JP4794902B2 - 表面計測方法および装置 - Google Patents
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Description
2 レンズ
3 ビームスプリッタ
4 参照レンズ
41 参照面
5、12 被測定物
51、121 被測定面
6 フォーカス調整レンズ
7 撮像機器
8 コンピュータ
9 参照レンズ微小駆動機構
10 フォーカス調整レンズ駆動機構
11 ステージ
Claims (5)
- ステージに載置された被測定物の表面形状を、干渉計測光学系の参照面との間の光路差によって計測する表面計測方法であって、
前記被測定物の表面と同じ曲率半径の校正原器の、複数の測定領域にそれぞれ対応する干渉計測光学系のフォーカス調整量を求めて記憶手段に記憶する第1工程と、
第1工程において記憶されたフォーカス調整量に基づいて、被測定物の複数の測定領域に対してそれぞれ干渉計測光学系のフォーカス調整を行って表面形状を計測し、複数の測定データを得る第2工程と、
第2工程で得られた複数の測定データを合成する第3工程と、を有することを特徴とする表面計測方法。 - 前記被測定物の表面は球面であって、前記校正原器が、輪帯状の遮光部と反射部が交互に同心円状に配設された同心円パターンを有することを特徴とする請求項1記載の表面計測方法。
- 前記被測定物の少なくとも2箇所以上の表面である分割参照領域についてそれぞれ表面形状を前記フォーカス調整量に基づいて計測し、平均化することによって参照面校正データを得る工程と、
得られた参照面校正データに基づいて、第2工程において得られた測定データを校正する工程と、を有することを特徴とする請求項1または2記載の表面計測方法。 - ステージ上の被測定物の表面形状を参照面との間の光路差によって計測する干渉計測光学系と、前記被測定物の表面と同じ曲率半径で複数の測定領域を有する、前記被測定物のための校正原器と、前記校正原器を用いて測定領域ごとに得られた前記干渉計測光学系のフォーカス調整量を記憶する記憶手段と、記憶されたフォーカス調整量に基づいて、被測定物の複数の測定領域に対してそれぞれ前記干渉計測光学系のフォーカス調整を行って表面形状を計測し、得られた複数の測定データを合成する演算処理手段と、を有することを特徴とする表面計測装置。
- 前記校正原器は、複数の同心円パターンによる輪帯領域を有する校正原器であることを特徴とする請求項4記載の表面計測装置。
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