JP4797440B2 - 芳香族化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
そして、その芳香環の所望の位置に、置換基を有するものを製造する方法が検討されている。
例えば、ジベンゾフラン誘導体及びジベンゾチオフェン誘導体の1,8位に置換基を有する芳香族化合物の製造方法が知られている。(特許文献1、非特許文献1、非特許文献2)
(AはO、S等を表す)
本発明の目的は、1,8位に置換基を有し、かつ2位および/または7位に置換基を有するジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、カルバゾール誘導体等の芳香族化合物を選択性よく製造する方法を提供することにある。
[式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、置換シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、置換シリルチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミド基、酸イミド基または二置換アミノ基を表し、R1とR2は一緒になって、
−A3−T−A4−を表してもよく、A1、A3およびA4はそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子または−NR11−を表し、Tは炭素数が6以上のアルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基を表し、アルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基の飽和炭素原子は酸素原子、硫黄原子、窒素原子または珪素原子で置換されていてもよく、
R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよく、R11はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。]
と有機リチウム化合物
とを反応させて、
式(1−3)または式(1−4)
[式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は前記と同じ意味を表し、R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよい。]
で示されるリチウム化合物を製造し、
該リチウム化合物と、求電子剤
とを反応させることを特徴とする下記式(2−1)
[式中、X1およびX2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)2で示される基、ホルミル基、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、1価の複素環基、置換シリル基、置換ホスフィノ基または置換スタニル基を表す。ただし、X1とX2が同時に水素原子になることはない。R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1、はそれぞれ独立に、前記と同じ意味を表し、R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよい。]
で示される芳香族化合物の製造方法を提供するものである。
R1およびR2は、それぞれ独立に、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、置換シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、置換シリルチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミド基、酸イミド基または二置換アミノ基を表し、R1とR2は一緒になって、−A3−T−A4−を表してもよく、A1、A3およびA4はそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子または−NR11−を表し、Tは炭素数が6以上のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基を表し、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基の飽和炭素原子は酸素原子、硫黄原子、窒素原子または珪素原子で置換されていてもよい。
具体的には、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリ−n−プロピルシリルオキシ基、トリ−i−プロピルシリルオキシ基、t−ブチルシリルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、t−ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基などが例示される。
があげられ、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜30である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
具体例としてはトリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリ−n−プロピルシリルチオ基、トリ−i−プロピルシリルチオ基、t−ブチルシリルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ−p−キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、t−ブチルジフェニルシリルチオ基、ジメチルフェニルシリルチオ基などが例示される。
炭素数は通常1〜40程度であり、具体例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジt−ブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジ2−エチルヘキシルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ビス(3,7−ジメチルオクチル)アミノ基、ジラウリルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジトリフルオロメチルアミノ基などが例示される。
[式中、X1およびX2、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)2で示される基、ホルミル基、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、1価の複素環基、置換シリル基、置換ホスフィノ基、置換スタニル基を表す。ただし、X1とX2が同時に水素原子になることはない。R1、R2、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に、前記と同じ意味を表し、R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよい。A1は前記と同じ意味を表す。]
[式中、X5およびX6は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、X5とX6が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、A1は上記と同じ意味を表す。]
