JP4791110B2 - A vacuum chamber and vacuum processing apparatus - Google Patents

A vacuum chamber and vacuum processing apparatus

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JP4791110B2 JP2005255294A JP2005255294A JP4791110B2 JP 4791110 B2 JP4791110 B2 JP 4791110B2 JP 2005255294 A JP2005255294 A JP 2005255294A JP 2005255294 A JP2005255294 A JP 2005255294A JP 4791110 B2 JP4791110 B2 JP 4791110B2
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星児 岡部
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本発明は、真空チャンバおよび真空処理装置に関し、詳細には、フラットパネルディスプレイ(FPD)等の製造過程において、ガラス基板などの被処理基板の処理に使用される真空チャンバおよび真空処理装置に関する。 The present invention relates to a vacuum chamber and a vacuum processing apparatus, in particular, in the production process, such as a flat panel display (FPD), a vacuum chamber and a vacuum processing apparatus used to process the target substrate such as a glass substrate.

FPDの製造過程では、一辺の長さが2mを超える矩形の大型ガラス基板を処理チャンバ内に収容し、真空状態でエッチングやアッシング、成膜などの処理が行なわれる。 In the production process of FPD, the length of one side is accommodated in the large-size glass substrate processing chamber of rectangular exceeding 2m, etching or ashing in a vacuum state, processing such as film formation is performed. 近年では、ガラス基板の大型化に伴い処理チャンバ自体も大型化している。 In recent years, the process chamber itself with the larger glass substrate is also large. 特に、大型ガラス基板に対し真空状態で処理を行なう真空チャンバにおいては、アルミニウムなどの金属製の処理チャンバの内部を真空にした状態で大気圧に耐え得るだけの充分な剛性を確保する必要がある。 In particular, in a vacuum chamber to the large-size glass substrate performs processing in a vacuum, it is necessary to ensure sufficient rigidity of only the interior of metal processing chamber, such as aluminum while the vacuum withstand atmospheric pressure . このため、従来の一体型構造の処理チャンバでは、チャンバ壁を充分に厚くしなければならず、重量の増大を伴うとともに、大型機械による加工が必要になるので製造コストが増大してしまうという問題があった。 Therefore, in the process chamber in the conventional integral structure, must be sufficiently thick to chamber walls, with accompanied by an increase in weight, the manufacturing cost increases because the processing by large machines require problem was there.

また、処理チャンバが所定のサイズを超えて大型化すると、その運搬に法令上の制約が生じたり、経費が増大するという問題もある。 Further, there is the process chamber is enlarged beyond a predetermined size, or resulting constraints on laws in their delivery, a problem that cost is increased. なお、真空チャンバの構成部材に薄板を使用して軽量化を図ることも考えられるが、この場合、真空に耐え得る剛性を保つことが困難である。 It is conceivable to reduce the weight by using the thin plate configuration member of the vacuum chamber, in this case, it is difficult to maintain the rigidity to withstand vacuum.

ところで、真空チャンバに関する従来例として、真空チャンバを設置後も、その形状や大きさを容易に変更できるようにするため、多角形状に形成された枠状の本体と、その側面に取外し自在に接合される側面枠と、上板と、底板と、に分割自在に構成された真空チャンバが提案されている(例えば、特許文献1)。 Incidentally, as a conventional example relates to a vacuum chamber, after installation of the vacuum chamber also its shape and so that the size can be easily changed, the frame-shaped body formed in a polygonal shape, removably joined to the side surface and a side frame that is, a top plate, a bottom plate, divided freely configured vacuum chamber has been proposed (e.g., Patent Document 1).
特開2004−335743号公報(図2など) JP 2004-335743 JP (such as FIG. 2)

上記特許文献1の分割構造の真空チャンバの場合、上面に大きな開口部を有するため、開口部周囲の強度が不足し、真空チャンバとしての剛性を確保することが困難である。 If the vacuum chamber of the divided structure of Patent Document 1, since it has a large opening on the top surface, insufficient strength of the peripheral openings is difficult to secure the rigidity of the vacuum chamber. しかし、特許文献1では、真空チャンバとしての剛性の確保については全く考慮されていない。 However, in Patent Document 1, no consideration is for securing rigidity as a vacuum chamber.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、分割構造を採用しながら真空容器としての強度を確保することが可能な真空チャンバおよび該真空チャンバを備えた真空処理装置を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, it is to provide a vacuum processing apparatus having a vacuum chamber and vacuum chamber which can secure the strength as the vacuum vessel while adopting the split structure an object of the present invention.

上記課題を解決するため、本発明の第1の観点は、多角形状に形成され、底部をなす底板を有し、該底板に対向する上面が開口した主枠体と、 To solve the above problems, a first aspect of the present invention is formed in a polygonal shape, it has a bottom plate forming the bottom, and the main frame member upper surface facing the bottom plate is opened,
前記主枠体の対向する側部にそれぞれ接合される少なくとも一対の補強枠体と、 At least a pair of reinforcing frame member are joined respectively to opposite sides of the main frame,
前記主枠体の上部に着脱自在に接合される部材と、 A member which is detachably joined to the upper portion of the main frame,
を備え、 Equipped with a,
前記主枠体と前記補強枠体とが接合され、一体となって被処理基板を収容する空間を形成するとともに、前記主枠体の側部と、前記補強枠体の側部には、それぞれ側部開口が形成され、該側部開口を介して前記主枠体の内部と前記補強枠体の内部が連通し、前記被処理基板を収容する空間を形成し、 It said main frame and said reinforcing frame body is joined together to form a space for accommodating a substrate to be processed together, and the side of the main frame, on the side of the reinforcing frame body, respectively side opening is formed, through internal communication with the interior and the reinforcing frame member of the main frame through the said side opening, forms a space for accommodating the substrate to be processed,
前記主枠体の内壁面に、前記主枠体の上端近傍において前記開口の内側に向けて突設されたフランジと、前記主枠体の壁面と、に接合される断面L字型の補強部材である内部補強部材を配設したことを特徴とする、真空チャンバを提供する。 The inner wall surface of the main frame, and a flange which protrudes toward the inside of the opening in the vicinity of the upper end of the main frame, the reinforcing member of the L-shaped cross section which is joined to the wall surface of the main frame characterized in that disposed inside the reinforcing member is to provide a vacuum chamber.

