JP3349235B2 - 干渉測定方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子の面形状を高
精度に測定する干渉測定方法に関する。
精度に測定する干渉測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、被検面の形状を測定する手段とし
て干渉計を用いた方法が知られている。その方法とし
て、例えば特開平４−４８２０１号公報に記載される干
渉測定装置がある。上記発明は、干渉計により精度の良
い（設計形状に近く、鏡面である）被検面と参照面との
干渉縞を出し、被検面を傾けて平行直線上の干渉縞にす
る。ディストーションが無いときは、干渉縞は平行で等
間隔になるが、ディストーションがあるときは干渉縞に
歪みがでる。この時、被検面の傾きと、この干渉縞の歪
みとからディストーション量を求め、求められたディス
トーション量を補正値として被検面測定データの補正を
行うものである。
て干渉計を用いた方法が知られている。その方法とし
て、例えば特開平４−４８２０１号公報に記載される干
渉測定装置がある。上記発明は、干渉計により精度の良
い（設計形状に近く、鏡面である）被検面と参照面との
干渉縞を出し、被検面を傾けて平行直線上の干渉縞にす
る。ディストーションが無いときは、干渉縞は平行で等
間隔になるが、ディストーションがあるときは干渉縞に
歪みがでる。この時、被検面の傾きと、この干渉縞の歪
みとからディストーション量を求め、求められたディス
トーション量を補正値として被検面測定データの補正を
行うものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術においては以下のような問題点があり、被検面の
測定手段としては満足できるものではなかった。すなわ
ち、被検面が非球面の場合、被検面を傾けるとコマ収差
を発生するため、縞の歪みにディストーション以外の干
渉縞の変化が生じる。このため、被検面の測定データに
おいて、歪みを補正できなくなるという問題点があっ
た。
来技術においては以下のような問題点があり、被検面の
測定手段としては満足できるものではなかった。すなわ
ち、被検面が非球面の場合、被検面を傾けるとコマ収差
を発生するため、縞の歪みにディストーション以外の干
渉縞の変化が生じる。このため、被検面の測定データに
おいて、歪みを補正できなくなるという問題点があっ
た。
【０００４】因って、本発明は上記従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、上記の影響を無くし、被検面の
測定データの歪みを補正することができる干渉測定方法
の提供を目的とする。
鑑みてなされたもので、上記の影響を無くし、被検面の
測定データの歪みを補正することができる干渉測定方法
の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】本発明は、光
源から射出された光束を２分し、一方の分割光束を参照
面に、他方の分割光束を被検面にそれぞれ入射させ、各
々の反射光を干渉させて得られた干渉縞から被検面の形
状を測定する干渉計を用い、被検面と設計上同一な形状
を有するマーキングされたマスターレンズの像を前記干
渉計の受像面に投影し、その投影されたマーキングポイ
ント像と干渉計の光学系の投影倍率により線型変換され
た受像面上の理想結像点との写像関係から、前記干渉縞
の歪みを補正する方法である。
源から射出された光束を２分し、一方の分割光束を参照
面に、他方の分割光束を被検面にそれぞれ入射させ、各
々の反射光を干渉させて得られた干渉縞から被検面の形
状を測定する干渉計を用い、被検面と設計上同一な形状
を有するマーキングされたマスターレンズの像を前記干
渉計の受像面に投影し、その投影されたマーキングポイ
ント像と干渉計の光学系の投影倍率により線型変換され
た受像面上の理想結像点との写像関係から、前記干渉縞
の歪みを補正する方法である。