マクロモレキュラー ケミストリー マクロモレキュラー シンポジウム(Makromol.Chem.,Macromol.Symp.),第12巻,229頁(1987年)などに記載の公知の方法を用いることができる。
[式中、X9およびX10は、それぞれ独立に、水素原子、−B(OH)2で示される基またはホウ酸エステル基を表す。ただし、X9とX10が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す]
[式中、X13およびX14は、それぞれ独立に、水素原子、置換スタニル基を表す。ただし、X13とX14が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、およびA1は上記と同じ意味を表す。]
[式中、X17、X18は、それぞれ独立に、水素原子または置換シリル基を表す。ただし、X17とX18が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す。]
[式中、X21およびX22は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、X21とX22が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す。]
[式中、X25およびX26は、それぞれ独立に、水素原子またはアリール基を表す。ただし、X25とX26が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す。]
[式中、X29およびX30は、それぞれ独立に、水素原子またはアリールアルキル基を表す。ただし、X29とX30が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す。]
[式中、X33およびX34は、それぞれ独立に、水素原子または1価の複素環基を表す。ただし、X33とX34が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す。]
[式中、X37およびX38は、それぞれ独立に、水素原子または置換ホスフィノ基を表す。ただし、X37とX38が同時に水素原子になることはない。
R1、R2、R3、R4、R5、R6およびA1は上記と同じ意味を表す。]
上記式(1−1)で示される化合物のうちR1、R2の炭素数が3以上である化合物(12−1)は、ポリマーにしたときの溶媒への溶解度の観点から好ましい。
[式中、R12およびR13はそれぞれ独立に、炭素数が3以上のアルキルオキシ基、炭素数が3以上のアリールオキシ基、炭素数が3以上のアリールアルキルオキシ基、炭素数が3以上の置換シリルオキシ基、炭素数が3以上のヘテロアリールオキシ基、炭素数が3以上のアルキルチオ基、炭素数が3以上のアリールチオ基、炭素数が3以上のアリールアルキルチオ基、炭素数が3以上の置換シリルチオ基、炭素数が3以上のヘテロアリールチオ基、炭素数が3以上のアミド基、炭素数が3以上の酸イミド基または炭素数が3以上の二置換アミノ基を表し、R3、R4、R5、R6およびA1は前記と同じ意味を表す。]
500 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、ジベンゾフラン3.00 g(17.9 mmol)をとり、60 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン8.2 ml(53.6 mmol、3.0 eq.)を加えた。-78 ℃に冷却した後、s-ブチルリチウム54 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液、53.6 mmol、3.0 eq.)を10分で滴下した。室温まで昇温し、4時間攪拌した後、-78 ℃に冷却し、トリメトキシボラン7.1 ml(62.5 mmol、3.5 eq.)を一度に加えた。室温まで昇温し、4時間攪拌した。0 ℃まで冷却し、30%過酸化水素水20 ml(89 mmol、10 eq.)を30分で滴下した。滴下後、1時間攪拌し、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液20 mlを20分で滴下した。室温で3時間攪拌した後、1 N塩酸を加え酸性にし、100 mlのジエチルエーテルで3回抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、3.76 gの(14)を得た。
1H-NMR(CD3OD, 300MHz):δ 7.46(2H, d), 7.18(2H, t), 6.97(2H,d)
MS(ESI-negative, KCl添加)m/z:199.1([M-H]-)
100 ml-3口フラスコを窒素置換した後、化合物(14)0.50 g(2.3 mmol)をとり、18 mlの脱水DMFに溶解させ、炭酸カリウム0.80 g(5.7 mmol、2.5 eq.)、1-ブロモオクタン0.9 ml(5.1 mmol、2.2 eq.)を加えた。バス温120 ℃で2時間攪拌した後放冷し、水50 ml加えて50 mlのトルエンで3回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物(15)0.90gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 7.50(2H, d), 7.22(2H, t), 6.97(2H, d), 4.24(4H, t), 1.96〜1.87(4H, m), 1.58〜1.48(4H, m), 1.43〜1.30(16H, m), 0.89(6H, t).
13C-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 146.0, 145.6, 126.4, 123.6, 113.0, 111.3, 69.7, 32.1, 29.7, 29.6, 29.5, 26.3, 23.0, 14.4.
MS(APCI-positive)m/z:425.3([M+H]+).
100 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、化合物(15)0.83 g(1.7 mmol)をとり、17 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン0.8 ml(5.0 mmol、3.0 eq.)を加え、-78 ℃に冷却した。s-ブチルリチウム5.1 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液、5.0 mmol、3.0 eq.)を5分間で滴下し、滴下後10分攪拌した後、冷浴をはずし、室温にて4時間攪拌した後、-78 ℃に冷却した。この溶液に1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン0.7 ml(5.9 mmol、3.5 eq.)を5 mlのジエチルエーテルに溶解した溶液を5分で滴下した。5分攪拌後、冷浴をはずし、室温にて3時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10 ml加えて水相を10 mlのトルエンで2回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物(16)1.10 gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz):δ 7.47(2H, d), 7.39(2H, d), 4.47(4H, t), 1.92〜1.83(4H, m), 1.61〜1.51(4H, m), 1.40〜1.25(16H, m), 0.89(6H, t).
