した。透明導電膜には酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ₂Ｏ₃―ＺｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）も適した材料であり、さらに可視光の透過率や導電率を高めるためにガリウム（Ｇａ）を添加した酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ｇａ）などを好適に用いることができる。
【００６４】
こうして５枚のフォトマスクにより、同一の基板上に、駆動回路のＴＦＴと画素部の画素ＴＦＴとを有した基板を完成させることができる。駆動回路には第１のｐチャネル型ＴＦＴ２００、第１のｎチャネル型ＴＦＴ２０１、第２のｐチャネル型ＴＦＴ２０２、第２のｎチャネル型ＴＦＴ２０３、画素部には画素ＴＦＴ２０４、保持容量２０５が形成されている。本明細書では便宜上このような基板をアクティブマトリクス基板と呼ぶ。
【００６５】
駆動回路の第１のｐチャネル型ＴＦＴ２００には、第２のテーパー形状を有する導電層がゲート電極２２０としての機能を有し、島状半導体層１０４にチャネル形成領域２０６、ソース領域またはドレイン領域として機能する第３の不純物領域２０７ａ、ゲート電極２２０と重ならないＬＤＤ領域を形成する第４の不純物領域（Ａ）２０７ｂ、一部がゲート電極２２０と重なるＬＤＤ領域を形成する第４の不純物領域（Ｂ）２０７ｃを有する構造となっている。
【００６６】
第１のｎチャネル型ＴＦＴ２０１には、第２のテーパー形状を有する導電層がゲート電極２２１としての機能を有し、島状半導体層１０５にチャネル形成領域２０８、ソース領域またはドレイン領域として機能する第１の不純物領域２０９ａ、ゲート電極２２１と重ならないＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ａ）２０９ｂ、一部がゲート電極２２１と重なるＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ｂ）２０９ｃを有する構造となっている。チャネル長２〜７μｍに対して、第２の不純物領域（Ｂ）２０９ｃがゲート電極２２１と重なる部分の長さは０．１〜０．３μｍとする。このＬovの長さはゲート電極２２１の厚さとテーパー部の角度から制御する。ｎチャネル型ＴＦＴにおいてこのようなＬＤＤ領域を形成することにより、ドレイン領域近傍に発生する高電界を緩和して、ホットキャリアの発生を防ぎ、ＴＦＴの劣化を防止することができる。
【００６７】
駆動回路の第２のｐチャネル型ＴＦＴ２０２は同様に、第２のテーパー形状を有する導電層がゲート電極２２２としての機能を有し、島状半導体層１０６にチャネル形成領域２１０、ソース領域またはドレイン領域として機能する第３の不純物領域２１１ａ、ゲート電極２２２と重ならないＬＤＤ領域を形成する第４の不純物領域（Ａ）２１１ｂ、一部がゲート電極２２２と重なるＬＤＤ領域を形成する第４の不純物領域（Ｂ）２１１ｃを有する構造となっている。
【００６８】
駆動回路の第２のｎチャネル型ＴＦＴ２０３には、第２のテーパー形状を有する導電層がゲート電極２２３としての機能を有し、島状半導体層１０７にチャネル形成領域２１２、ソース領域またはドレイン領域として機能する第１の不純物領域２１３ａ、ゲート電極２２３と重ならないＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ａ）２１３ｂ、一部がゲート電極２２３と重なるＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ｂ）２１３ｃを有する構造となっている。第２のｎチャネル型ＴＦＴ２０１と同様に第２の不純物領域（Ｂ）２１３ｃがゲート電極２２３と重なる部分の長さは０．１〜０．３μｍとする。
【００６９】
駆動回路はシフトレジスタ回路、バッファ回路などのロジック回路やアナログスイッチで形成されるサンプリング回路などで形成される。図５（Ｂ）ではこれらを形成するＴＦＴを一対のソース・ドレイン間に一つのゲート電極を設けたシングルゲートの構造で示したが、複数のゲート電極を一対のソース・ドレイン間に設けたマルチゲート構造としても差し支えない。
【００７０】
画素ＴＦＴ２０４には、第２のテーパー形状を有する導電層がゲート電極２２４としての機能を有し、島状半導体層１０８にチャネル形成領域２１４ａ、２１４ｂ、ソース領域またはドレイン領域として機能する第１の不純物領域２１５ａ、２１７、ゲート電極２２４と重ならないＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ａ）２１５ｂ、一部がゲート電極２２４と重なるＬＤＤ領域を形成する第２の不純物領域（Ｂ）２１５ｃを有する構造となっている。第２の不純物領域（Ｂ）２１３ｃがゲート電極２２４と重なる部分の長さは０．１〜０．３μｍとする。また、第１の不純物領域２１７から延在し、第２の不純物領域（Ａ）２１９ｂ、第２の不純物領域（Ｂ）２１９ｃ、導電型を決定する不純物元素が添加されていない領域２１８を有する半導体層と、第３の形状を有するゲート絶縁膜と同層で形成される絶縁層と、第２のテーパー形状を有する導電層から形成される容量配線２２５から保持容量が形成されている。
【００７１】
図１１は画素部のほぼ一画素分を示す上面図である。図中に示すＡ−Ａ'断面が図５（Ｂ）に示す画素部の断面図に対応している。画素ＴＦＴ２０４のゲート電極２２４は図示されていないゲート絶縁膜を介してその下の島状半導体層１０８と交差し、さらに複数の島状半導体層に跨って延在してゲート配線を兼ねている。図示はしていないが、島状半導体層には、図５（Ｂ）で説明したソース領域、ドレイン領域、ＬＤＤ領域が形成されている。また、２３０はソース配線１６４とソース領域２１５ａとのコンタクト部、２３１は画素電極１６９とドレイン領域２１７とのコンタクト部である。保持容量２０５は、画素ＴＦＴ２０４のドレイン領域２１７から延在する半導体層とゲート絶縁膜を介して容量配線２２５が重なる領域で形成されている。この構成において半導体層２１８には、価電子制御を目的とした不純物元素は添加されていない。
【００７２】
以上の様な構成は、画素ＴＦＴおよび駆動回路が要求する仕様に応じて各回路を構成するＴＦＴの構造を最適化し、半導体装置の動作性能と信頼性を向上させることを可能としている。さらにゲート電極を耐熱性を有する導電性材料で形成することによりＬＤＤ領域やソース領域およびドレイン領域の活性化を容易としている。さらに、ゲート電極にゲート絶縁膜を介して重なるＬＤＤ領域を形成する際に、導電型を制御する目的で添加した不純物元素に濃度勾配を持たせてＬＤＤ領域を形成することで、特にドレイン領域近傍における電界緩和効果が高まることが期待できる。
【００７３】
アクティブマトリクス型の液晶表示装置の場合、第１のｐチャネル型ＴＦＴ２００と第１のｎチャネル型ＴＦＴ２０１は高速動作を重視するシフトレジスタ回路、バッファ回路、レベルシフタ回路などを形成するのに用いる。図５（Ｂ）ではこれらの回路をロジック回路部として表している。第１のｎチャネル型ＴＦＴ２０１の第２の不純物領域（Ｂ）２０９ｃはホットキャリア対策を重視した構造となっている。さらに、耐圧を高め動作を安定化させるために、図９（Ａ）で示すようにこのロジック回路部のＴＦＴを第１のｐチャネル型ＴＦＴ２８０と第１のｎチャネル型ＴＦＴ２８１で形成しても良い。このＴＦＴは、一対のソース・ドレイン間に２つのゲート電極を設けたダブルゲート構造であり、このようなＴＦＴは本実施例の工程を用いて同様に作製できる。第１のｐチャネル型ＴＦＴ２８０には、島状半導体層にチャネル形成領域２３６ａ、２３６ｂ、ソースまたはドレイン領域として機能する第３の不純物領域２３８ａ、２３９ａ、２４０ａ、ＬＤＤ領域となる第４の不純物領域（Ａ）２３８ｂ、２３９ｂ、２４０ｂ及びゲート電極２３７と一部が重なりＬＤＤ領域となる第４の不純物領域（Ｂ）２３８ｃ、２３９ｃ、２４０ｃを有した構造となっている。第１のｎチャネル型ＴＦＴ２８１には、島状半導体層にチャネル形成領域２４１ａ、２４１ｂ、ソースまたはドレイン領域として機能する第１の不純物領域２４３ａ、２４４ａ、２４５ａとＬＤＤ領域となる第２の不純物領域（Ａ）２４３ｂ、２４４ｂ、２４５ｂ及びゲート電極２４２と一部が重なりＬＤＤ領域となる第２の不純物領域（Ｂ）２４３ｃ、２４４ｃ、２４５ｃを有している。チャネル長は３〜７μｍとして、ゲート電極と重なるＬＤＤ領域をＬovとしてそのチャネル長方向の長さは０．１〜０．３μｍとする。
【００７４】