上記第1の観点によれば、補強枠体を主枠体と接合することにより、上面に開口を有し、剛性を保ちにくい主枠体の耐真空強度を向上させることが可能になる。 According to the first aspect, by joining the reinforcing frame body main frame body has an opening on the upper surface, it is possible to improve the vacuum-proof strength of the hard main frame member maintaining rigidity. すなわち、補強枠体は、主枠体の側部に接合されて補強用部材として機能するので、真空チャンバに全体として十分な耐真空強度を持たせることができる。 That is, the reinforcing frame body, since the function as a reinforcing member is bonded to the side of the main frame, it is possible to provide a sufficient vacuum-proof strength as a whole in a vacuum chamber. また、主枠体の内壁面に、主枠体の上端近傍において開口の内側に向けて突設されたフランジと、主枠体の壁面と、に接合される断面L字型の補強部材である内部補強部材を配設して剛性を高める構成としたので、主枠体を構成する板材の厚さを薄くして軽量化を図っても、高真空状態で主枠体に歪みが生じることを回避できる。 Further, the inner wall surface of the main frame body is the reinforcing member of the main frame of a flange projecting toward the inside of the opening at the upper end near the wall surface of the main frame, an L-shaped cross section which is joined to since a structure to increase the rigidity by disposing the inner reinforcing member, even reduce the weight by reducing the thickness of the sheet material constituting the main frame body, that the distortion in the main frame in a high vacuum It can be avoided. また、主枠体上部の開口の拡大を図っても、高真空状態で主枠体に歪みが生じることを回避できるので、主枠体内に設置される搬送装置のメンテナンス性を向上させることができる。 Further, even to expand the main frame upper opening, it is possible to avoid the distortion in the main frame in a high vacuum state, it is possible to improve the maintainability of the conveying apparatus installed in the main frame body .

上記第1の観点において、前記主枠体の側部と、前記補強枠体の側部には、それぞれ側部開口が形成され、該側部開口を介して前記主枠体の内部と前記補強枠体の内部が連通し、被処理基板を収容する空間を形成することが好ましい。 The first Oite the viewpoint, and the side of the main frame, on the side of the reinforcing frame member are respectively side opening is formed, inside of the main frame through the said side opening and through the interior communication with the reinforcing frame, it is preferable to form a space for accommodating a substrate to be processed.

また、前記補強枠体の外壁面に、外部補強部材を配設することが好ましい。 Further, the outer wall surface of said reinforcing frame body, it is preferable to dispose the outer reinforcement. このように、補強枠体の外壁面に、外部補強部材を配備して剛性を保つ構成としたので、補強枠体を構成する板材の厚さを薄くし、軽量化を図ることが可能になる。 Thus, the outer wall surface of the reinforcing frame, since a structure to keep the rigidity by deploying an external reinforcing member, the thickness of the sheet material constituting the reinforcing frame body, it is possible to reduce the weight of .

また、前記外部補強部材として、前記外壁面に対して垂直なリブを格子状に立設することが好ましい。 Further, as the outer reinforcement, it is preferable that erecting vertical ribs in a lattice with respect to the outer wall surface. また、前記リブを、前記補強枠体の上下に対向する壁の外壁面に設けることが好ましい。 Moreover, the rib is preferably provided on the outer wall surface of the wall facing the top and bottom of the reinforcing frame member.

た、前記接合される部材は、前記フランジの上面に載置され、接合されるものであることが好ましい。 Also, members to be the joint is placed on the upper surface of the flange, it is preferable that the bonding.

また、前記主枠体と前記補強枠体とを接合する連結板を備えていることが好ましい。 Further, it is preferable to provide a connecting plate for bonding the reinforcing frame body and the main frame. この場合、前記連結板は、前記主枠体の上端と、前記補強枠体の上端とを接合するものであることが好ましい。 In this case, the connecting plate, and the upper end of the main frame, it is preferable that joining the upper end of the reinforcing frame member.

また、前記底板の外壁面に、底部補強部材を配設することが好ましい。 Further, the outer wall surface of the bottom plate, it is preferable to dispose the bottom reinforcement member. これにより、主枠体の底板の板厚を薄くしても必要な剛性を確保できるようになり、真空チャンバ全体の軽量化を図ることが可能になる。 Thus, even by reducing the thickness of the bottom plate of the main frame to be able to ensure the necessary rigidity, it is possible to reduce the weight of the entire vacuum chamber.

また、前記真空チャンバは、その内部に被処理基板を真空状態で搬送する搬送装置を備えた搬送チャンバであることが好ましい。 Further, the vacuum chamber is preferably a transfer chamber having a transfer device for transferring a target substrate in a vacuum therein. この場合、前記主枠体の対向する一対の側壁に、被処理基板を搬入出する搬入出用開口を形成することが好ましい。 In this case, a pair of opposite side walls of the main frame, it is preferable to form an opening for loading and unloading loading and unloading a substrate to be processed. さらに、前記補強枠体の側壁に、被処理基板を搬入出する搬入出用開口を形成することが好ましい。 Further, the side wall of the reinforcing frame, it is preferable to form an opening for loading and unloading loading and unloading a substrate to be processed. また、前記補強枠体の側部に、メンテナンス用開口を形成することが好ましい。 Also, the sides of the reinforcing frame, it is preferable to form an opening for maintenance. また、前記被処理基板が、フラットパネルディスプレイ用基板であることが好ましい。 Further, the target substrate is preferably a substrate for a flat panel display.