13C-NMR(CDCl3, 300MHz):δ 147.7, 142.3, 128.3, 125.9, 115.3, 114.1, 74.1, 32.1, 30.5, 29.7, 29.6, 26.3, 23.0, 14.4.
MS(ESI-positive):m/z:619.0, 621.0, 622.5([M+H]+).
500 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、ジベンゾチオフェン5.00 g(27.1mmol)をとり、100 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン12.5 ml(81.4 mmol、3.0 eq.)を加えた。-78 ℃に冷却した後、s-ブチルリチウム82 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液、81.4 mmol、3.0 eq.)を10分で滴下した。室温まで昇温し、3時間攪拌した後、-78℃に冷却し、トリメトキシボラン11 ml(95.0 mmol、3.5 eq.)を一度に加えた。室温まで昇温し、1.5時間攪拌した。0 ℃まで冷却し、30%過酸化水素水30 ml(8 9mmol、10 eq.)を20分で滴下した。滴下後、1時間攪拌し、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液30 mlを10分で滴下した。室温で3時間攪拌した後、1N塩酸を加え酸性にし、100 mlのジエチルエーテルで3回抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、6.31 gの粗生成物を得た。トルエン:エタノール=5:1混合溶媒から2回再結晶することにより化合物(17)0.61gを得た。
1H-NMR(CD3OD, 300MHz)δ 7.69(2H, d), 7.31(2H, t), 6.90(2H, d).
MS(ESI-negative, KCl添加)m/z:215.1([M-H]-).
100 ml-3口フラスコを窒素置換した後、化合物(17)0.50g(1.8mmol)をとり、14 mlの脱水DMFに溶解させ、炭酸カリウム0.86 g(6.1 mmol、3.5 eq.)、1-ブロモオクタン0.9 ml(5.3 mmol、3.0 eq.)を加えた。バス温120 ℃で2時間攪拌した後放冷し、水50 ml加えて50 mlのトルエンで3回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物(18)0.95gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 7.69(2H, d), 7.35(2H, t), 6.86(2H, d), 4.14(4H, t), 1.92〜1.82(4H, m), 1.54〜1.47(4H, m), 1.42〜1.30(16H, m), 0.89(6H, t).
13C-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 154.6, 138.0, 129.2, 125.8, 114.5, 107.9, 68.9, 32.2, 29.7, 29.6, 26.4, 23.0, 14.5.
500 ml-3口フラスコをアルゴン置換した後、化合物(18)9.00g(18.8mmol)をとり、180 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン8.7 ml(56.5 mmol、3.0 eq.)を加えた。-78 ℃に冷却した後、s-ブチルリチウム57 ml(0.99 Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液、56.5 mmol、3.0 eq.)を10分で滴下した。徐々に室温まで昇温した後、5時間還流した後、-78 ℃に冷却し、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン8 ml(65.9 mmol、3.5 eq.)を40 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解した溶液を30分で滴下した。室温まで昇温し、3時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100 ml加え、100 mlのヘキサンで2回抽出した。シリカゲルショートカラムを通した後、溶媒を留去することにより、化合物(19)11.20gを得た。
1H-NMR(CDCl3, 300MHz)δ 7,62(2H, d), 7.56(2H, d), 4.20(4H, t), 1.96〜1.84(4H, m), 1.64〜1.48(4H, m), 1.40〜1.25(16H, m), 0.90(6H, t).
MS(APPI−positive)600, 598, 596([M]+).
500 ml-3口フラスコを窒素で置換した後、化合物(14) 4.5 g(21.7 mmol)をとり、170 mlの脱水ジメチルホルムアミドに溶解させ、炭酸カリウム8.5 g(60.7 mmol)、ブロモメチルシクロヘキサン10.1 g(54.2 mmol)を加え、120 ℃で2時間攪拌した。その後、炭酸カリウム3.2 g、ブロモメチルシクロヘキサン4.0 gを追加し、120 ℃で1時間攪拌した後放冷し、水500 mlを加えてトルエン500 mlで2回抽出した。得られたトルエン溶液をシリカゲルショートカラムを通した後、溶媒を留去し粗生成物を得た。得られた個体をエタノールから再結晶することにより8.1 gの化合物(20)を得た。
MS (ESI-pos, KCl添加) m/z : 431, 432, 433 〔M+K〕+.