【０００６】図１〜図３は本発明の干渉測定方法の概略
を示し、図１ａ，ｂ，ｃは使用されるマスターレンズを
説明するもので、ａは斜視図、ｂは平面図、ｃはＸ軸上
での断面図、図２は干渉計の受像面の正面図、図３はマ
スターレンズと受像面との関係の説明図である。
を示し、図１ａ，ｂ，ｃは使用されるマスターレンズを
説明するもので、ａは斜視図、ｂは平面図、ｃはＸ軸上
での断面図、図２は干渉計の受像面の正面図、図３はマ
スターレンズと受像面との関係の説明図である。
【０００７】本発明の干渉測定方法は一般的な干渉計に
適用される。図１ａ〜ｃに示す様に、マスターレンズの
基準面は被検面の中心を原点とした被検面上の座標に対
して同一となるものであり、予め座標位置の知られたマ
ーキングが多数の点および線として付与されている（図
１ｂでは同一円周上に点ａとして、および円として図
示）。ここでは、被検面と同様な設計形状を持つマスタ
ーレンズの座標関係（ｘ軸，ｙ軸は被検面の周長上であ
り、ｚ軸は被検面の原点の接平面に垂直である）とマー
キングポイントａを示している。図２には、干渉計の受
像面における座標上のマスターレンズのマーキングポイ
ントａのマーキングポイント像ａ′を点として、マーキ
ングポイントａに対する計算上の理想結像点ｂを×で示
している。
適用される。図１ａ〜ｃに示す様に、マスターレンズの
基準面は被検面の中心を原点とした被検面上の座標に対
して同一となるものであり、予め座標位置の知られたマ
ーキングが多数の点および線として付与されている（図
１ｂでは同一円周上に点ａとして、および円として図
示）。ここでは、被検面と同様な設計形状を持つマスタ
ーレンズの座標関係（ｘ軸，ｙ軸は被検面の周長上であ
り、ｚ軸は被検面の原点の接平面に垂直である）とマー
キングポイントａを示している。図２には、干渉計の受
像面における座標上のマスターレンズのマーキングポイ
ントａのマーキングポイント像ａ′を点として、マーキ
ングポイントａに対する計算上の理想結像点ｂを×で示
している。
【０００８】以下、本発明の作用を説明する。干渉計を
用いて被検面の形状を測定する際、被検面の代わりに図
１ｂに示す様なマーキングされたマスターレンズを取り
付ける。マスターレンズのマーキングポイントａは、干
渉計の光学系により干渉計の受像面に投影される。この
時、マスターレンズのマーキングポイントａは、図２に
示す様に、干渉計の受像面においてマーキングポイント
像ａ′の位置に写り、受像面においての座標位置がＸ，
Ｙで求められる。この時、マスターレンズのマーキング
ポイントａの原点Ｏの投影像を受像面の座標の原点Ｏ′
とする。また、マスターレンズのマーキングポイントａ
の受像面における理想結像は、干渉計の光学系の倍率β
により、以下の
用いて被検面の形状を測定する際、被検面の代わりに図
１ｂに示す様なマーキングされたマスターレンズを取り
付ける。マスターレンズのマーキングポイントａは、干
渉計の光学系により干渉計の受像面に投影される。この
時、マスターレンズのマーキングポイントａは、図２に
示す様に、干渉計の受像面においてマーキングポイント
像ａ′の位置に写り、受像面においての座標位置がＸ，
Ｙで求められる。この時、マスターレンズのマーキング
ポイントａの原点Ｏの投影像を受像面の座標の原点Ｏ′
とする。また、マスターレンズのマーキングポイントａ
の受像面における理想結像は、干渉計の光学系の倍率β
により、以下の
【数１】 に線型変換される。
【０００９】
【数１】
【００１０】また、ａ′は極座標で、ａ′（ρ′，
θ′）と表わされる。この時、マスターレンズのマーキ
ングポイントをａ（ρｉ，θｉ）としてそれに対する受
像面のマーキングポイント像をａ′（ρ′ｉ，θ′ｉ）
とする。また、ａ（ρｉ，θｉ）に対する受像面におけ
る計算上の理想結像点をｂ（ρ″ｉ，θ″ｉ）とする。
ここで、ａ′（ρ′ｉ，θ′ｉ）から（ρ″ｉ，θ″
ｉ）への写像関係を求めると、干渉計の光学系による歪
を受けたマーキングポイント位置から、歪を受けない計