本発明の第2の観点は、上記第1の観点の真空チャンバと、 The second aspect of the present invention comprises a vacuum chamber of the first viewpoint,
前記真空チャンバに連結され、被処理基板の処理を行う複数の真空処理室と、 Coupled to said vacuum chamber, a plurality of vacuum processing chamber for processing a substrate to be processed,
を備えたことを特徴とする、真空処理装置を提供する。 Characterized by comprising a provides a vacuum processing apparatus.

本発明によれば、主枠体と補強枠体とを接合して真空チャンバを構成することにより、簡易な構造でありながら、真空チャンバとして必要な剛性を保ちつつ、製造や移送、取り扱いが格段に容易になり、搬送チャンバ内の搬送装置のメンテナンス性も向上し、基板の大型化への対応を図ることが可能になる。 According to the present invention, by constructing the vacuum chamber by joining a reinforcing frame body main frame body, with a simple structure, while maintaining the rigidity required as the vacuum chamber, production and transport, handling much easier, even better maintenance of the conveying device in the conveying chamber, it is possible to achieve the correspondence to the larger substrate.
すなわち、補強枠体自体を主枠体の補強部材として機能させることにより、主枠体および補強枠体の板厚を削減することができるので、加工が容易になるとともに軽量化が図られる。 In other words, by functioning the reinforcing frame itself as a reinforcing member of the main frame member, it is possible to reduce the plate thickness of the main frame and the reinforcing frame, weight reduction can be achieved with processing becomes easier. 従って、従来の一体型真空チャンバに比較して素材コスト、加工コスト等の製作コストを削減できるだけでなく、運送コストも低減できる。 Therefore, material cost compared to conventional integrated vacuum chamber, not only reduces the manufacturing costs of such processing cost, transportation cost can be reduced.

以下、図面を参照しながら、本発明の好ましい形態について説明する。 Hereinafter, with reference to the drawings will be described a preferred embodiment of the present invention. ここでは、FPD用ガラス基板(以下、単に「基板」と記す)Sに対してエッチング処理を行なうためのマルチチャンバータイプの真空処理装置を例に挙げて説明を行なう。 Here, FPD glass substrate (hereinafter, simply referred to as "substrate") as an example of the vacuum processing apparatus of multi-chamber type for performing the etching process will be described with respect to S. ここで、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、発光ダイオード(LED)ディスプレイ、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、蛍光表示管(Vacuum Fluorescent Display;VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。 Here, the FPD, a liquid crystal display (LCD), light emitting diode (LED) display, an electroluminescent (Electro Luminescence; EL) display, fluorescent display tube (Vacuum Fluorescent Display; VFD), etc. The plasma display panel (PDP) It is exemplified.

図1はこの真空処理装置の概観を示す斜視図、図2はその内部を示す水平断面図である。 Figure 1 is a perspective view showing an overview of the vacuum processing apparatus, FIG. 2 is a horizontal sectional view showing the internal. なお、図1および図2では細部は図示を省略している。 Incidentally, the details in FIG. 1 and FIG. 2 are omitted. この真空処理装置1は、その中央部に搬送チャンバ20とロードロック室30とが連設されている。 The vacuum processing apparatus 1 is conveyed chamber 20 and the load lock chamber 30 are communicated set at its center. 搬送チャンバ20の周囲には、3つのプロセスチャンバ10a,10b,10cが配設されている。 Around the transfer chamber 20, three process chambers 10a, 10b, 10c are disposed. このように、真空処理装置1は3つのプロセスチャンバ10a,10b,10cを有しているから、例えば、そのうち2つのプロセスチャンバをエッチング処理室として構成し、残りの1つのプロセスチャンバをアッシング処理室として構成したり、3つのプロセスチャンバ全てを、同一の処理を行なうエッチング処理室やアッシグ処理室として構成することができる。 Thus, the vacuum processing apparatus 1 includes three processing chambers 10a, 10b, because a 10c, for example, of which the two process chambers configured as etching chambers, ashing chambers one remaining process chambers or configured as, all three process chambers may be configured as etching chambers and Asshigu processing chamber for performing the same processing. なお、プロセスチャンバの数は3つに限らず、搬送チャンバ20の周囲に、例えば2つ、もしくは4つ以上配備することもできる。 The number of process chambers is not limited to three, it can be around the transfer chamber 20, for example two, or also deploy four or more.

搬送チャンバ20とロードロック室30との間、搬送チャンバ20と各プロセスチャンバ10a,10b,10cとの間、およびロードロック室30と外側の大気雰囲気とを連通する開口部には、これらの間を気密にシールし、かつ開閉可能に構成されたゲートバルブ22がそれぞれ介挿されている。 Between the transfer chamber 20 and the load lock chamber 30, each process chamber 10a and the transport chamber 20, 10b, between 10c, and the openings for communicating the load lock chamber 30 and the outside ambient atmosphere, between the It was hermetically sealed, and a gate valve 22 which can be opened and closed configuration are interposed, respectively.

ロードロック室30の外側には、2つのカセットインデクサ41が設けられており、その上にそれぞれ基板Sを収容するカセット40が載置されている。 On the outside of the load lock chamber 30 has two cassettes indexer 41 is provided, a cassette 40 for accommodating the substrate S respectively thereon is placed. これらカセット40の一方には、例えば未処理基板を収容し、他方には処理済み基板を収容できる。 While the these cassettes 40, for example, unprocessed substrates accommodated, the other to accommodate the processed substrate. これらカセット40は、昇降機構42により昇降可能となっている。 These cassettes 40 can be raised and lowered by an elevating mechanism 42.

これら2つのカセット40の間には、支持台44上に基板搬送手段43が設けられており、この基板搬送手段43は上下2段に設けられたアーム45,46、ならびにこれらを一体的に進出退避および回転可能に支持するベース47を具備している。 Between these two cassettes 40, and substrate transfer means 43 is provided on the support base 44, the substrate transfer means 43 advancing arms 45, 46 provided on the upper and lower stages, and these integrally and comprises a base 47 to be saved and rotatably supported.

