JP5544679B2 - 段差表面形状の計測方法および計測装置 - Google Patents
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Description
2 白色光源
3 ステージ
4 干渉対物レンズ
5 参照ミラー
6 対象物
7 試料台
8 カメラコントローラ
9 ステージコントローラ
10 制御手段
11 出力手段
12 試料台コントローラ
Claims (6)
- 低コヒーレンス干渉光学計を用いた段差表面形状の計測方法であって、
光源の中心波長λから決定されるナイキスト間隔より大きい標本点間隔で対象物の干渉強度データを取得するステップと、
取得した前記干渉強度データの内、連続した3データ以上を使用して求めた、前記干渉強度データを取得した位置における干渉像のコントラストに基づいて、コントラストが最大となる仮ピーク位置を特定し、前記仮ピーク位置の近傍において、取得した前記干渉強度データから干渉強度の直流成分と正弦波成分とからなる関数を用いてインターフェログラムを求めることにより、前記ナイキスト間隔より大きい前記標本点間隔内の任意の位置における干渉強度データを内挿するステップと、
前記インターフェログラムのピーク位置を特定し対象物の高さを算出するステップと、
を有することを特徴とする段差表面形状の計測方法。 - 前記インターフェログラムは、前記干渉強度データの内、少なくとも連続した3点以上の干渉強度データを使って算出した位相と予め算出された光源の中心波長λをもとに、前記関数におけるナイキスト間隔以下の位相を内挿することによって復元されたものであることを特徴とする請求項1に記載の段差表面形状の計測方法。
- 前記光源の中心波長λは、予め前記低コヒーレンス干渉光学計と平面ミラーを使用し、位相シフト法によって求められたものであることを特徴とする請求項1に記載の段差表面形状の計測方法。
- 復元した前記インターフェログラムから前記位相シフト法により対象物の位相とそのピーク位置を算出し、撮像位置においてアンラップした位相と該ピーク位置とから対象の高さを決定することを特徴とする請求項1乃至3に記載の段差表面形状の計測方法。
- 前記光源の中心波長λに対し、高さ計測時の前記標本点間隔を(nλ/2)+(λ/8)(n=1,2,3・・・)とすることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の段差表面形状の計測方法。
- 低コヒーレンス干渉光学計を用いた段差表面形状の計測装置であって、
光源の中心波長λから決定されるナイキスト間隔より大きい標本点間隔で対象物の干渉強度データを取得する手段と、
取得した前記干渉強度データの内、連続した3データ以上を使用して求めた、前記干渉強度データを取得した位置における干渉像のコントラストに基づいて、コントラストが最大となる仮ピーク位置を特定し、前記仮ピーク位置の近傍において、取得した前記干渉強度データから干渉強度の直流成分と正弦波成分とからなる関数を用いてインターフェログラムを求めることにより、前記ナイキスト間隔より大きい前記標本点間隔内の任意の位置における干渉強度データを内挿する手段と、
前記インターフェログラムのピーク位置を特定し対象物の高さを算出する手段と、
を有することを特徴とする段差表面形状の計測装置。
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