算上の理想的な結像位置を求めることができる。このた
め、被検面を測定するとき、干渉計の光学系により得ら
れた受像面上の干渉縞の位置を、この写像関係、すなわ
ちａ′（ρ′，θ′）からｂ（ρ″，θ″）に補正する
ことにより、干渉縞の歪みを補正することになる。
θ′）と表わされる。この時、マスターレンズのマーキ
ングポイントをａ（ρｉ，θｉ）としてそれに対する受
像面のマーキングポイント像をａ′（ρ′ｉ，θ′ｉ）
とする。また、ａ（ρｉ，θｉ）に対する受像面におけ
る計算上の理想結像点をｂ（ρ″ｉ，θ″ｉ）とする。
ここで、ａ′（ρ′ｉ，θ′ｉ）から（ρ″ｉ，θ″
ｉ）への写像関係を求めると、干渉計の光学系による歪
を受けたマーキングポイント位置から、歪を受けない計
算上の理想的な結像位置を求めることができる。このた
め、被検面を測定するとき、干渉計の光学系により得ら
れた受像面上の干渉縞の位置を、この写像関係、すなわ
ちａ′（ρ′，θ′）からｂ（ρ″，θ″）に補正する
ことにより、干渉縞の歪みを補正することになる。
【００１１】
【実施例１】図４〜図６は本実施例を示し、図４は本実
施例で用いる干渉測定計の概略構成図、図５ａ，ｂ，ｃ
は使用されるマスターレンズを説明するもので、ａは断
面図、ｂは平面図、ｃは斜視図、図６は受像面の正面図
である。
施例で用いる干渉測定計の概略構成図、図５ａ，ｂ，ｃ
は使用されるマスターレンズを説明するもので、ａは断
面図、ｂは平面図、ｃは斜視図、図６は受像面の正面図
である。
【００１２】図４において、１は非球面形状をもつ被検
面１４（以下、被検面を有するレンズを被検面という）
を測定する干渉計で、被検面１４の中心を原点とした被
検面１４上の座標に対して、図５ａ〜ｃに示す様に、極
座標ρ1 ，ρ2 ，ρ3 上で多数の点ａおよびρ2 上に線
となるように予め座標位置の知られたマーキングがされ
た被検面１４と設計上同一な形状を有するマスターレン
ズ２と、被検面１４と同様な設計形状を持つ参照面１２
と、光源５と、照明用光学系６と、照明用光学系６によ
り被検面１４および参照面１２への照射された光の反射
光を受像面４に投影するための測定光学系３と、参照面
１２と被検面１４より形成された干渉縞を画像として取
り込む測定用カメラ１０と、測定用カメラ１０の受像面
４と、参照面１２を微小量移動させるためのピエゾ１３
と、ピエゾ１３の移動を制御し、測定用カメラ１０によ
りとらえられた干渉縞のデータを解析するためのコンピ
ュータ１１とよりなる。
面１４（以下、被検面を有するレンズを被検面という）
を測定する干渉計で、被検面１４の中心を原点とした被
検面１４上の座標に対して、図５ａ〜ｃに示す様に、極
座標ρ1 ，ρ2 ，ρ3 上で多数の点ａおよびρ2 上に線
となるように予め座標位置の知られたマーキングがされ
た被検面１４と設計上同一な形状を有するマスターレン
ズ２と、被検面１４と同様な設計形状を持つ参照面１２
と、光源５と、照明用光学系６と、照明用光学系６によ
り被検面１４および参照面１２への照射された光の反射
光を受像面４に投影するための測定光学系３と、参照面
１２と被検面１４より形成された干渉縞を画像として取
り込む測定用カメラ１０と、測定用カメラ１０の受像面
４と、参照面１２を微小量移動させるためのピエゾ１３
と、ピエゾ１３の移動を制御し、測定用カメラ１０によ
りとらえられた干渉縞のデータを解析するためのコンピ
ュータ１１とよりなる。
【００１３】測定用光学系３は照明光を被検面１４側と
参照面１２側とに分け、それぞれの反射光を合わせるた
めのビームスプリッタ８と、被検面１４と参照面１２と
に対して照明および投影するための対物レンズ７と、ビ
ームスプリッタ８により合わされた照明光を受像面４に
投影するとともに参照面１２および被検面１４と結像関
係にするためのフォーカスレンズ系９とよりなる。
参照面１２側とに分け、それぞれの反射光を合わせるた
めのビームスプリッタ８と、被検面１４と参照面１２と