アーム45,46上には基板Sを支持する4つの突起48が形成されている。 On an arm 45, 46 four projections 48 for supporting the substrate S is formed. 突起48は摩擦係数の高い合成ゴム製の弾性体からなり、基板支持中に基板Sがずれたり、落下したりすることが防止される。 Projection 48 is made high coefficient of friction synthetic rubber elastic body, or shift the substrate S in the substrate support, or to drop is prevented.

前記プロセスチャンバ10a,10b,10cは、その内部空間が所定の減圧雰囲気に保持されることが可能であり、その内部で例えばプラズマエッチングなどの処理が行なわれる。 It said process chamber 10a, 10b, 10c, the inner space is capable of being maintained at a predetermined reduced pressure atmosphere, the inside, for example processing such as plasma etching is performed. なお、プロセスチャンバ10a,10b,10cの基本的構成は略同じである。 Incidentally, the process chamber 10a, 10b, the basic structure of 10c is substantially the same.

搬送チャンバ20は、分割構造を有しており、プロセスチャンバ10a,10b,10cと同様に所定の減圧雰囲気に保持することが可能になっている。 Transfer chamber 20 has a divided structure, the process chambers 10a, 10b, it becomes possible to retain a predetermined reduced-pressure atmosphere as with 10c. なお、搬送チャンバ20の詳細な構造については、後述する。 The detailed structure of the transfer chamber 20, described later.

搬送チャンバ20の中には、図2に示すように、搬送機構50が配設されている。 Some of the transfer chamber 20, as shown in FIG. 2, the transport mechanism 50 is disposed. そして、この搬送機構50により、ロードロック室30および3つのプロセスチャンバ10a,10b,10cの間で基板Sが搬送される。 Then, this transport mechanism 50, the load lock chamber 30 and three process chambers 10a, 10b, the substrate S between 10c is conveyed. 搬送機構50は、ベース51の一端に設けられ、ベース51に回動可能に設けられた第1アーム52と、第1アーム52の先端部に回動可能に設けられた第2アーム53と、第2アーム53に回動可能に設けられ、基板Sを支持するフォーク状の基板支持プレート54とを有しており、ベース51に内蔵された駆動機構により第1アーム52、第2アーム53および基板支持プレート54を駆動させることにより、基板Sを搬送することが可能となっている。 Conveying mechanism 50 is provided at one end of the base 51, a first arm 52 rotatably provided on the base 51, a second arm 53 rotatably mounted to a fore end portion of the first arm 52, provided rotatably on the second arm 53 has a fork-shaped substrate supporting plate 54 for supporting the substrate S, the first arm 52 by a drive mechanism built in the base 51, the second arm 53 and by driving the substrate support plate 54, it is possible to transport the substrate S. また、ベース51は上下動が可能であるとともに回転可能となっている。 The base 51 is rotatable together with a possible vertical movement.

ロードロック室30は、各プロセスチャンバ10a〜10bおよび搬送チャンバ20と同様に、所定の減圧雰囲気に保持されることが可能であり、その中には基板Sを支持するための一対のバッファラック31,32が多段、例えば2段に設けられている。 The load lock chamber 30, similar to the respective process chambers 10a~10b and transfer chamber 20, it can be maintained at a predetermined reduced pressure atmosphere, a pair of buffer rack 31 for supporting a substrate S is therein , 32 are provided multiple stages, for example in two stages. なお、図2では最上部のバッファラック31,32のみを図示している。 Incidentally, it shows only buffer rack 31 and 32 of the top in FIG. 2. また、ロードロック室30には、矩形をした基板Sの互いに対向する角部付近において位置合わせを行なうポジショナー(図示せず)が配設されている。 In addition, the load lock chamber 30, the positioner aligning near corners facing each other of the substrate S having a rectangular (not shown) is disposed.

次に、図3〜図8を参照して、本実施形態に係る搬送チャンバ20について説明を行なう。 Next, with reference to FIGS. 3-8, the transfer chamber 20 according to the present embodiment will be described. 図3は、搬送チャンバ20の外観を示す斜視図であり、図4は、搬送チャンバ20の分解斜視図であり、図5は、搬送チャンバ20の下部構造を示す斜視図である。 Figure 3 is a perspective view showing an appearance of the transfer chamber 20, FIG. 4 is an exploded perspective view of a transfer chamber 20, FIG. 5 is a perspective view showing the lower structure of the transfer chamber 20.

真空チャンバである搬送チャンバ20は、主要な構成として平面視および側面視が長方形に形成された主枠体201と、この主枠体201の長辺の対向する側部に接合される一対の補強枠体202a,202bと、主枠体201の上面に着脱自在に接合される天板203と、を備えている。 Transfer chamber 20 is a vacuum chamber, a plan view and a side view the main frame 201 which is formed in a rectangular as main components, a pair of reinforcement is joined to opposite sides of the long sides of the main frame 201 frame 202a, and includes a 202b, a top plate 203 which is freely joined detachably to the upper surface of the main frame 201, a. つまり、主枠体201と補強枠体202a,202bとは、一体となって基板Sを搬送する搬送空間を形成する。 That is, the reinforcing frame member 202a and the main frame 201, and 202b, to form a conveying space for transporting the substrate S together. なお、図3〜図5では図示を省略しているが、搬送チャンバ20内には搬送機構50が配備される。 Incidentally, although not shown in FIGS. 3 to 5, the transport mechanism 50 is deployed to the transfer chamber 20.

主枠体201は、例えばアルミニウム、ステンレス、鉄鋼材料などの金属で構成されている。 The main frame 201, for example, aluminum, stainless steel, and a metal such as steel materials. この主枠体201は、搬送チャンバ20の底部をなす底板204と、該底板204に対して垂直に形成された長辺の側壁208a,208bと、短辺の側壁206,207とを備えている。 The main frame 201 includes a bottom plate 204 forming the bottom of the transfer chamber 20, the side wall 208a of the long sides which are formed perpendicularly to the bottom plate 204, and 208b, and side walls 206 and 207 of the short side . また、底板204に対向して上部開口205が形成され、補強枠体202a,202bと接合される長辺の側壁208a,208bには、側部開口210a,210bが形成されている。 Further, formed an upper opening 205 opposite the bottom plate 204, the reinforcing frame 202a, the long sides of the side wall 208a to be joined and 202b, the 208b, side openings 210a, 210b are formed. この側部開口210a,210bを介して、主枠体201により区画される内部空間と、補強枠体202a,202bとによって区画される内部空間とが連通し、一つの搬送用空間が形成される。 The side openings 210a, via 210 b, and the internal space defined, the reinforcing frame member 202a, communicated with the internal space defined by the 202b, one conveying space is formed by the main frame body 201 .