50 ml−三つ口フラスコをアルゴンで置換した後、化合物(20)1.0 g (2.5mmol)をとり、20 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン1.2 ml (7.5mmol)を加え、-78 ℃に冷却した。sec-ブチルリチウム7.6 ml (0.99Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液、7.5mmol)を滴下し、冷浴をはずし、室温にて5時間攪拌した後、-78 ℃に冷却した。この溶液に1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン1.1 ml(8.7mmol)を10 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解した溶液を滴下した。攪拌後、冷浴をはずし、室温にて3時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10 mlを加えて水相を100 mlのトルエンで2回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより化合物(21)1.45 gを得た。
MS (ESI-pos, KCl添加) m/z : 589, 590, 591 〔M+K〕+.
300 ml-三つ口フラスコを窒素で置換した後、化合物(14)3.5 g(16.9mmol)をとり、130 mlの脱水ジメチルホルムアミドに溶解させ、炭酸カリウム5.2 g(37.1mmol)、1,8−ジブロモオクタン4.6 g(16.9mmol)を加えた。バス温120 ℃で4時間攪拌した後放冷し、水500 mlを加えてトルエン500 mlで2回抽出した。得られたトルエン溶液をシリカゲルショートカラムを通した後、溶媒を留去し粗生成物を得た。エタノール及びn−ヘキサンで再結晶を行い2.1 gの化合物(22)を得た。
MS (ESI-pos, KCl添加) m/z : 349, 350 〔M+K〕+.
50 ml-三つ口フラスコをアルゴンで置換した後、化合物(22)1.0 g(3.1mmol)をとり、20 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解させ、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン1.4 ml(9.2mmol)を加え、-78 ℃に冷却した。sec-ブチルリチウム9.3 ml(0.99Mシクロヘキサン・ヘキサン溶液、9.2mmol)を滴下し、攪拌した後、冷浴をはずし室温にて6時間攪拌した後、-78 ℃に冷却した。この溶液に1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン1.3 ml(10.7mmol)を10 mlの脱水ジエチルエーテルに溶解した溶液を滴下した。5分攪拌後、冷浴をはずし、室温にて3時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液1加10 mlえて水相を100 mlのトルエンで2回抽出した。有機相を合わせ、シリカゲルでろ過した後に溶媒を留去することにより1.26 gの化合物(23)を得た。
1H-NMR(CD3OD, 300MHz)δ 7.46(4H, m), 4.35(4H, t), 1.95(4H, m), 1.70(4H, m), 1.58(4H, m).
MS (ESI-pos, KCl添加) m/z : 507, 508, 509 〔M+K〕+.