また、アナログスイッチで構成するサンプリング回路には、同様な構成とした第２のｐチャネル型ＴＦＴ２０２と第２のｎチャネル型ＴＦＴ２０３を適用することができる。サンプリング回路はホットキャリア対策と低オフ電流動作が重視されるので、図９（Ｂ）で示すようにこの回路のＴＦＴを第２のｐチャネル型ＴＦＴ２８２と第２のｎチャネル型ＴＦＴ２８３で形成しても良い。この第２のｐチャネル型ＴＦＴ２８２は、一対のソース・ドレイン間に３つのゲート電極を設けたトリプルゲート構造であり、このようなＴＦＴは本実施例の工程を用いて同様に作製できる。第２のｐチャネル型ＴＦＴ２８２には、島状半導体層にチャネル形成領域２４６ａ、２４６ｂ、２４６ｃソースまたはドレイン領域として機能する第３の不純物領域２４９ａ、２５０ａ、２５１ａ、２５２ａ、ＬＤＤ領域となる第４の不純物領域（Ａ）２４９ｂ、２５０ｂ、２５１ｂ、２５２ｂ及びゲート電極２４７と一部が重なりＬＤＤ領域となる第４の不純物領域（Ｂ）２４９ｃ、２５０ｃ、２５１ｃ、２５２ｃを有した構造となっている。第２のｎチャネル型ＴＦＴ２８３には、島状半導体層にチャネル形成領域２５３ａ、２５３ｂ、ソースまたはドレイン領域として機能する第１の不純物領域２５５ａ、２５６ａ、２５７ａとＬＤＤ領域となる第２の不純物領域（Ａ）２５５ｂ、２５６ｂ、２５７ｂ及びゲート電極２５４と一部が重なりＬＤＤ領域となる第２の不純物領域（Ｂ）２５５ｃ、２５６ｃ、２５７ｃを有している。チャネル長は３〜７μｍとして、ゲート電極と重なるＬＤＤ領域をＬovとしてそのチャネル長方向の長さは０．１〜０．３μｍとする。
【００７５】
このように、ＴＦＴのゲート電極の構成をシングルゲート構造とするか、複数のゲート電極を一対のソース・ドレイン間に設けたマルチゲート構造とするかは、回路の特性に応じて実施者が適宣選択すれば良い。そして、本実施例で完成したアクティブマトリクス基板を用いることで反射型の液晶表示装置を作製することができる。
【００７６】
[実施例２]
実施例１ではゲート電極の材料にＷやＴａなどの耐熱性導電材料を用いる例を示した。このような材料を用いる理由は、ゲート電極形成後に導電型の制御を目的として半導体層に添加した不純物元素を４００〜７００℃の熱アニールによって活性化させる必要があり、その工程を実施する上でゲート電極に耐熱性を持たせる必要があるからである。しかしながら、このような耐熱性導電材料は面積抵抗で１０Ω程度あり、画面サイズが４インチクラスかそれ以上の表示装置には必ずしも適していない。ゲート電極に接続するゲート線を同じ材料で形成すると、基板上における引回し長さが必然的に大きくなり、配線抵抗の影響による配線遅延の問題を無視することができなくなる。
【００７７】
例えば、画素密度がＶＧＡの場合、４８０本のゲート配線と６４０本のソース線が形成され、ＸＧＡの場合には７６８本のゲート配線と１０２４本のソース配線が形成される。表示領域の画面サイズは、１３インチクラスの場合対角線の長さは３４０ｍｍとなり、１８インチクラスの場合には４６０ｍｍとなる。本実施例ではこのような液晶表示装置を実現する手段として、ゲート配線をＡｌや銅（Ｃｕ）などの低抵抗導電性材料で形成する方法について図６を用いて説明する。
【００７８】
まず、実施例１と同様にして図３（Ａ）〜図４（Ｃ）に示す工程を行う。そして導電型の制御を目的として、それぞれの島状半導体層に添加された不純物元素を活性化する工程を行う。この工程はファーネスアニール炉を用いる熱アニール法で行う。その他に、レーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール法（ＲＴＡ法）を適用することができる。熱アニール法では酸素濃度が１ｐｐｍ以下、好ましくは０．１ｐｐｍ以下の窒素雰囲気中で４００〜７００℃、代表的には５００〜６００℃で行うものであり、本実施例では５００℃で４時間の熱処理を行う。
【００７９】
この熱処理において、第２のテーパー形状を有する導電層１４０〜１４５は表面から５〜８０nmの厚さで導電層（Ｃ）１７２ａ〜１７２ｆが形成される。例えば、第２のテーパー形状を有する導電層がＷの場合には、窒化タングステンが形成され、Ｔａの場合には窒化タンタルが形成される。さらに、３〜１００％の水素を含む雰囲気中で、３００〜４５０℃で１〜１２時間の熱処理を行い、島状半導体層を水素化する工程を行う。この工程は熱的に励起された水素により半導体層のダングリングボンドを終端する工程である。水素化の他の手段として、プラズマ水素化（プラズマにより励起された水素を用いる）を行っても良い（図６（Ａ））。
【００８０】
活性化および水素化処理の後、ゲート線を低抵抗導電材料で形成する。低抵抗導電材料はＡｌやＣｕを主成分とするものであり、このような材料から形成される低抵抗導電層からゲート線を形成する。例えば、Ｔｉを０．１〜２重量％含むＡｌ膜を低抵抗導電層として全面に形成する（図示せず）。低抵抗導電層は２００〜４００nm（好ましくは２５０〜３５０nm）の厚さで形成する。そして、所定のレジストパターンを形成し、エッチング処理して、ゲート線１７３、１７４を形成する。このとき同じ材料で画素部に設ける保持容量と接続する容量線１７５も形成する。低抵抗導電層がＡｌを主成分とする材料である場合には、エッチング処理はリン酸系のエッチング溶液によるウエットエッチングで下地との選択加工性を保ってゲート線を形成することができる。第１の層間絶縁膜１７６は実施例１と同様にして形成する（図６（Ｂ））。
【００８１】
その後、実施例１と同様にして有機絶縁物材料から成る第２の層間絶縁膜１５９、ソース線１６０〜１６４、ドレイン線１６５〜１６８、画素電極１６９、１７１を形成してアクティブマトリクス基板を完成させることができる。図７（Ａ）、（Ｂ）はこの状態の上面図を示し、図７（Ａ）のＢ−Ｂ'断面および図７（Ｂ）のＣ−Ｃ'断面は図５（Ｃ）のＢ−Ｂ'およびＣ−Ｃ'に対応している。図７（Ａ）、（Ｂ）ではゲート絶縁膜、第１の層間絶縁膜、第２の層間絶縁膜を省略して示しているが、島状半導体層１０４、１０５、１０８の図示されていないソースおよびドレイン領域にソース線１６０、１６１、１６４とドレイン線１６５、１６６、及び画素電極１６９がコンタクトホールを介して接続している。また、図７（Ａ）のＤ−Ｄ'断面および図６（Ｂ）のＥ−Ｅ'断面を図８（Ａ）と（Ｂ）にそれぞれ示す。ゲート線１７３はゲート電極２２０と、またゲート線１７４はゲート電極２２５と島状半導体層１０４、１０８の外側で重なるように形成され、ゲート電極と低抵抗導電層とがコンタクトホールを介さずに接触して電気的に導通している。このようにゲート線を低抵抗導電材料で形成することにより、配線抵抗を十分低減できる。従って、画素部（画面サイズ）が４インチクラス以上の表示装置に適用することができる。
【００８２】
[実施例３]
実施例１で作製したアクティブマトリクス基板はそのまま反射型の表示装置に適用することができる。一方、透過型の液晶表示装置とする場合には画素部の各画素に設ける画素電極を透明電極で形成すれば良い。本実施例では透過型の液晶表示装置に対応するアクティブマトリクス基板の作製方法について図１０を用いて説明する。
【００８３】
アクティブマトリクス基板は実施例１と同様に作製する。図１０（Ａ）では、ソース配線とドレイン配線は導電性の金属膜をスパッタ法や真空蒸着法で形成する。ドレイン線２５６を例としてこの構成を図１０（Ｂ）で詳細に説明すると、Ｔｉ膜２５６ａを５０〜１５０nmの厚さで形成し、島状半導体層のソースまたはドレイン領域を形成する半導体膜とコンタクトを形成する。そのＴｉ膜２５６ａ上に重ねてＡｌ膜２５６ｂを３００〜４００nmの厚さで形成し、さらにＴｉ膜２５６ｃまたは窒化チタン（ＴｉＮ）膜を１００〜２００nmの厚さで形成して３層構造とする。その後、透明導電膜を全面に形成し、フォトマスクを用いたパターニング処理およびエッチング処理により画素電極２５７を形成する。画素電極２５７は、有機樹脂材料から成る第２の層間絶縁膜上に形成され、コンタクトホールを介さずに画素ＴＦＴ２０４のドレイン線２５６と重なる部分を設け電気的な接続を形成している。
【００８４】
図１０（Ｃ）では最初に第２の層間絶縁膜上に透明導電膜を形成し、パターニング処理およびエッチング処理をして画素電極２５８を形成した後、ドレイン線２５９を画素電極２５８とコンタクトホールを介さずに接続部を形成した例である。ドレイン線２５９は、図１０（Ｄ）で示すようにＴｉ膜２５９ａを５０〜１５０nmの厚さで形成し、島状半導体層のソースまたはドレイン領域を形成する半導体膜とコンタクトを形成し、そのＴｉ膜２５９ａ上に重ねてＡｌ膜２５９ｂを３００〜４００nmの厚さで形成して設ける。この構成にすると、画素電極２５８はドレイン配線２５９を形成するＴｉ膜２５９ａのみと接触することになる。その結果、透明導電膜材料とＡｌとが直接接し反応するのを確実に防止できる。
【００８５】