に対して照明および投影するための対物レンズ７と、ビ
ームスプリッタ８により合わされた照明光を受像面４に
投影するとともに参照面１２および被検面１４と結像関
係にするためのフォーカスレンズ系９とよりなる。
【００１４】図５ａ〜ｃに示すマスターレンズ２は、そ
のマーキングをマスターレンズ２の基準面を形成してい
る座標を基準とて行ったものである。マーキング方法
は、マスターレンズ２にスケールを当てて拡大投影器で
位置を計りながら行う。この時、図５ａに示すごとく、
座標はマスターレンズ２の原点より直交座標ｘ′，
ｙ′，ｚをとる。マスターレンズ２の基準面は設計上、
ｘ′方向に断面形状を表わす関数、ｚ＝ｆ（ｘ′）の関
係があるとし、マスターレンズ２上のマーキングポイン
トａは
のマーキングをマスターレンズ２の基準面を形成してい
る座標を基準とて行ったものである。マーキング方法
は、マスターレンズ２にスケールを当てて拡大投影器で
位置を計りながら行う。この時、図５ａに示すごとく、
座標はマスターレンズ２の原点より直交座標ｘ′，
ｙ′，ｚをとる。マスターレンズ２の基準面は設計上、
ｘ′方向に断面形状を表わす関数、ｚ＝ｆ（ｘ′）の関
係があるとし、マスターレンズ２上のマーキングポイン
トａは
【数２】 の関係がある。
【００１５】
【数２】
【００１６】ただし、ｘ′ｉはｘｉに対するｘ′座標の
位置であり、ｙ′ｉはｙｉに対するｙ′座標の位置であ
る。ｘｉ，ｙｉはマスターレンズ２面上の座標ｘ，ｙの
マーキングポイント位置である。この関係は、同様にｚ
とｙ′とｙｉについても
位置であり、ｙ′ｉはｙｉに対するｙ′座標の位置であ
る。ｘｉ，ｙｉはマスターレンズ２面上の座標ｘ，ｙの
マーキングポイント位置である。この関係は、同様にｚ
とｙ′とｙｉについても
【数３】 に示す様に成り立つ。
【００１７】
【数３】
【００１８】また、マーキングポイントａは、前述の様
に、極座標ρ1 ，ρ2 ，ρ3 上の多数の点で、またρ2
上の線としてマスターレンズ２の周長上の座標で表わさ
れ、円周上にマーキングされ、各円周上で番号（図５ｂ
に1 ，2 ，3 にて図示）が付されている。図６は、受像
面４の座標のマーキングポイント像ａ′（図６中に点で
示す）と理想結像点ｂ（図６中に×で示す）である。こ
の理想結像点ｂは、計算上で求められるもので、受像面
４には表われないが、理解を容易にするために開示して
ある。
に、極座標ρ1 ，ρ2 ，ρ3 上の多数の点で、またρ2
上の線としてマスターレンズ２の周長上の座標で表わさ
れ、円周上にマーキングされ、各円周上で番号（図５ｂ
に1 ，2 ，3 にて図示）が付されている。図６は、受像
面４の座標のマーキングポイント像ａ′（図６中に点で
示す）と理想結像点ｂ（図６中に×で示す）である。こ
の理想結像点ｂは、計算上で求められるもので、受像面
４には表われないが、理解を容易にするために開示して
ある。
【００１９】以下、上記構成を用いての干渉測定方法を
説明する。干渉計１において、被検面１４の形状を測定
するとき、被検面１４の代わりにマスターレンズ２を取
り付ける。マスターレンズ２は、図５ａ〜ｃの関係より
マーキングされ、干渉計１の光源５と照明用光学系６と
ビームスプリッタ８と対物レンズ７により照明される。
この時、マスターレンズ２のマーキングポイントａは、
測定光学系３により、干渉計１の受像面４に投影され
る。すなわち、対物レンズ７とビームスプリッタ８とフ
ォーンスレンズ系９により受像面４に投影される。この
時、マーキングポイントが受像面４で鮮明に観察される
ように参照面１２をはずしておく。
説明する。干渉計１において、被検面１４の形状を測定
するとき、被検面１４の代わりにマスターレンズ２を取
り付ける。マスターレンズ２は、図５ａ〜ｃの関係より
マーキングされ、干渉計１の光源５と照明用光学系６と
ビームスプリッタ８と対物レンズ７により照明される。
この時、マスターレンズ２のマーキングポイントａは、
測定光学系３により、干渉計１の受像面４に投影され
る。すなわち、対物レンズ７とビームスプリッタ８とフ