また、主枠体201の短辺側の側壁206には、ロードロック室30(図1および図2参照)から基板Sを搬入するための搬送用開口211,212が上下に2段に形成されている。 Further, the side wall 206 of the short side of the main frame 201 is conveyed opening 211 and 212 for carrying the substrate S from the load lock chamber 30 (see FIGS. 1 and 2) is formed in two stages in the vertical ing. この搬送用開口211,212は、ロードロック室30で二段に形成されたバッファラック31,32から基板Sを搬入出できるような位置に形成されている。 The transport opening 211 and 212 are formed from the buffer rack 31 and 32 formed on two stages in the load lock chamber 30 in a position that allows loading and unloading the substrate S. また、主枠体201の前記搬送用開口211,212が設けられた側壁206と対向する側壁207には、真空処理室であるプロセスチャンバ10bとの間で基板Sを搬入出するための搬送用開口213が形成されている。 Further, the side walls 207 of the transporting opening 211, 212 of the main frame body 201 is opposed to the side wall 206 is provided, for the transport for loading and unloading the substrate S between the process chamber 10b is a vacuum processing chamber opening 213 is formed.

図6は、主枠体201の要部斜視図であり、図7は、要部断面図である。 Figure 6 is a partial perspective view of the main frame 201, FIG. 7 is a fragmentary cross-sectional view. 主枠体201の上端付近には、上部開口205の中央へ向けて内周フランジ209が突設されている。 In the vicinity of the upper end of the main frame 201, an inner peripheral flange 209 toward the center of the upper opening 205 is projected. 内周フランジ209は、主枠体201の各側壁206,207,208a,208bに対して垂直に設けられ、各側壁206,207,208a,208bの剛性を高めている。 An inner peripheral flange 209, each side wall 206,207,208A main frame 201 is provided perpendicular to 208b, thereby increasing the sidewall 206,207,208A, the rigidity of 208b.

また、内周フランジ209の下部には、内部補強部材としてのL字型補強具221が、仕切り壁221aにより区切られつつ、横方向に内壁面を略1周するように配設されている。 Further, the lower portion of the inner peripheral flange 209, L-shaped brace 221 as an internal reinforcing member, while being separated by the partition walls 221a, are disposed to one turn substantially the inner wall surface in the lateral direction. L字型補強具221は、内周フランジ209の下面と、主枠体201の各側壁206,207,208a,208bとに、例えば溶接により接合されている。 L-shaped stiffeners 221, the lower surface of the inner peripheral flange 209 are joined each side wall 206,207,208a main frame 201, to the 208b, for example by welding. なお、配備されたL字型補強具221と、内周フランジ209の下面と、主枠体201の各側壁206,207,208a,208bとの間には、空間が形成されており、この空間は、L字型補強具221に形成された開口221bによって、搬送チャンバ20内の搬送空間と連通している。 Incidentally, an L-shaped stiffeners 221 deployed, the lower surface of the inner peripheral flange 209, each side wall 206,207,208a main frame 201, between the 208b, are formed spaces, the space is the opening 221b formed in an L-shaped stiffeners 221 is in fluid transfer space and the communication in the transfer chamber 20.

L字型補強具221は、例えばステンレス、アルミニウムなどの金属製の板材をL字型に折曲することによって形成されている。 L-shaped stiffeners 221, for example, stainless steel, and is formed by bending a metal plate such as aluminum in an L-shape. そして、L字型補強具221を主枠体201の内壁面に配備することにより、主枠体201に耐真空剛性を付与し、主枠体201が負圧によって内側に歪むことを防止するように作用する。 By deploying an L-shaped stiffeners 221 on the inner wall surface of the main frame member 201, grants vacuum-proof rigid main frame 201, so that the main frame 201 can be prevented from being distorted inwardly by the negative pressure acting on. なお、内部補強部材の形状としては、L字型に限らず、主枠体201に必要な剛性を付与できるものであればよく、任意の形状とすることができる。 As the shape of the inner reinforcing member is not limited to the L-shape, as long as it can impart rigidity required for the main frame 201 can be any shape.

主枠体201の底板204には、搬送機構50(図2参照)を設置するための開口218が形成されている。 The bottom plate 204 of the main frame 201, an opening 218 for installing the conveying mechanism 50 (see FIG. 2) is formed.

主枠体201に設けられた内周フランジ209の上面には、上部開口205を封止する天板203が着脱自在に接合される。 The upper surface of the inner peripheral flange 209 provided on the main frame 201, top plate 203 that seals the upper opening 205 is freely joined detachably. 天板203は、例えば、アルミニウム、ステンレスなどの金属で構成されており、内周フランジ209に、例えばボルト231等の固定手段により固定される。 The top plate 203, for example, aluminum, the metal is composed of such as stainless steel, the inner peripheral flange 209 is fixed by fixing means such as for example, bolts 231.

補強枠体202a,202bは、例えばアルミニウム、ステンレス、鉄鋼材料などの金属で構成されている。 Reinforcing frame 202a, 202b is, for example, aluminum, stainless steel, and a metal such as steel materials. 各補強枠体202a,202bには、主枠体201と接合する接合面に、開口214が形成されている。 Each reinforcing frame 202a, the 202b, the joint surface to be bonded to the main frame 201, an opening 214 is formed. 各開口214は、主枠体201の長辺側の一対の側壁208a,208bにそれぞれ形成された側部開口210a,210bに対応する大きさで形成されている。 Each opening 214 is formed by a pair of side walls 208a of the long side of the main frame 201, 208b to form respectively a side opening 210a, the size corresponds to 210b of.