透明導電膜の材料は、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）や酸化インジウム酸化スズ合金（Ｉｎ₂Ｏ₃―ＳｎＯ₂；ＩＴＯ）などをスパッタ法や真空蒸着法などを用いて形成して用いることができる。このような材料のエッチング処理は塩酸系の溶液により行う。しかし、特にＩＴＯのエッチングは残渣が発生しやすいので、エッチング加工性を改善するために酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ₂Ｏ₃―ＺｎＯ）を用いても良い。酸化インジウム酸化亜鉛合金は表面平滑性に優れ、ＩＴＯに対して熱安定性にも優れているので、図２０（Ａ）、（Ｂ）の構成においてドレイン配線２５６の端面で、Ａｌ膜２５６ｂが画素電極２５７と接触して腐蝕反応をすることを防止できる。同様に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）も適した材料であり、さらに可視光の透過率や導電率を高めるためにガリウム（Ｇａ）を添加した酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ｇａ）などを用いることができる。
【００８６】
実施例１では反射型の液晶表示装置を作製できるアクティブマトリクス基板を５枚のフォトマスクにより作製したが、さらに１枚のフォトマスクの追加（合計６枚）で、透過型の液晶表示装置に対応したアクティブマトリクス基板を完成させることができる。本実施例では、実施例１と同様な工程として説明したが、このような構成は実施例２で示すアクティブマトリクス基板に適用することができる。
【００８７】
[実施例４]
本実施例では、実施例１〜実施例３で示したアクティブマトリクス基板のＴＦＴの活性層を形成する結晶質半導体層の他の作製方法について示す。結晶質半導体層は非晶質半導体層を熱アニール法やレーザーアニール法、またはＲＴＡ法などで結晶化させて形成するが、その他に特開平７−１３０６５２号公報で開示されている触媒元素を用いる結晶化法を適用することもできる。その場合の例を図１２を用いて説明する。
【００８８】
図１２（Ａ）で示すように、実施例１と同様にして、ガラス基板１１０１上に下地膜１１０２ａ、１１０２ｂ、非晶質構造を有する半導体層１１０３を２５〜８０nmの厚さで形成する。非晶質半導体層は非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）膜、非晶質シリコンゲルマニウム（ａ−ＳｉＧｅ）膜、非晶質炭化シリコン（ａ−ＳｉＣ）膜，非晶質シリコン・スズ（ａ−ＳｉＳｎ）膜などが適用できる。これらの非晶質半導体層は水素を０．１〜４０atomic%程度含有するようにして形成すると良い。例えば、非晶質シリコン膜を５５nmの厚さで形成する。そして、重量換算で１０ｐｐｍの触媒元素を含む水溶液をスピナーで基板を回転させて塗布するスピンコート法で触媒元素を含有する層１１０４を形成する。触媒元素にはニッケル（Ｎｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、鉄（Ｆｅ）、パラジウム（Ｐｄ）、スズ（Ｓｎ）、鉛（Ｐｂ）、コバルト（Ｃｏ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）などである。この触媒元素を含有する層１１０４は、スピンコート法の他に印刷法やスプレー法、バーコーター法、或いはスパッタ法や真空蒸着法によって上記触媒元素の層を１〜５nmの厚さに形成しても良い。
【００８９】
そして、図１２（Ｂ）に示す結晶化の工程では、まず４００〜５００℃で１時間程度の熱処理を行い、非晶質シリコン膜の含有水素量を５atomic％以下にする。非晶質シリコン膜の含有水素量が成膜後において最初からこの値である場合にはこの熱処理は必ずしも必要でない。そして、ファーネスアニール炉を用い、窒素雰囲気中で５５０〜６００℃で１〜８時間の熱アニールを行う。以上の工程により結晶質シリコン膜から成る結晶質半導体層１１０５を得ることができる（図１２（Ｃ））。しかし、この熱アニールによって作製された結晶質半導体層１１０５は、光学顕微鏡観察により巨視的に観察すると局所的に非晶質領域が残存していることが観察されることがあり、このような場合、同様にラマン分光法では４８０ｃｍ^-1にブロードなピークを持つ非晶質成分が観測される。そのため、熱アニールの後に実施例１で説明したレーザーアニール法で結晶質半導体層１１０５を処理してその結晶性を高めることは有効な手段として適用できる。
【００９０】
図１７は同様に触媒元素を用いる結晶化法の実施例であり、触媒元素を含有する層をスパッタ法により形成するものである。まず、実施例１と同様にして、ガラス基板１２０１上に下地膜１２０２ａ、１２０２ｂ、非晶質構造を有する半導体層１２０３を２５〜８０nmの厚さで形成する。そして、非晶質構造を有する半導体層１２０３の表面に０．５〜５nm程度の酸化膜（図示せず）を形成する。このような厚さの酸化膜は、プラズマＣＶＤ法やスパッタ法などで積極的に該当する被膜を形成しても良いが、１００〜３００℃に基板を加熱してプラズマ化した酸素雰囲気中に非晶質構造を有する半導体層１２０３の表面を晒しても良いし、過酸化水素水（Ｈ₂Ｏ₂）を含む溶液に非晶質構造を有する半導体層１２０３の表面を晒して形成しても良い。或いは、酸素を含む雰囲気中で紫外線光を照射してオゾンを発生させ、そのオゾン雰囲気中に非晶質構造を有する半導体層１２０３を晒すことによっても形成できる。
【００９１】
このようにして表面に薄い酸化膜を有する非晶質構造を有する半導体層１２０３上に前記触媒元素を含有する層１２０４をスパッタ法で形成する。この層の厚さに限定はないが、１０〜１００nm程度の厚さに形成すれば良い。例えば、Ｎｉをターゲットとして、Ｎｉ膜を形成することは有効な方法である。スパッタ法では、電界で加速された前記触媒元素から成る高エネルギー粒子の一部が基板側にも飛来し、非晶質構造を有する半導体層１２０３の表面近傍、または該半導体層表面に形成した酸化膜中に打ち込まれる。その割合はプラズマ生成条件や基板のバイアス状態によって異なるものであるが、好適には非晶質構造を有する半導体層１２０３の表面近傍や該酸化膜中に打ち込まれる触媒元素の量を１×１０¹¹〜１×１０¹⁴atoms/cm²程度となるようにすると良い。
【００９２】
その後、触媒元素を含有する層１２０４を選択的に除去する。例えば、この層がＮｉ膜で形成されている場合には、硝酸などの溶液で除去することが可能であり、または、フッ酸を含む水溶液で処理すればＮｉ膜と非晶質構造を有する半導体層１２０３上に形成した酸化膜を同時に除去できる。いずれにしても、非晶質構造を有する半導体層１２０３の表面近傍の触媒元素の量を１×１０¹¹〜１×１０¹⁴atoms/cm²程度となるようにしておく。そして、図１７（Ｂ）で示すように、図１２（Ｂ）と同様にして熱アニールによる結晶化の工程を行い、結晶質半導体層１２０５を得ることができる（図１７（Ｃ））。
【００９３】
図１２または図１７で作製された結晶質半導体層１１０５、１２０５から島状半導体層１０４〜１０８を作製すれば、実施例１と同様にしてアクティブマトリクス基板を完成させることができる。しかし、結晶化の工程においてシリコンの結晶化を助長する触媒元素を使用した場合、島状半導体層中には微量（１×１０¹⁷〜１×１０¹⁹atoms/cm³程度）の触媒元素が残留する。勿論、そのような状態でもＴＦＴを完成させることが可能であるが、残留する触媒元素を少なくともチャネル形成領域から除去する方がより好ましかった。この触媒元素を除去する手段の一つにリン（Ｐ）によるゲッタリング作用を利用する手段がある。
【００９４】
この目的におけるリン（Ｐ）によるゲッタリング処理は、図５（Ａ）で説明した活性化工程で同時に行うことができる。この様子を図１３で説明する。ゲッタリングに必要なリン（Ｐ）の濃度は高濃度ｎ型不純物領域の不純物濃度と同程度でよく、活性化工程の熱アニールにより、ｎチャネル型ＴＦＴおよびｐチャネル型ＴＦＴのチャネル形成領域から触媒元素をその濃度でリン（Ｐ）を含有する不純物領域へ偏析させることができる（図１３で示す矢印の方向）。その結果その不純物領域には１×１０¹⁷〜１×１０¹⁹atoms/cm³程度の触媒元素が偏析した。このようにして作製したＴＦＴはオフ電流値が下がり、結晶性が良いことから高い電界効果移動度が得られ、良好な特性を達成することができる。本実施例の構成は、実施例１〜３と組み合わせることができる。
【００９５】
[実施例５]