ォーンスレンズ系９により受像面４に投影される。この
時、マーキングポイントが受像面４で鮮明に観察される
ように参照面１２をはずしておく。
【００２０】マスターレンズ２のマーキングポイントａ
は、図６に示す様に、受像面４においてマーキングポイ
ント像ａ′の位置に写り、測定用カメラ１０によりマー
キングポイント像ａ′をとらえ、画像情報をコンピュー
タ１１に送り座標位置（極座標位置）を求める。このと
き、マスターレンズのマーキングポイントａの原点の投
影像を受像面４の座標の原点とするため、各マーキング
ポイント像ａ′を原点に合わせて、極座標変換する。マ
ーキングポイントの同じ円周上に付された番号（図５ｂ
における1 ，2 ，3 ）により各位置関係を判断する。ま
た、マスターレンズ２のマーキングポイントａの受像面
４における理想結像点ｂは、測定光学系３の倍率βによ
り、
は、図６に示す様に、受像面４においてマーキングポイ
ント像ａ′の位置に写り、測定用カメラ１０によりマー
キングポイント像ａ′をとらえ、画像情報をコンピュー
タ１１に送り座標位置（極座標位置）を求める。このと
き、マスターレンズのマーキングポイントａの原点の投
影像を受像面４の座標の原点とするため、各マーキング
ポイント像ａ′を原点に合わせて、極座標変換する。マ
ーキングポイントの同じ円周上に付された番号（図５ｂ
における1 ，2 ，3 ）により各位置関係を判断する。ま
た、マスターレンズ２のマーキングポイントａの受像面
４における理想結像点ｂは、測定光学系３の倍率βによ
り、
【数１】の式で線型変換される。
【００２１】ａ′は極座標で、ａ′（ρ′，θ′）と表
わされる。この時、マスターレンズ２のマーキングポイ
ントをａ（ρｉ，θｉ）として、それに対する受像面の
マーキングポイント像をａ′（ρ′ｉ，θ′ｉ）とす
る。また、ａ（ρｉ，θｉ）に対する理想結像点をｂ
（ρ″ｉ，θ″ｉ）とする。ここで、ａ′（ρ′ｉ，
θ′ｉ）をｂ（ρ″ｉ，θ″ｉ）に変換する関係、写像
Ｇ、（ρ″，θ″）＝Ｇ（ρ′，θ′）を求める。
わされる。この時、マスターレンズ２のマーキングポイ
ントをａ（ρｉ，θｉ）として、それに対する受像面の
マーキングポイント像をａ′（ρ′ｉ，θ′ｉ）とす
る。また、ａ（ρｉ，θｉ）に対する理想結像点をｂ
（ρ″ｉ，θ″ｉ）とする。ここで、ａ′（ρ′ｉ，
θ′ｉ）をｂ（ρ″ｉ，θ″ｉ）に変換する関係、写像
Ｇ、（ρ″，θ″）＝Ｇ（ρ′，θ′）を求める。
【００２２】写像Ｇをもとめるとき、ρｉ＝一定とした
条件でρ′とθ′の変換ρ′＝ｆ（θ′）の関係で、ス
プライン補間法により、円周上に補間する。また、θ″
とθ′の変換θ″＝ｇ（θ′）の関係で、スプライン補
間法により、理想結像点ｂとマーキングポイント像ａ′
の円周上の写像関係を求める。さらに、同様の方法で、
θｉ＝一定とした条件で、θ′とρ′の変換θ′＝ｆ
（ρ′）の関係で、スプライン補間法により、放射線上
に補間する。また、ρ″とθ′の変換ρ″＝ｇ（ρ′）
の関係でスプライン補間法により、理想結像点ｂとマー
キングポイント像ａの放射線上の写像関係を求める。
条件でρ′とθ′の変換ρ′＝ｆ（θ′）の関係で、ス
プライン補間法により、円周上に補間する。また、θ″
とθ′の変換θ″＝ｇ（θ′）の関係で、スプライン補
間法により、理想結像点ｂとマーキングポイント像ａ′
の円周上の写像関係を求める。さらに、同様の方法で、
θｉ＝一定とした条件で、θ′とρ′の変換θ′＝ｆ
（ρ′）の関係で、スプライン補間法により、放射線上
に補間する。また、ρ″とθ′の変換ρ″＝ｇ（ρ′）
の関係でスプライン補間法により、理想結像点ｂとマー
キングポイント像ａの放射線上の写像関係を求める。
【００２３】次に、被検面１４の形状を測定するため、
マスターレンズ２と被検面１４とを交換する。また、参
照面１２を取り付け、干渉計１により受像面４上に干渉
縞を形成させる。このとき、コンピュータ１１によりピ
エゾ１３を制御して参照面１２を動かし、フリンジスキ