上記化合物(16)500mg(0.086mmol)と2,2‘−ビピリジル402mgを反応容器に仕込んだ後、反応系内をアルゴンガスで置換した。これに、あらかじめアルゴンガスでバブリングして、脱気したテトラヒドロフラン(脱水溶媒)40mlを加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}を708mg加え、室温で30分間攪拌した後、60℃で3.3時間反応した。なお、反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。反応後、この溶液を冷却した後、メタノール30ml/イオン交換水30ml/25%アンモニア水5mlの混合溶液中にそそぎ込み、約2時間攪拌した。次に、生成した沈殿物を、ろ過することにより回収した。この沈殿物を減圧乾燥した後、トルエンに溶解した。この溶液を濾過し、不溶物を除去した後、この溶液を、アルミナを充填したカラムを通すことにより精製した。次にこの溶液を1規定塩酸、2.5%アンモニア水、イオン交換水で洗浄し、メタノール中にそそぎ込み、再沈して、生成した沈殿を回収した。この沈殿を減圧乾燥して、重合体(24)104mgを得た。
この重合体のポリスチレン換算数平均分子量は、4.5×103であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は9.0×103であった。
上記化合物(23)500mg(0.0011mmol)、2,2‘−ビピリジル500mgとを反応容器に仕込んだ後、反応系内を窒素ガスで置換した。これに、あらかじめアルゴンガスでバブリングして、脱気したテトラヒドロフラン(脱水溶媒)40mlを加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}を2.2g加え、室温で30分間攪拌した後、60℃で3.3時間反応した。なお、反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。反応後、この溶液を冷却した後、メタノール30ml/イオン交換水30ml/25%アンモニア水5mlの混合溶液中にそそぎ込み、約2時間攪拌した。次に、生成した沈殿物を、ろ過することにより回収した。この沈殿物を減圧乾燥した後、トルエンに溶解した。この溶液を濾過し、不溶物を除去した後、この溶液を、アルミナを充填したカラムを通すことにより精製した。次にこの溶液を1規定塩酸、2.5%アンモニア水、イオン交換水で洗浄し、メタノール中にそそぎ込み、再沈して、生成した沈殿を回収した。この沈殿を減圧乾燥して、重合体(25)70mgを得た。
この重合体のポリスチレン換算数平均分子量は、1.0×103であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は8.7×102であった。
Claims (5)
- 下記式(1−1)
[式中、A 1、A3およびA4はそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子または−NR11−を表し、Tは炭素数が6以上のアルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基を表し、アルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基の飽和炭素原子は酸素原子、硫黄原子、窒素原子または珪素原子で置換されていてもよく、
R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよく、R11はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。]
で示される化合物と有機リチウム化合物とを反応させて、式(1−3)または式(1−4)
[式中、R 3、R4、R5、R6 、A1 、A 3 、A 4 およびTは前記と同じ意味を表し、R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよい。]
で示されるリチウム化合物を製造し、該リチウム化合物と求電子剤とを反応させることを特徴とする下記式(2−1)
[式中、X1およびX2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)2で示される基、ホルミル基、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、1価の複素環基、置換シリル基、置換ホスフィノ基または置換スタニル基を表す。
ただし、X1とX2が同時に水素原子になることはない。R 3、R4、R5、R6 、A1、A 3 、A 4 およびTは、前記と同じ意味を表し、R3とR4、R4とR5、R5とR6は互いに連結して環を形成してもよい。]
で示される芳香族化合物の製造方法。 - 式(2-1)においてX1およびX2がそれぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子である(ただし、X1とX2が同時に水素原子になることはない。)芳香族化合物の製造方法であって、求電子剤としてハロゲン化剤を用いることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 式(2-1)においてX1およびX2がそれぞれ独立に水素原子、−B(OH)2で示される基またはホウ酸エステル基である(ただし、X1とX2が同時に水素原子になることはない。)芳香族化合物の製造方法であって、求電子剤として、ホウ酸エステルまたはホウ酸エステルハロゲン化物を用いることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 下記式(1−1)
[式中、A 1 、A 3 およびA 4 はそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子または−NR 11 −を表し、Tは炭素数が6以上のアルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基を表し、アルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基の飽和炭素原子は酸素原子、硫黄原子、窒素原子または珪素原子で置換されていてもよく、
R 3 、R 4 、R 5 およびR 6 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。R 3 とR 4 、R 4 とR 5 、R 5 とR 6 は互いに連結して環を形成してもよく、R 11 はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。]
で示される化合物。 - 下記式(2−1)
[式中、X 1 およびX 2 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH) 2 で示される基、ホルミル基、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、1価の複素環基、置換シリル基、置換ホスフィノ基または置換スタニル基を表す。
ただし、X 1 とX 2 が同時に水素原子になることはない。
A 1 、A 3 およびA 4 はそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子または−NR 11 −を表し、Tは炭素数が6以上のアルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基を表し、アルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基の飽和炭素原子は酸素原子、硫黄原子、窒素原子または珪素原子で置換されていてもよく、
R 3 、R 4 、R 5 およびR 6 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。R 3 とR 4 、R 4 とR 5 、R 5 とR 6 は互いに連結して環を形成してもよく、R 11 はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、置換シリル基または1価の複素環基を表す。]
で示される芳香族化合物。
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