本実施例では実施例１で作製したアクティブマトリクス基板から、アクティブマトリクス型液晶表示装置を作製する工程を説明する。まず、図１４（Ａ）に示すように、図５（Ｂ）の状態のアクティブマトリクス基板に柱状スペーサから成るスペーサを形成する。スペーサは数μｍの粒子を散布して設ける方法でも良いが、ここでは基板全面に樹脂膜を形成した後これをパターニングして形成する方法を採用した。このようなスペーサの材料に限定はないが、例えば、ＪＳＲ社製のＮＮ７００を用い、スピナーで塗布した後、露光と現像処理によって所定のパターンに形成する。さらにクリーンオーブンなどで１５０〜２００℃で加熱して硬化させる。このようにして作製されるスペーサは露光と現像処理の条件によって形状を異ならせることができるが、好ましくは、スペーサの形状は柱状で頂部が平坦な形状となるようにすると、対向側の基板を合わせたときに液晶表示パネルとしての機械的な強度を確保することができる。形状は円錐状、角錐状など特別の限定はないが、例えば円錐状としたときに具体的には、高さを１．２〜５μｍとし、平均半径を５〜７μｍ、平均半径と底部の半径との比を１対１．５とする。このとき側面のテーパー角は±１５°以下とする。
【００９６】
スペーサの配置は任意に決定すれば良いが、好ましくは、図１４（Ａ）で示すように、画素部においては画素電極１６９のコンタクト部２３１と重ねてその部分を覆うように柱状スペーサ４０６を形成すると良い。コンタクト部２３１は平坦性が損なわれこの部分では液晶がうまく配向しなくなるので、このようにしてコンタクト部２３１にスペーサ用の樹脂を充填する形で柱状スペーサ４０６を形成することでディスクリネーションなどを防止することができる。また、駆動回路のＴＦＴ上にもスペーサ４０５ａ〜４０５ｅを形成しておく。このスペーサは駆動回路部の全面に渡って形成しても良いし、図１４で示すようにソース線およびドレイン線を覆うようにして設けても良い。
【００９７】
その後、配向膜４０７を形成する。通常液晶表示素子の配向膜にはポリイミド樹脂を用いる。配向膜を形成した後、ラビング処理を施して液晶分子がある一定のプレチルト角を持って配向するようにした。画素部に設けた柱状スペーサ４０６の端部からラビング方向に対してラビングされない領域が２μｍ以下となるようにした。また、ラビング処理では静電気の発生がしばしば問題となるが、駆動回路のＴＦＴ上に形成したスペーサ４０５ａ〜４０５ｅにより静電気からＴＦＴを保護する効果を得ることができる。また図では説明しないが、配向膜４０７を先に形成してから、スペーサ４０６、４０５ａ〜４０５ｅを形成した構成としても良い。
【００９８】
対向側の対向基板４０１には、遮光膜４０２、透明導電膜４０３および配向膜４０４を形成する。遮光膜４０２はＴｉ膜、Ｃｒ膜、Ａｌ膜などを１５０〜３００nmの厚さで形成する。そして、画素部と駆動回路が形成されたアクティブマトリクス基板と対向基板とをシール剤４０８で貼り合わせる。シール剤４０８にはフィラー（図示せず）が混入されていて、このフィラーとスペーサ４０６、４０５ａ〜４０５ｅによって均一な間隔を持って２枚の基板が貼り合わせられる。その後、両基板の間に液晶材料４０９を注入する。液晶材料には公知の液晶材料を用いれば良い。例えば、ＴＮ液晶の他に、電場に対して透過率が連続的に変化する電気光学応答性を示す、無しきい値反強誘電性混合液晶を用いることもできる。この無しきい値反強誘電性混合液晶には、Ｖ字型の電気光学応答特性を示すものもある。このようにして図１４（Ｂ）に示すアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成する。
【００９９】
図１５はこのようなアクティブマトリクス基板の上面図を示し、画素部および駆動回路部とスペーサおよびシール剤の位置関係を示す上面図である。実施例１で述べたガラス基板１０１上に画素部６０４の周辺に駆動回路として走査信号駆動回路６０５と画像信号駆動回路６０６が設けられている。さらに、その他ＣＰＵやメモリなどの信号処理回路６０７も付加されていても良い。そして、これらの駆動回路は接続配線６０３によって外部入出力端子６０２と接続されている。画素部６０４では走査信号駆動回路６０５から延在するゲート配線群６０８と画像信号駆動回路６０６から延在するソース配線群６０９がマトリクス状に交差して画素を形成し、各画素にはそれぞれ画素ＴＦＴ２０４と保持容量２０５が設けられている。
【０１００】
図１４において画素部において設けた柱状スペーサ４０６は、すべての画素に対して設けても良いが、図１５で示すようにマトリクス状に配列した画素の数個から数十個おきに設けても良い。即ち、画素部を構成する画素の全数に対するスペーサの数の割合は２０〜１００％とすることが可能である。また、駆動回路部に設けるスペーサ４０５ａ〜４０５ｅはその全面を覆うように設けても良いし各ＴＦＴのソースおよびドレイン配線の位置にあわせて設けても良い。図１５では駆動回路部に設けるスペーサの配置を６１０〜６１２で示す。そして、図１５示すシール剤６１９は、基板１０１上の画素部６０４および走査信号駆動回路６０５、画像信号駆動回路６０６、その他の信号処理回路６０７の外側であって、外部入出力端子６０２よりも内側に形成する。
【０１０１】
このようなアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を図１６の斜視図を用いて説明する。図１６においてアクティブマトリクス基板は、ガラス基板１０１上に形成された、画素部６０４と、走査信号駆動回路６０５と、画像信号駆動回路６０６とその他の信号処理回路６０７とで構成される。画素部６０４には画素ＴＦＴ２０４と保持容量２０５が設けられ、画素部の周辺に設けられる駆動回路はＣＭＯＳ回路を基本として構成されている。走査信号駆動回路６０５と画像信号駆動回路６０６からは、それぞれゲート線（ゲート電極と連続して形成されている場合は図５（Ｂ）の２２４に相当する）とソース線１６４が画素部６０４に延在し、画素ＴＦＴ２０４に接続している。また、フレキシブルプリント配線板（Flexible Printed Circuit：ＦＰＣ）６１３が外部入力端子６０２に接続していて画像信号などを入力するのに用いる。ＦＰＣ６１３は補強樹脂６１４によって強固に接着されている。そして接続配線６０３でそれぞれの駆動回路に接続している。また、対向基板４０１には図示していない、遮光膜や透明電極が設けられている。
【０１０２】
このような構成の液晶表示装置は、実施例１〜３で示したアクティブマトリクス基板を用いて形成することができる。実施例１で示すアクティブマトリクス基板を用いれば反射型の液晶表示装置が得られ、実施例３で示すアクティブマトリクス基板を用いると透過型の液晶表示装置を得ることができる。
【０１０３】
[実施例６]
図１８は実施例１〜３で示したアクティブマトリクス基板の回路構成の一例であり、直視型の表示装置の回路構成を示す図である。このアクティブマトリクス基板は、画像信号駆動回路６０６、走査信号駆動回路（Ａ）（Ｂ）６０５、画素部６０４を有している。尚、本明細書中において記した駆動回路とは、画像信号駆動回路６０６、走査信号駆動回路６０５を含めた総称である。
【０１０４】
画像信号駆動回路６０６は、シフトレジスタ回路５０１ａ、レベルシフタ回路５０２ａ、バッファ回路５０３ａ、サンプリング回路５０４を備えている。また、走査信号駆動回路（Ａ）（Ｂ）１８５は、シフトレジスタ回路５０１ｂ、レベルシフタ回路５０２ｂ、バッファ回路５０３ｂを備えている。
【０１０５】
シフトレジスタ回路５０１ａ、５０１ｂは駆動電圧が５〜１６Ｖ（代表的には１０Ｖ）であり、この回路を形成するＣＭＯＳ回路のＴＦＴは、図５（Ｂ）の第１のｐチャネル型ＴＦＴ２００と第１のｎチャネル型ＴＦＴ２０１で形成する。或いは、図９（Ａ）で示す第１のｐチャネル型ＴＦＴ２８０と第１のｎチャネル型ＴＦＴ２８１で形成しても良い。また、レベルシフタ回路５０２ａ、５０２ｂやバッファ回路５０３ａ、５０３ｂは駆動電圧が１４〜１６Ｖと高くなるので図９（Ａ）で示すようなマルチゲートのＴＦＴ構造とすることが望ましい。マルチゲート構造でＴＦＴを形成すると耐圧が高まり、回路の信頼性を向上させる上で有効である。
【０１０６】
サンプリング回路５０４はアナログスイッチから成り、駆動電圧が１４〜１６Ｖであるが、極性が交互に反転して駆動される上、オフ電流値を低減させる必要があるため、図５（Ｂ）で示す第２のｐチャネル型ＴＦＴ２０２と第２のｎチャネル型ＴＦＴ２０３で形成することが望ましい。或いは、オフ電流値を効果的に低減させるために図９（Ｂ）で示す第２のｐチャネル型ＴＦＴ２８２と第２のｎチャネル型ＴＦＴ２８３で形成しても良い。
【０１０７】
また、画素部は駆動電圧が１４〜１６Ｖであり、低消費電力化の観点からサンプリング回路よりもさらにオフ電流値を低減することが要求され、図５（Ｂ）で示す画素ＴＦＴ２０４のようにマルチゲート構造を基本とする。
【０１０８】