ャン法により、参照面１２と干渉縞の移動関係により、
被検面１４の形状を求める。この求められた形状をコン
ピュータ１１により、マーキングポイント像と理想結像
点との写像関係より、形状データを並べかえて歪みを補
正する。
マスターレンズ２と被検面１４とを交換する。また、参
照面１２を取り付け、干渉計１により受像面４上に干渉
縞を形成させる。このとき、コンピュータ１１によりピ
エゾ１３を制御して参照面１２を動かし、フリンジスキ
ャン法により、参照面１２と干渉縞の移動関係により、
被検面１４の形状を求める。この求められた形状をコン
ピュータ１１により、マーキングポイント像と理想結像
点との写像関係より、形状データを並べかえて歪みを補
正する。
【００２４】本実施例によれば、マーキングポイント像
ａ′と理想結像点ｂの写像関係を求めるとき、スプライ
ン補間法を用いることにより、マーキングされていない
ところでも写像関係が求められるため、補正精度をあげ
ることができ、より測定精度をあげることができる。
ａ′と理想結像点ｂの写像関係を求めるとき、スプライ
ン補間法を用いることにより、マーキングされていない
ところでも写像関係が求められるため、補正精度をあげ
ることができ、より測定精度をあげることができる。
【００２５】尚、本実施例では非球面レンズの干渉測定
方法について述べたが、これに限らず、球面レンズにつ
いても適用可能である。
方法について述べたが、これに限らず、球面レンズにつ
いても適用可能である。
【００２６】
【実施例２】本実施例では、前記実施例１におけるθ′
をθ′≒θ″として、ρ′とρ″の関係を求めるとき、
ディストーションの式、ρ′＝Ｃ3 （ρ″）3 ＋Ｃ
5 （ρ″）5 に最小二乗法により近似をして、ディスト
ーションの３次および５次の係数（Ｃ3 およびＣ5 ）を
求め、この式を用いρ″とρ′の写像関係をもとめて補
正を行う。その他の構成および作用は前記実施例１と同
一であり、その説明を省略する。
をθ′≒θ″として、ρ′とρ″の関係を求めるとき、
ディストーションの式、ρ′＝Ｃ3 （ρ″）3 ＋Ｃ
5 （ρ″）5 に最小二乗法により近似をして、ディスト
ーションの３次および５次の係数（Ｃ3 およびＣ5 ）を
求め、この式を用いρ″とρ′の写像関係をもとめて補
正を行う。その他の構成および作用は前記実施例１と同
一であり、その説明を省略する。
【００２７】本実施例において、ρ′とρ″の関係を求
めるとき、ディストーションの式ρ′＝Ｃ3 （ρ″）3
＋Ｃ5 （ρ″）5 に、最小二乗法により近似をするが、
このときρ″ｉに対するρ′ｉに対して、ディストーシ
ョンの係数Ｃ3 およびＣ5 を求める。補正を行うとき
は、ディストーションの式を用い、ρ″に対するρ′の
解を求め、形状データを並びかえる。
めるとき、ディストーションの式ρ′＝Ｃ3 （ρ″）3
＋Ｃ5 （ρ″）5 に、最小二乗法により近似をするが、
このときρ″ｉに対するρ′ｉに対して、ディストーシ
ョンの係数Ｃ3 およびＣ5 を求める。補正を行うとき
は、ディストーションの式を用い、ρ″に対するρ′の
解を求め、形状データを並びかえる。
【００２８】本実施例によれば、干渉縞の歪み具合を光
学的収差のディストーションとして、歪みの大きさを定
量的に評価でき、また、コマ収差等の非対称な収差によ
り受像面上のマーキングポイントの形状が変形して、座
標位置を求めるときに誤差が出るときでも、補正精度を
上げることができる。
学的収差のディストーションとして、歪みの大きさを定
量的に評価でき、また、コマ収差等の非対称な収差によ
り受像面上のマーキングポイントの形状が変形して、座
標位置を求めるときに誤差が出るときでも、補正精度を
上げることができる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明に係る干渉測
定方法によれば、被検面の形状が非球面の場合でも、被
検面の形状および干渉計の測定光学系による干渉縞の歪