補強枠体202a,202bの側壁220,220には、プロセスチャンバ10a,10cとの間で基板の搬入出を行う搬送用開口215,215が形成されている。 Reinforcing frame 202a, the 202b of the side wall 220 and 220, the transport opening 215, 215 of the process chamber 10a, the loading and unloading of the substrate between the 10c performs are formed. また、補強枠体202a,202bの各側壁220,220を間に挟み、そこから拡開するように斜方形成された一対の壁の片方には、搬送チャンバ20内に配備された搬送機構50などのメンテナンスを行うためのメンテナンス用開口216が設けられ、このメンテナンス用開口216は扉217によって気密に封止できるように構成されている。 The reinforcing frame member 202a, sandwiched between the respective side walls 220 and 220 of 202b, the one of the pair of walls which are obliquely formed so as to be widened from there, the transport mechanism 50, which is deployed in the conveying chamber 20 maintenance opening 216 for performing maintenance is provided, such as, the maintenance opening 216 is configured to be hermetically sealed by the door 217.

図8に断面構造を示すように、各補強枠体202a,202bの上下の外壁219には、外部補強部材としての複数のリブ222が格子状に、かつ前記上下の外壁219の壁面に対して垂直に立設されている。 As shown the cross-sectional structure in FIG. 8, each of the reinforcing frame body 202a, the outer wall 219 of the upper and lower 202b, a plurality of ribs 222 as an external reinforcing member in a lattice, and on the sidewalls of the upper and lower outer wall 219 It is erected vertically. リブ222は、例えば鉄、ステンレス、鉄鋼材料などの金属によって構成され、補強枠体202a,202bの耐真空剛性を高めるとともに、補強枠体202a,202bを主枠体201に接合した状態で、搬送チャンバ20全体としての剛性をも高めるように配置されている。 Ribs 222, for example, iron, stainless steel, is constituted by a metal such as steel material, the reinforcing frame body 202a, to increase the vacuum-proof stiffness 202b, while bonded reinforcing frame body 202a, the 202b to the main frame 201, the transport It is arranged so as also enhance the rigidity of the entire chamber 20. なお、リブ222の形状は、格子状に限らず、補強枠体202a,202bの強度を保つことが可能な任意の形状を採用することが可能である。 The shape of the ribs 222 is not limited to a lattice shape, the reinforcing frame 202a, it is possible to employ any shape that can maintain the strength of 202b.

また、主枠体201の底板204には、底板204を外部から補強する底部補強材223が配備されている。 Further, the bottom plate 204 of the main frame body 201 includes a bottom stiffener 223 for reinforcing the bottom plate 204 from the outside is deployed. 底部補強材223は、例えばH鋼などの鋼材によって構成されており、高真空状態で底板204が負圧によって主枠体201の内側へ引き込まれ、湾曲することを防止している。 Bottom stiffener 223 is constituted by, for example, by steel material such as H steel, bottom plate 204 in a high vacuum is pulled to the inside of the main frame 201 by the negative pressure, it is prevented from bending. これにより、主枠体201の底板204の板厚を薄くしても、耐真空強度を確保することが可能になる。 Thus, even by reducing the thickness of the bottom plate 204 of the main frame 201, it is possible to ensure a vacuum-proof strength.

主枠体201と補強枠体202a,202bとの接合は、例えば図7に示すように、主枠体201と補強枠体202a,202bの上端を面一に揃えた状態で、水平方向に長尺な板材である連結補強板224a,224bを当接し、例えばボルト232,232等の固定手段によって連結固定することによって行われる。 Reinforcing frame 202a and the main frame 201, bonding of the 202b, for example, as shown in FIG. 7, a reinforcing frame body 202a and the main frame 201, in a state of aligning the upper end of 202b flush, long in the horizontal direction long plate member at a connection reinforcing plate 224a, 224b to contact is made by connecting and fixing by fixing means such as for example, bolts 232, 232. 連結補強板224a,224bは、例えば鉄、ステンレス、アルミニウム等の材質で構成されている。 Connection reinforcing plates 224a, 224b, for example iron, stainless steel, and is made of a material such as aluminum.

また、補強枠体202a,202bは、主枠体201の側壁208a,208bにも、例えばボルト233,233等の固定手段を用いて接合される。 The reinforcing frame member 202a, 202b is, the side wall 208a of the main frame 201, to be 208b, for example, they are joined by fasteners such as bolts 233 and 233. このようにして、主枠体201と補強枠体202a,202bとが連結されるとともに、連結補強板224a,224bによって、主枠体201の長辺方向の補強がなされるので、搬送チャンバ20の耐真空剛性が確保される。 In this way, the main frame 201 and the reinforcing frame body 202a, with a 202b are connected, connecting the reinforcing plate 224a, by 224b, since reinforcing the long side direction of the main frame body 201 is made, the transfer chamber 20 Vacuum-resistant rigidity is ensured.

主枠体201に補強枠体202a,202bが両側から接合された状態で、主枠体201の側壁208aにおける側部開口210aと補強枠体202aの開口214、および主枠体201の側壁208bにおける側部開口210bと補強枠体202bの開口214とを介して、主枠体201の内部と補強枠体202a,202bの内部が連通し、一体化された基板搬送空間が形成される。 Reinforcing frame 202a to the main frame 201, 202b is in a state of being bonded on both sides, in the side walls 208b of the side openings 210a and the reinforcing frame body 202a of the opening 214, and a main frame body 201 on the side wall 208a of the main frame 201 through an opening 214 in the side openings 210b and the reinforcing frame body 202b, inside a reinforcement frame member 202a of the main frame 201, the inside of 202b are communicated, integrated substrate conveying space is formed. つまり、従来の搬送チャンバにおける搬送空間のうち、長辺方向の両側部付近の空間が、補強枠体202a,202bの内部空間によって代替される。 That is, of the transfer space in a conventional transfer chamber, the space in the vicinity of both side portions of the long side direction, the reinforcing frame 202a, is replaced by the internal space of 202b. このように主枠体201と補強枠体202a,202bの内部に一体的に基板搬送空間が形成されるようにすることによって、その中に設置された搬送機構50の基板支持プレート54に基板Sを載置支持した状態で、各プロセスチャンバ10a,10b,10cおよびロードロック室30との間で基板搬送を行う際に、十分な旋回半径(搬送空間)を確保することができる。 Thus the reinforcing frame member 202a and the main frame member 201, by allowing integrally substrate conveying space is formed in the 202b, the substrate S on the substrate supporting plate 54 of the transport mechanism 50 installed therein with mounted support state, each process chamber 10a, 10b, when the substrate is transported between 10c and the load lock chamber 30, it is possible to ensure a sufficient turning radius (conveyance space).