尚、本実例の構成は、実施例１〜３に示した工程に従ってＴＦＴを作製することによって容易に実現することができる。本実施例では、画素部と駆動回路の構成のみを示しているが、実施例１〜３の工程に従えば、その他にも信号分割回路、分周波回路、Ｄ／Ａコンバータ、γ補正回路、オペアンプ回路、さらにメモリ回路や演算処理回路などの信号処理回路、あるいは論理回路を同一基板上に形成することが可能である。このように、本発明は同一基板上に画素部とその駆動回路とを含む半導体装置、例えば信号制御回路および画素部を具備した液晶表示装置を実現することができる。
【０１０９】
[実施例７]
本実施例では、実施例５のアクティブマトリクス基板を用いてエレクトロルミネッセンス（ＥＬ：Electro Luminescence）材料を用いた自発光型の表示パネル（以下、ＥＬ表示装置と記す）を作製する例について説明する。図１９（Ａ）は本発明を用いたＥＬ表示パネルの上面図である。図１９（Ａ）において、１０は基板、１１は画素部、１２はソース側駆動回路、１３はゲート側駆動回路であり、それぞれの駆動回路は配線１４〜１６を経てＦＰＣ１７に至り、外部機器へと接続される。
【０１１０】
図１９（Ｂ）は図１９（Ａ）のＡ−Ａ'断面を表す図であり、このとき少なくとも画素部上、好ましくは駆動回路及び画素部上に対向板８０を設ける。対向板８０はシール材１９でＴＦＴとＥＬ層が形成されているアクティブマトリクス基板と貼り合わされている。シール剤１９にはフィラー（図示せず）が混入されていて、このフィラーによりほぼ均一な間隔を持って２枚の基板が貼り合わせられている。さらに、シール材１９の外側とＦＰＣ１７の上面及び周辺は封止剤８１で密封する構造とする。封止剤８１はシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ブチルゴムなどの材料を用いる。
【０１１１】
このように、シール剤１９によりアクティブマトリクス基板１０と対向基板８０とが貼り合わされると、その間には空間が形成される。その空間には充填剤８３が充填される。この充填剤８３は対向板８０を接着する効果も合わせ持つ。充填剤８３はＰＶＣ（ポリビニルクロライド）、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）またはＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）などを用いることができる。また、ＥＬ層は水分をはじめ湿気に弱く劣化しやすいので、この充填剤８３の内部に酸化バリウムなどの乾燥剤を混入させておくと吸湿効果を保持できるので望ましい。また、ＥＬ層上に窒化シリコン膜や酸化窒化シリコン膜などで形成するパッシベーション膜８２を形成し、充填剤８３に含まれるアルカリ元素などによる腐蝕を防ぐ構造としていある。
【０１１２】
対向板８０にはガラス板、アルミニウム板、ステンレス板、ＦＲＰ（Fiberglass-Reinforced Plastics）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、マイラーフィルム（デュポン社の商品名）、ポリエステルフィルム、アクリルフィルムまたはアクリル板などを用いることができる。また、数十μｍのアルミニウム箔をＰＶＦフィルムやマイラーフィルムで挟んだ構造のシートを用い、耐湿性を高めることもできる。このようにして、ＥＬ素子は密閉された状態となり外気から遮断されている。
【０１１３】
また、図１９（Ｂ）において基板１０、下地膜２１の上に駆動回路用ＴＦＴ（但し、ここではｎチャネル型ＴＦＴとｐチャネル型ＴＦＴを組み合わせたＣＭＯＳ回路を図示している。）２２及び画素部用ＴＦＴ２３（但し、ここではＥＬ素子への電流を制御するＴＦＴだけ図示している。）が形成されている。これらのＴＦＴの内特にｎチャネル型ＴＦＴにははホットキャリア効果によるオン電流の低下や、Ｖthシフトやバイアスストレスによる特性低下を防ぐため、本実施形態で示す構成のＬＤＤ領域が設けられている。
【０１１４】
例えば、駆動回路用ＴＦＴ２２とし、図５（ｂ）に示すｐチャネル型ＴＦＴ２００、２０２とｎチャネル型ＴＦＴ２０１、２０３を用いれば良い。また、画素部用ＴＦＴ２３には図５（Ｂ）に示す画素ＴＦＴ２０４またはそれと同様な構造を有するｐチャネル型ＴＦＴを用いれば良い。
【０１１５】
図５（Ｂ）または図６（Ｂ）の状態のアクティブマトリクス基板からＥＬ表示装置を作製するには、ソース線、ドレイン線上に樹脂材料でなる層間絶縁膜（平坦化膜）２６を形成し、その上に画素部用ＴＦＴ２３のドレインと電気的に接続する透明導電膜でなる画素電極２７を形成する。透明導電膜としては、酸化インジウムと酸化スズとの化合物（ＩＴＯと呼ばれる）または酸化インジウムと酸化亜鉛との化合物を用いることができる。そして、画素電極２７を形成したら、絶縁膜２８を形成し、画素電極２７上に開口部を形成する。
【０１１６】
次に、ＥＬ層２９を形成する。ＥＬ層２９は公知のＥＬ材料（正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層または電子注入層）を自由に組み合わせて積層構造または単層構造とすれば良い。どのような構造とするかは公知の技術を用いれば良い。また、ＥＬ材料には低分子系材料と高分子系（ポリマー系）材料がある。低分子系材料を用いる場合は蒸着法を用いるが、高分子系材料を用いる場合には、スピンコート法、印刷法またはインクジェット法等の簡易な方法を用いることが可能である。
【０１１７】
ＥＬ層はシャドーマスクを用いて蒸着法、またはインクジェット法、ディスペンサー法などで形成する。いずれにしても、画素毎に波長の異なる発光が可能な発光層（赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層）を形成することで、カラー表示が可能となる。その他にも、色変換層（ＣＣＭ）とカラーフィルターを組み合わせた方式、白色発光層とカラーフィルターを組み合わせた方式があるがいずれの方法を用いても良い。勿論、単色発光のＥＬ表示装置とすることもできる。
【０１１８】
ＥＬ層２９を形成したら、その上に陰極３０を形成する。陰極３０とＥＬ層２９の界面に存在する水分や酸素は極力排除しておくことが望ましい。従って、真空中でＥＬ層２９と陰極３０を連続して形成するか、ＥＬ層２９を不活性雰囲気で形成し、大気解放しないで真空中で陰極３０を形成するといった工夫が必要である。本実施例ではマルチチャンバー方式（クラスターツール方式）の成膜装置を用いることで上述のような成膜を可能とする。
【０１１９】
なお、本実施例では陰極３０として、ＬｉＦ（フッ化リチウム）膜とＡｌ（アルミニウム）膜の積層構造を用いる。具体的にはＥＬ層２９上に蒸着法で１nm厚のＬｉＦ（フッ化リチウム）膜を形成し、その上に３００nm厚のアルミニウム膜を形成する。勿論、公知の陰極材料であるＭｇＡｇ電極を用いても良い。そして陰極３０は３１で示される領域において配線１６に接続される。配線１６は陰極３０に所定の電圧を与えるための電源供給線であり、異方性導電性ペースト材料３２を介してＦＰＣ１７に接続される。ＦＰＣ１７上にはさらに樹脂層８０が形成され、この部分の接着強度を高めている。
【０１２０】
３１に示された領域において陰極３０と配線１６とを電気的に接続するために、層間絶縁膜２６及び絶縁膜２８にコンタクトホールを形成する必要がある。これらは層間絶縁膜２６のエッチング時（画素電極用コンタクトホールの形成時）や絶縁膜２８のエッチング時（ＥＬ層形成前の開口部の形成時）に形成しておけば良い。また、絶縁膜２８をエッチングする際に、層間絶縁膜２６まで一括でエッチングしても良い。この場合、層間絶縁膜２６と絶縁膜２８が同じ樹脂材料であれば、コンタクトホールの形状を良好なものとすることができる。
【０１２１】
また、配線１６はシール１９と基板１０との間を隙間（但し封止剤８１で塞がれている。）を通ってＦＰＣ１７に電気的に接続される。なお、ここでは配線１６について説明したが、他の配線１４、１５も同様にしてシーリング材１８の下を通ってＦＰＣ１７に電気的に接続される。
【０１２２】
ここで画素部のさらに詳細な断面構造を図２０に、上面構造を図２１（Ａ）に、回路図を図２１（Ｂ）に示す。図２０（Ａ）において、基板２４０１上に設けられたスイッチング用ＴＦＴ２４０２は実施例１の図５（Ｂ）の画素ＴＦＴ２０４と同じ構造で形成される。ダブルゲート構造とすることで実質的に二つのＴＦＴが直列された構造となり、オフ電流値を低減することができるという利点がある。なお、本実施例ではダブルゲート構造としているがトリプルゲート構造やそれ以上のゲート本数を持つマルチゲート構造でも良い。
【０１２３】
また、電流制御用ＴＦＴ２４０３は図５（Ｂ）で示すｎチャネル型ＴＦＴ２０１を用いて形成する。このとき、スイッチング用ＴＦＴ２４０２のドレイン線３５は配線３６によって電流制御用ＴＦＴのゲート電極３７に電気的に接続されている。また、３８で示される配線は、スイッチング用ＴＦＴ２４０２のゲート電極３９a、３９bを電気的に接続するゲート線である。