みを補正することができ、面形状測定の測定精度の向上
を図ることができる。
定方法によれば、被検面の形状が非球面の場合でも、被
検面の形状および干渉計の測定光学系による干渉縞の歪
みを補正することができ、面形状測定の測定精度の向上
を図ることができる。
【図１】ａ，ｂ，ｃはそれぞれ本発明を示し、ａは斜視
図、ｂは平面図、ｃは断面図である。
図、ｂは平面図、ｃは断面図である。
【図２】本発明を示す正面図である。
【図３】本発明を示す説明図である。
【図４】実施例１を示す概略構成図である。
【図５】ａ，ｂ，ｃはそれぞれ本実施例１を示し、ａは
断面図、ｂは平面図、ｃは斜視図である。
断面図、ｂは平面図、ｃは斜視図である。
【図６】実施例１を示す正面図である。
１ 干渉計 ２ マスターレンズ ３ 測定用光学系 ４ 受像面 ５ 光源 ６ 照明光学系 ７ 対物レンズ ８ ビームスプリッタ ９ フォーカスレンズ系 １０ 測定用カメラ １１ コンピュータ １２ 参照面 １３ ピエゾ １４ 被検面
Claims (1)
- 【請求項１】 光源から射出された光束を２分し、一方
の分割光束を参照面に、他方の分割光束を被検面にそれ
ぞれ入射させ、各々の反射光を干渉させて得られた干渉
縞から被検面の形状を測定する干渉計を用いて前記干渉
縞の歪みを補正する干渉測定法であって、被検面と設計
上同一な形状を有するマーキングされたマスターレンズ
の像を前記干渉計の受像面に投影し、その投影されたマ
ーキングポイント像と干渉計の光学系の投影倍率により
線型変換された受像面上の理想結像点との写像関係か
ら、前記干渉縞の歪みを補正することを特徴とする干渉
測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34801493A JP3349235B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 干渉測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34801493A JP3349235B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 干渉測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07190738A JPH07190738A (ja) | 1995-07-28 |
| JP3349235B2 true JP3349235B2 (ja) | 2002-11-20 |
Family
ID=18394159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34801493A Expired - Fee Related JP3349235B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 干渉測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349235B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4531950B2 (ja) * | 2000-08-25 | 2010-08-25 | 株式会社トプコン | 眼科用測定装置 |
| JP4794902B2 (ja) * | 2005-05-11 | 2011-10-19 | キヤノン株式会社 | 表面計測方法および装置 |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP34801493A patent/JP3349235B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07190738A (ja) | 1995-07-28 |
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