そして、主枠体201と補強枠体202a,202bとが接合され一体化した搬送チャンバ20は、プロセスチャンバ10a,10b,10cの中央部に配置され、ゲートバルブ22を介して各プロセスチャンバ10a,10b,10cおよびロードロック室30との間で基板Sを受渡し可能に連結される。 The main frame 201 and the reinforcing frame body 202a, the conveying chamber 20 202b and are integrated is joined, the process chamber 10a, 10b, are disposed in the central portion of 10c, each process chamber 10a through the gate valve 22, 10b, it is passed coupling the substrate S between 10c and the load lock chamber 30.

このように本実施形態では、3つに分割された各構成部分(主枠体201と、その両側の補強枠体202a,202b)を接合して真空チャンバを構成することにより、基板Sの大型化にも容易に対応することが可能になる。 As described above, in this embodiment, (the main frame 201, both sides of the reinforcing frame member 202a, 202b) each component divided into three by forming a vacuum chamber by bonding, large substrate S also it is possible to easily cope to reduction.
すなわち、従来の一体構造の真空チャンバの場合には、真空チャンバとして必要な剛性を保ちながら大型化を図るためには、加工に大型の切削機械を必要とするなどの製造上の制約や、重量の増大による移送や取り扱いの困難を伴うが、分割構造とすることにより、各部をそれぞれ別々に加工することが可能になるため、製造や移送、取り扱いが格段に容易になる。 That is, when the vacuum chamber of the conventional integral structure, in order to size while maintaining the rigidity required as the vacuum chamber, constraints and in manufacturing, such as requiring a large cutting machine for processing, the weight Although difficulties of transport and handling due to an increase, by a divided structure, it becomes possible to process separately each respective parts, manufacturing and transport, handling it becomes much easier.

また、搬送チャンバ20を設置する前は主枠体201と補強枠体202a,202bを3つに分割した状態で移送することができるので、法令上の運行制限なども受けにくくなる。 The reinforcing frame member 202a and the main frame body 201 before installing the transfer chamber 20, it is possible to transport in a state divided into three 202b, hardly subject to such operating limits of statutory.

また、補強枠体202a,202bを主枠体201に連結補強板224a,224bを用いて接合することにより、上面に大きな上部開口205を有し、剛性を保ちにくい主枠体201の耐真空強度を向上させることが可能になる。 Further, vacuum proof strength of the reinforcing frame member 202a, 202b of the connection reinforcing plate 224a to the main frame body 201, by bonding with 224b, has a large upper opening 205 on the upper surface, hardly keeping the rigid main frame 201 it is possible to improve. すなわち、補強枠体202a,202bは、主枠体201の長辺方向の側部に接合されて補強用部材として機能するので、搬送チャンバ20全体として十分な耐真空強度を得ることが可能になる。 That is, the reinforcing frame member 202a, 202b, so functions as a reinforcing member is joined to the long side direction of the side of the main frame 201, it is possible to obtain a sufficient vacuum-proof strength as a whole transfer chamber 20 .

また、主枠体201の内周面にL字型補強具221を配設して剛性を高めることにより、主枠体201を構成する板材の厚さを薄くしても、高真空状態での主枠体201の歪みを抑えることが可能になる。 Further, by increasing the rigidity by disposing the L-shaped stiffeners 221 on the inner peripheral surface of the main frame 201, even when the thickness of the sheet material constituting the main frame 201, in a high vacuum state it is possible to suppress the distortion of the main frame body 201.

また、補強枠体202a,202bの外壁面に、格子状のリブ222を配備して剛性を保つ構成としたので、補強枠体202a,202bを構成する板材の厚さを薄くし、軽量化を図ることが可能になる。 The reinforcing frame member 202a, the outer wall surface of the 202b, since a structure to keep the rigidity by deploying a grid rib 222, the thickness of the plate material constituting the reinforcing frame member 202a, 202b, the weight of it is possible to achieve.

また、以上のように、主枠体201と補強枠体202a,202bとの板厚を削減できることにより、加工が容易になるとともに軽量化を図ることが可能になるから、従来の一体型真空チャンバに比較して素材コスト、加工コスト等の製作コストを削減できるだけでなく、運送コストも低減できる。 Further, as described above, the main frame 201 and the reinforcing frame 202a, by which can reduce the thickness of the 202b, because it is possible to reduce the weight with the processing becomes easy, conventional integrated vacuum chamber compared to material cost, not only can reduce the production cost of such processing costs, also transportation cost can be reduced to.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。 The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible. 例えば、被処理体としては、FPD用のガラス基板に限られず、半導体ウエハであってもよい。 For example, the object to be processed is not limited to a glass substrate for FPD, it may be a semiconductor wafer.

また、上記実施形態では、補強枠体202a,202bとして、外壁面にリブ222を配備して剛性を高めたが、補強枠体自体の板厚を厚く形成して剛性を高めたものを使用することも可能である。 In the above embodiment, the reinforcing frame member 202a, as 202b, but with increased stiffness and deploy ribs 222 on the outer wall surface, to use those with increased stiffness by thicker plate thickness of the reinforcing frame itself it is also possible.