【０１２４】
このとき、電流制御用ＴＦＴ２４０３が本発明の構造であることは非常に重要な意味を持つ。電流制御用ＴＦＴはＥＬ素子を流れる電流量を制御するための素子であるため、多くの電流が流れ、熱による劣化やホットキャリアによる劣化の危険性が高い素子でもある。そのため、電流制御用ＴＦＴにゲート電極と一部が重なるＬＤＤ領域を設けることでＴＦＴの劣化を防ぎ、動作の安定性を高めることができる。
【０１２５】
また、本実施例では電流制御用ＴＦＴ２４０３をシングルゲート構造で図示しているが、複数のＴＦＴを直列につなげたマルチゲート構造としても良い。さらに、複数のＴＦＴを並列につなげて実質的にチャネル形成領域を複数に分割し、熱の放射を高い効率で行えるようにした構造としても良い。このような構造は熱による劣化対策として有効である。
【０１２６】
また、図２１（Ａ）に示すように、電流制御用ＴＦＴ２４０３のゲート電極３７となる配線は２４０４で示される領域で、電流制御用ＴＦＴ２４０３のドレイン線４０と絶縁膜を介して重なる。このとき、２４０４で示される領域ではコンデンサが形成される。このコンデンサ２４０４は電流制御用ＴＦＴ２４０３のゲートにかかる電圧を保持するためのコンデンサとして機能する。なお、ドレイン線４０は電流供給線（電源線）２５０１に接続され、常に一定の電圧が加えられている。
【０１２７】
スイッチング用ＴＦＴ２４０２及び電流制御用ＴＦＴ２４０３の上には第１パッシベーション膜４１が設けられ、その上に樹脂絶縁膜でなる平坦化膜４２が形成される。平坦化膜４２を用いてＴＦＴによる段差を平坦化することは非常に重要である。後に形成されるＥＬ層は非常に薄いため、段差が存在することによって発光不良を起こす場合がある。従って、ＥＬ層をできるだけ平坦面に形成しうるように画素電極を形成する前に平坦化しておくことが望ましい。
【０１２８】
また、４３は反射性の高い導電膜でなる画素電極（ＥＬ素子の陰極）であり、電流制御用ＴＦＴ２４０３のドレインに電気的に接続される。画素電極４３としてはアルミニウム合金膜、銅合金膜または銀合金膜など低抵抗な導電膜またはそれらの積層膜を用いることが好ましい。勿論、他の導電膜との積層構造としても良い。また、絶縁膜（好ましくは樹脂）で形成されたバンク４４a、４４bにより形成された溝（画素に相当する）の中に発光層４４が形成される。なお、ここでは一画素しか図示していないが、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に対応した発光層を作り分けても良い。発光層とする有機ＥＬ材料としてはπ共役ポリマー系材料を用いる。代表的なポリマー系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）系、ポリフルオレン系などが挙げられる。 なお、ＰＰＶ系有機ＥＬ材料としては様々な型のものがあるが、例えば「H. Shenk, H.Becker, O.Gelsen, E.Kluge, W.Kreuder and H.Spreitzer,“Polymers for Light Emitting Diodes”,Euro Display,Proceedings,1999,p.33-37」や特開平１０−９２５７６号公報に記載されたような材料を用いれば良い。
【０１２９】
具体的な発光層としては、赤色に発光する発光層にはシアノポリフェニレンビニレン、緑色に発光する発光層にはポリフェニレンビニレン、青色に発光する発光層にはポリフェニレンビニレン若しくはポリアルキルフェニレンを用いれば良い。膜厚は３０〜１５０nm（好ましくは４０〜１００nm）とすれば良い。但し、以上の例は発光層として用いることのできる有機ＥＬ材料の一例であって、これに限定する必要はまったくない。発光層、電荷輸送層または電荷注入層を自由に組み合わせてＥＬ層（発光及びそのためのキャリアの移動を行わせるための層）を形成すれば良い。例えば、本実施例ではポリマー系材料を発光層として用いる例を示したが、低分子系有機ＥＬ材料を用いても良い。また、電荷輸送層や電荷注入層として炭化珪素等の無機材料を用いることも可能である。これらの有機ＥＬ材料や無機材料は公知の材料を用いることができる。
【０１３０】
本実施例では発光層４５の上にＰＥＤＯＴ（ポリチオフェン）またはＰＡｎｉ（ポリアニリン）でなる正孔注入層４６を設けた積層構造のＥＬ層としている。そして、正孔注入層４６の上には透明導電膜でなる陽極４７が設けられる。本実施例の場合、発光層４５で生成された光は上面側に向かって（ＴＦＴの上方に向かって）放射されるため、陽極は透光性でなければならない。透明導電膜としては酸化インジウムと酸化スズとの化合物や酸化インジウムと酸化亜鉛との化合物を用いることができるが、耐熱性の低い発光層や正孔注入層を形成した後で形成するため、可能な限り低温で成膜できるものが好ましい。
【０１３１】
陽極４７まで形成された時点でＥＬ素子２４０５が完成する。なお、ここでいうＥＬ素子２４０５は、画素電極（陰極）４３、発光層４５、正孔注入層４６及び陽極４７で形成されたコンデンサを指す。図２２（Ａ）に示すように画素電極４３は画素の面積にほぼ一致するため、画素全体がＥＬ素子として機能する。従って、発光の利用効率が非常に高く、明るい画像表示が可能となる。
【０１３２】
ところで、本実施例では、陽極４７の上にさらに第２パッシベーション膜４８を設けている。第２パッシベーション膜４８としては窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜が好ましい。この目的は、外部とＥＬ素子とを遮断することであり、有機ＥＬ材料の酸化による劣化を防ぐ意味と、有機ＥＬ材料からの脱ガスを抑える意味との両方を併せ持つ。これによりＥＬ表示装置の信頼性が高められる。
【０１３３】
以上のように本願発明のＥＬ表示パネルは図２１のような構造の画素からなる画素部を有し、オフ電流値の十分に低いスイッチング用ＴＦＴと、ホットキャリア注入に強い電流制御用ＴＦＴとを有する。従って、高い信頼性を有し、且つ、良好な画像表示が可能なＥＬ表示パネルが得られる。
【０１３４】
図２０（Ｂ）はＥＬ層の構造を反転させた例を示す。電流制御用ＴＦＴ２６０１は図５（Ｂ）のｐチャネル型ＴＦＴ２００を用いて形成される。作製プロセスは実施例１を参照すれば良い。本実施例では、画素電極（陽極）５０として透明導電膜を用いる。具体的には酸化インジウムと酸化亜鉛との化合物でなる導電膜を用いる。勿論、酸化インジウムと酸化スズとの化合物でなる導電膜を用いても良い。
【０１３５】
そして、絶縁膜でなるバンク５１a、５１bが形成された後、溶液塗布によりポリビニルカルバゾールでなる発光層５２が形成される。その上にはカリウムアセチルアセトネート（ａｃａｃＫと表記される）でなる電子注入層５３、アルミニウム合金でなる陰極５４が形成される。この場合、陰極５４がパッシベーション膜としても機能する。こうしてＥＬ素子２６０２が形成される。本実施例の場合、発光層５３で発生した光は、矢印で示されるようにＴＦＴが形成された基板の方に向かって放射される。本実施例のような構造とする場合、電流制御用ＴＦＴ２６０１はｐチャネル型ＴＦＴで形成することが好ましい。
【０１３６】
尚、本実施例の構成は、実施例１〜２のＴＦＴの構成を自由に組み合わせて実施することが可能である。また、実施例９の電子機器の表示部として本実施例のＥＬ表示パネルを用いることは有効である。
【０１３７】
[実施例８]
本実施例では、図２１（Ｂ）に示した回路図とは異なる構造の画素とした場合の例について図２２に示す。なお、本実施例において、２７０１はスイッチング用ＴＦＴ２７０２のソース配線、２７０３はスイッチング用ＴＦＴ２７０２のゲート配線、２７０４は電流制御用ＴＦＴ、２７０５はコンデンサ、２７０６、２７０８は電流供給線、２７０７はＥＬ素子とする。
【０１３８】
図２２（Ａ）は、二つの画素間で電流供給線２７０６を共通とした場合の例である。即ち、二つの画素が電流供給線２７０６を中心に線対称となるように形成されている点に特徴がある。この場合、電源供給線の本数を減らすことができるため、画素部をさらに高精細化することができる。
【０１３９】
また、図２２（Ｂ）は、電流供給線２７０８をゲート配線２７０３と平行に設けた場合の例である。なお、図２２（Ｂ）では電流供給線２７０８とゲート配線２７０３とが重ならないように設けた構造となっているが、両者が異なる層に形成される配線であれば、絶縁膜を介して重なるように設けることもできる。この場合、電源供給線２７０８とゲート配線２７０３とで専有面積を共有させることができるため、画素部をさらに高精細化することができる。
【０１４０】
また、図２２（Ｃ）は、図２２（Ｂ）の構造と同様に電流供給線２７０８をゲート配線２７０３と平行に設け、さらに、二つの画素を電流供給線２７０８を中心に線対称となるように形成する点に特徴がある。また、電流供給線２７０８をゲート配線２７０３のいずれか一方と重なるように設けることも有効である。この場合、電源供給線の本数を減らすことができるため、画素部をさらに高精細化することができる。図２２（Ａ）、図２２（Ｂ）では電流制御用ＴＦＴ２４０４のゲートにかかる電圧を保持するためにコンデンサ２４０５を設ける構造としているが、コンデンサ２４０５を省略することも可能である。
【０１４１】
電流制御用ＴＦＴ２４０４として図２０（Ａ）に示すような本願発明のｎチャネル型ＴＦＴを用いているため、ゲート絶縁膜を介してゲート電極（と重なるように設けられたＬＤＤ領域を有している。この重なり合った領域には一般的にゲート容量と呼ばれる寄生容量が形成されるが、本実施例ではこの寄生容量をコンデンサ２４０５の代わりとして積極的に用いる点に特徴がある。この寄生容量のキャパシタンスは上記ゲート電極とＬＤＤ領域とが重なり合った面積で変化するため、その重なり合った領域に含まれるＬＤＤ領域の長さによって決まる。また、図２２（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の構造においても同様にコンデンサ２７０５を省略することは可能である。
【０１４２】
尚、本実施例の構成は、実施例１〜２のＴＦＴの構成を自由に組み合わせて実施することが可能である。また、実施例９の電子機器の表示部として本実施例のＥＬ表示パネルを用いることは有効である。
【０１４３】
[実施例９]
本実施例では、本発明のＴＦＴ回路によるアクティブマトリクス型液晶表示装置を組み込んだ半導体装置について図２３、図２４、図２５で説明する。
【０１４４】
このような半導体装置には、携帯情報端末（電子手帳、モバイルコンピュータ、携帯電話等）、ビデオカメラ、スチルカメラ、パーソナルコンピュータ、テレビ等が挙げられる。それらの一例を図２３と図２４に示す。
【０１４５】
図２３（Ａ）は携帯電話であり、本体９００１、音声出力部９００２、音声入力部９００３、表示装置９００４、操作スイッチ９００５、アンテナ９００６から構成されている。本願発明は音声出力部９００２、音声入力部９００３、及びアクティブマトリクス基板を備えた表示装置９００４に適用することができる。
【０１４６】
図２３（Ｂ）はビデオカメラであり、本体９１０１、表示装置９１０２、音声入力部９１０３、操作スイッチ９１０４、バッテリー９１０５、受像部９１０６から成っている。本願発明は音声入力部９１０３、及びアクティブマトリクス基板を備えた表示装置９１０２、受像部９１０６に適用することができる。
【０１４７】
図２３（Ｃ）はモバイルコンピュータ或いは携帯型情報端末であり、本体９２０１、カメラ部９２０２、受像部９２０３、操作スイッチ９２０４、表示装置９２０５で構成されている。本願発明は受像部９２０３、及びアクティブマトリクス基板を備えた表示装置９２０５に適用することができる。
【０１４８】
図２３（Ｄ）はヘッドマウントディスプレイであり、本体９３０１、表示装置９３０２、アーム部９３０３で構成される。本願発明は表示装置９３０２に適用することができる。また、表示されていないが、その他の信号制御用回路に使用することもできる。
【０１４９】
図２３（Ｅ）はリア型プロジェクターであり、本体９４０１、光源９４０２、表示装置９４０３、偏光ビームスプリッタ９４０４、リフレクター９４０５、９４０６、スクリーン９４０７で構成される。本発明は表示装置９４０３に適用することができる。
【０１５０】
図２３（Ｆ）は携帯書籍であり、本体９５０１、表示装置９５０２、９５０３、記憶媒体９５０４、操作スイッチ９５０５、アンテナ９５０６から構成されており、ミニディスク（ＭＤ）やＤＶＤに記憶されたデータや、アンテナで受信したデータを表示するものである。表示装置９５０２、９５０３は直視型の表示装置であり、本発明はこの適用することができる。
【０１５１】
図２４（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体９６０１、画像入力部９６０２、表示装置９６０３、キーボード９６０４で構成される。
【０１５２】
図２４（Ｂ）はプログラムを記録した記録媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤーであり、本体９７０１、表示装置９７０２、スピーカ部９７０３、記録媒体９７０４、操作スイッチ９７０５で構成される。なお、この装置は記録媒体としてＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。
【０１５３】
図２４（Ｃ）はデジタルカメラであり、本体９８０１、表示装置９８０２、接眼部９８０３、操作スイッチ９８０４、受像部（図示しない）で構成される。
【０１５４】
図２５（Ａ）はフロント型プロジェクターであり、表示装置３６０１、スクリーン３６０２で構成される。本発明は表示装置やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１５５】
図２５（Ｂ）はリア型プロジェクターであり、本体３７０１、投射装置３７０２、ミラー３７０３、スクリーン３７０４で構成される。本発明は表示装置やその他の信号制御回路に適用することができる。
【０１５６】
なお、図２５（Ｃ）は、図２５（Ａ）及び図２５（Ｂ）中における投射装置３６０１、３７０２の構造の一例を示した図である。投射装置３６０１、３７０２は、光源光学系３８０１、ミラー３８０２、３８０４〜３８０６、ダイクロイックミラー３８０３、プリズム３８０７、液晶表示装置３８０８、位相差板３８０９、投射光学系３８１０で構成される。投射光学系３８１０は、投射レンズを含む光学系で構成される。本実施例は三板式の例を示したが、特に限定されず、例えば単板式であってもよい。また、図２５（Ｃ）中において矢印で示した光路に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相差を調節するためのフィルム、ＩＲフィルム等の光学系を設けてもよい。
【０１５７】
また、図２５（Ｄ）は、図２５（Ｃ）中における光源光学系３８０１の構造の一例を示した図である。本実施例では、光源光学系３８０１は、リフレクター３８１１、光源３８１２、レンズアレイ３８１３、３８１４、偏光変換素子３８１５、集光レンズ３８１６で構成される。なお、図２５（Ｄ）に示した光源光学系は一例であって特に限定されない。例えば、光源光学系に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、位相差を調節するフィルム、ＩＲフィルム等の光学系を設けてもよい。
【０１５８】
また、本発明はその他にも、イメージセンサやＥＬ型表示素子に適用することも可能である。このように、本願発明の適用範囲はきわめて広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
【０１５９】
[実施例１０]
実施例１において示す第１のエッチング処理と第２のエッチング処理は、ゲート電極の形成を前提としてＷ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏから選ばれた元素、またはこれらの元素を組み合わせた合金から成る導電膜を対象とするものである。エッチングにおいては、対象とする導電膜のエッチング速度と、下地にある絶縁膜との選択比を特に考慮する必要がある。選択比が小さいと、選択加工が困難となり、所望のＴＦＴを形成することができなくなる。
【０１６０】
エッチング速度の評価は、ガラス基板上にＷ膜または酸化窒化シリコン膜を形成した試料を用いて行った。マスクを形成するレジストは１５００ｎｍの厚さに形成し、そのエッチング速度も評価した。エッチングはＩＣＰエッチング装置を用いて行い、エッチングガスとしてＣＦ₄とＣｌ₂の混合ガスを用いた場合（条件１）と、ＣＦ₄とＣｌ₂とＯ₂の混合ガスを用いた場合（条件２）について調べた。表１にその結果を示す。
【０１６１】
【表１】

【０１６２】
表２はエッチング時間に対する酸化窒化シリコン膜の膜厚の減少量を示す。エッチングは上記と同様に条件１と条件２を比較した。試料はガラス基板上に３０ｎｍのシリコン膜と２００ｎｍの酸化窒化シリコン膜を積層させたものを用いた。同様に、図２６にエッチング時間に対する膜厚の減少量のグラフを示す。
【０１６３】
【表２】

【０１６４】
表１と表２の結果において、エッチングガスにＯ₂が添加されている方がＷ膜のエッチング速度が速くなり、酸化窒化シリコン膜のエッチング速度は低下している。即ち、下地との選択比が向上していることを示している。Ｗ膜のエッチング速度が向上するのは、Ｏ2の添加によりフッ素ラジカルの量が多くなるためである。また、酸化窒化シリコン膜のエッチング速度が低下するのは、Ｏ2の添加によりレジストの成分である炭素が酸素と結合しＣＯ2が形成され、炭素の量が減少するので酸化窒化シリコン膜のエッチング速度が低下するものと考えることができる。
【０１６５】
エッチングにより加工される導電膜の形状は走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察した。評価した試料は、ガラス基板上に２００ｎｍの酸化窒化シリコン膜、４００ｎｍのＷ膜が形成されているものを用いた。第１のエッチング処理（テーパーエッチング）は、エッチング用ガスにＣｌ₂を３０SCCMとＣＦ₄を３０SCCM流し、１Paの圧力で３．２W/cm²のＲＦ（13.56MHz）電力を投入し、基板側（試料ステージ）にも２２４mW/cm²のＲＦ（13.56MHz）電力を投入して行った。図２７にこの条件でエッチング処理を行って得られる試料の断面形状をＳＥＭにより観察した結果を示している。Ｗ膜の端部に形成されるテーパー部の角度は約３０度となっている。
【０１６６】
その後、上記条件１と条件２により第２のエッチング処理（異方性エッチング）を行い比較評価した。図２８は条件１により処理された試料、また図２９は条件２により処理された試料をＳＥＭにより観察した結果を示す。図２８、図２９共に同じ形状が得られている。但し、ＣＦ₄とＣｌ₂の混合ガスにＯ₂を加えることによりＷ膜のエッチング速度並びにレジストのエッチング速度が向上するので、図２９に示す条件２で形成された試料の方が細くなっている。しかし、酸化窒化シリコン膜の膜厚の減少量から見ると、条件２の方が少なく選択加工する上で優れていると判断することができる。
【０１６７】
以上のような実験結果から、第１のエッチング処理と第２のエッチング処理において、エッチングガスとしてＣＦ₄とＣｌ₂とＯ₂の混合ガスを採用することができる。このようなエッチングガスを選択したとしても、テーパーエッチングとするか、異方性エッチングとするかは基板側に印加するバイアス電力の制御により行うことができる。
【０１６８】
実際のＴＦＴにおいてＬＤＤの設計は、Ｗ膜の膜厚と、第１のエッチング処理によるテーパー角θ１と、第２のエッチング処理によるレジストのエッチング量から見積もることができる。例えば、図２において、Ｗ膜の厚さが４００ｎｍである場合、第１のエッチング処理により形成されるテーバー部の角度θ１が３０度とすると、第２の不純物領域（Ａ）１０１２のチャネル長方向の長さは７００ｎｍとなる。第２のエッチング処理によるレジストの減少量は表２より９４ｎｍ／ｍｉｎであるのでそれを考慮すると８２５ｎｍのＬＤＤ(Ｌoff)が形成されると見積もることができる。実際には膜厚やエッチング速度に多少のばらつきがあるので、多少の増減はあるが、このようなエッチング処理により約１μmのＬＤＤを形成することができる。
【０１６９】
図３０は第１のエッチング処理として表２の条件を採用し、第２のエッチング処理として表２の条件を採用して作製されたＴＦＴのゲート電圧（Ｖｇ）対ドレイン電流（Ｉｄ）特性を示す。ＴＦＴの寸法はチャネル長７．５μm、チャネル幅８μmであり、ＬＤＤ（Ｌoff）は１μmが見積もられている。図３０はｎチャネル型ＴＦＴの特性を示し、ＬＤＤ（Ｌoff）によりゲート電圧−４．５Ｖ、ドレイン電圧１４Ｖの時のオフ電流は６．５ｐＡが得られている。
【０１７０】
【発明の効果】
本発明を用いることで、同一の基板上に複数の機能回路が形成された半導体装置（ここでは具体的には電気光学装置）において、その機能回路が要求する仕様に応じて適切な性能のＴＦＴを配置することが可能となり、その動作特性を大幅に向上させることができる。
【０１７１】
本発明の半導体装置の作製方法に従えば、駆動回路部のｐチャネル型ＴＦＴ、ｎチャネル型ＴＦＴおよび画素ＴＦＴをゲート電極と一部が重なるＬＤＤ構造としたアクティブマトリクス基板を５枚のフォトマスクで製造することができ、ＬＤＤ領域の一導電型の不純物元素の濃度を適したものとすることができる。このようなアクティブマトリクス基板から反射型の液晶表示装置を作製することができる。また、同工程に従えば透過型の液晶表示装置を６枚のフォトマスクで製造することができる。
【０１７２】
本発明の半導体装置の作製方法に従えば、ゲート電極を耐熱性導電性材料で形成し、ゲート配線を低抵抗導電性材料で形成したＴＦＴにおいて、駆動回路部のｐチャネル型ＴＦＴ、ｎチャネル型ＴＦＴおよび画素ＴＦＴをゲート電極と重なるＬＤＤ構造としたアクティブマトリクス基板を６枚のフォトマスクで製造することができ、このようなアクティブマトリクス基板から反射型の液晶表示装置を作製することができる。また、同工程に従えば、透過型の液晶表示装置を７枚のフォトマスクで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のＴＦＴの作製方法を説明する図。
【図２】 図１に対応したＬＤＤ領域の不純物元素の濃度分布を説明する図。
【図３】 画素ＴＦＴ、駆動回路のＴＦＴの作製工程を示す断面図。
【図４】 画素ＴＦＴ、駆動回路のＴＦＴの作製工程を示す断面図。
【図５】 画素ＴＦＴ、駆動回路のＴＦＴの作製工程を示す断面図。
【図６】 画素ＴＦＴ、駆動回路のＴＦＴの作製工程を示す断面図。
【図７】 駆動回路のＴＦＴと画素ＴＦＴの構造を示す上面図。
【図８】 駆動回路のＴＦＴと画素ＴＦＴの構造を示す断面図。
【図９】 駆動回路のＴＦＴの構成を示す断面図。
【図１０】 画素ＴＦＴの構成を示す断面図。
【図１１】 画素部の画素を示す上面図。
【図１２】 結晶質半導体層の作製工程を示す断面図。
【図１３】 画素ＴＦＴ、駆動回路のＴＦＴの作製工程を示す断面図。
【図１４】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の作製工程を示す断面図。
【図１５】 液晶表示装置の入出力端子、配線、回路配置、スペーサ、シール剤の配置を説明する上面図。
【図１６】 液晶表示装置の構造を示す斜視図。
【図１７】 結晶質半導体層の作製工程を示す断面図。
【図１８】 アクティブマトリクス型表示装置の回路構成を説明するブロック図。
【図１９】 ＥＬ表示装置の構造を示す上面図及び断面図。
【図２０】 ＥＬ表示装置の画素部の断面図。
【図２１】 ＥＬ表示装置の画素部の上面図と回路図。
【図２２】 ＥＬ表示装置の画素部の回路図の例。
【図２３】 半導体装置の一例を示す図。
【図２４】 半導体装置の一例を示す図。
【図２５】 投影型液晶表示装置の構成を示す図。
【図２６】 エッチング時間と酸化窒化シリコン膜の膜厚の減少量を示すグラフ。
【図２７】 第１のエッチング処理により加工されるＷ膜の断面形状を示すＳＥＭ像。
【図２８】 ＣＦ₄とＣｌ₂の混合ガスを用いた第２のエッチング処理により加工されるＷ膜の断面形状を示すＳＥＭ像。
【図２９】 ＣＦ₄とＣｌ₂とＯ₂の混合ガスを用いた第２のエッチング処理により加工されるＷ膜の断面形状を示すＳＥＭ像。
【図３０】 ＴＦＴの静特性を示すグラフ。

Claims (2)

1. 半導体層上に絶縁膜を形成し、
   前記絶縁膜上に導電層を形成し、
   前記導電層を選択的にエッチングして第１のテーパー形状を有する導電層を形成し、且つ、前記絶縁膜の露出した表面をエッチングして第３のテーパー形状を有する絶縁膜を形成し、
   前記第１のテーパー形状を有する導電層をマスクとし、該導電層のテーパー部及び前記第３のテーパー形状を有する絶縁膜を介して一導電型の不純物元素を前記半導体層にドーピングして第１の不純物領域を形成し、
   前記第１のテーパー形状を有する導電層を選択的にエッチングして第２のテーパー形状を有する導電層を形成し、且つ、前記第３のテーパー形状を有する絶縁膜の露出した表面をエッチングして第４のテーパー形状を有する絶縁膜を形成し、
   前記第２のテーパー形状を有する導電層をマスクとし、該導電層のテーパー部及び前記第４のテーパー形状を有する絶縁膜を介して一導電型の不純物元素を前記半導体層にドーピングして第２の不純物領域を形成し、
   前記第２の不純物領域に含まれる一導電型の不純物元素の濃度は、前記第１の不純物領域に含まれる一導電型の不純物元素の濃度よりも低く、且つ、前記第１の不純物領域から遠ざかるにつれて低くなることを特徴とする半導体装置の作製方法。
2. 請求項１において、
   前記第２の不純物領域に含まれる一導電型の不純物元素の濃度は、前記第４のテーパー形状を有する絶縁膜及び前記第２のテーパー形状を有する導電層の膜厚の増加にともない、前記第１の不純物領域から遠ざかるにつれて低くなることを特徴とする半導体装置の作製方法。

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