さらに、上記実施形態では、平面視が四角形状の主枠体201を例に挙げて説明を行ったが、主枠体201の平面形状は四角形に限るものではなく、例えば6角形、8角形等の多角形状であってもよい。 Furthermore, in the above embodiment, in plan view it has been described as a rectangular main frame 201 as an example, the planar shape of the main frame 201 is not limited to a square, for example hexagonal, octagonal, etc. it may be a polygonal shape. また、補強枠体も2つに限るものではなく、3つ以上を主枠体に接合させることが可能である。 The reinforcing frame is also not limited to two, it is possible to join the more than three in the main frame.

また、上記実施形態では、搬送チャンバ20に分割構造を適用したが、チャンバの分割構造は、搬送チャンバに限らず、例えば真空予備室であるロードロック室や、真空処理室であるプロセスチャンバにも適用することができる。 Further, in the above embodiment, the application of the divided structure to the transfer chamber 20, dividing the structure of the chamber is not limited to the transfer chamber, for example the load lock chamber and a preliminary vacuum chamber, in the process chamber is a vacuum processing chamber it is possible to apply.

本発明の一実施形態に係る真空処理装置の概要を示す斜視図である。 Is a perspective view showing an outline of a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図1の真空処理装置の水平断面図である。 It is a horizontal sectional view of the vacuum processing apparatus of FIG. 搬送チャンバの外観構成を示す図面である。 Is a drawing showing an external configuration of the transfer chamber. 搬送チャンバの分解斜視図である。 It is an exploded perspective view of the transfer chamber. 搬送チャンバを底面側からみた斜視図である。 The conveying chamber is a perspective view from the bottom side. 主枠体の要部斜視図である。 It is a partial perspective view of the main frame. 主枠体にL字型補強具および連結補強板を装着した状態を説明する要部断面図である。 It is a fragmentary cross-sectional view illustrating a state of mounting the L-shaped stiffeners and connection reinforcing plate to the main frame. 補強枠体の断面図である。 It is a cross-sectional view of the reinforcing frame.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1;真空処理装置 10a,10b,10c;プロセスチャンバ 20;搬送チャンバ 30;ロードロック室 31,32;バッファ 50;搬送機構 201;主枠体 202a,202b;補強枠体 203;天板 204;底板 205;上部開口 210b,210b;側部開口 211,212、213;搬送用開口 214;開口 215;搬送用開口 216;メンテナンス用開口 217;扉 221;L字型補強具 222;リブ 223;底部補強材 224a,224b;連結補強板 1; vacuum processing apparatus 10a, 10b, 10c; the process chamber 20; transfer chamber 30; load lock chambers 31 and 32; the buffer 50; the transport mechanism 201; main frame 202a, 202b; reinforcing frame 203; the top plate 204; a bottom plate 205; upper opening 210 b, 210 b; side openings 211, 212, 213; conveying opening 214; opening 215 a transport opening 216; maintenance opening 217; door 221; L-shaped stiffeners 222; rib 223; bottom reinforcement Material 224a, 224b; connection reinforcing plate

Claims (15)

  1. 多角形状に形成され、底部をなす底板を有し、該底板に対向する上面が開口した主枠体と、 Is formed in a polygonal shape, it has a bottom plate forming the bottom, and the main frame member upper surface facing the bottom plate is opened,
    前記主枠体の対向する側部にそれぞれ接合される少なくとも一対の補強枠体と、 At least a pair of reinforcing frame member are joined respectively to opposite sides of the main frame,
    前記主枠体の上部に着脱自在に接合される部材と、 A member which is detachably joined to the upper portion of the main frame,
    を備え、 Equipped with a,
    前記主枠体と前記補強枠体とが接合され、一体となって被処理基板を収容する空間を形成するとともに、前記主枠体の側部と、前記補強枠体の側部には、それぞれ側部開口が形成され、該側部開口を介して前記主枠体の内部と前記補強枠体の内部が連通し、前記被処理基板を収容する空間を形成し、 It said main frame and said reinforcing frame body is joined together to form a space for accommodating a substrate to be processed together, and the side of the main frame, on the side of the reinforcing frame body, respectively side opening is formed, through internal communication with the interior and the reinforcing frame member of the main frame through the said side opening, forms a space for accommodating the substrate to be processed,
    前記主枠体の内壁面に、前記主枠体の上端近傍において前記開口の内側に向けて突設されたフランジと、前記主枠体の壁面と、に接合される断面L字型の補強部材である内部補強部材を配設したことを特徴とする、真空チャンバ。 The inner wall surface of the main frame, and a flange which protrudes toward the inside of the opening in the vicinity of the upper end of the main frame, the reinforcing member of the L-shaped cross section which is joined to the wall surface of the main frame characterized in that disposed inside the reinforcing member is a vacuum chamber.
  2. 前記主枠体と前記補強枠体とを接合することにより、前記主枠体の耐真空強度を向上させていることを特徴とする、請求項1に記載の真空チャンバ。 By bonding the reinforcing frame body and the main frame, characterized in that to improve the vacuum-proof strength of the main frame, the vacuum chamber according to claim 1.
  3. 前記補強枠体の外壁面に、外部補強部材を配設したことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の真空チャンバ。 Wherein the outer wall surface of the reinforcing frame, characterized in that arranged outside the reinforcing member, according to claim 1 or a vacuum chamber according to claim 2.
  4. 前記外部補強部材として、前記外壁面に対して垂直なリブを格子状に立設したことを特徴とする、請求項3に記載の真空チャンバ。 As regards the outside reinforcing member, characterized in that erected perpendicular ribs in a lattice with respect to the outer wall surface, the vacuum chamber according to claim 3.
  5. 前記リブを、前記補強枠体の上下に対向する壁の外壁面に設けたことを特徴とする、請求項4に記載の真空チャンバ。 It said ribs, characterized in that provided on the outer wall surface of the wall facing the top and bottom of the reinforcing frame, the vacuum chamber according to claim 4.
  6. 前記接合される部材は、前記フランジの上面に載置され、接合されるものであることを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の真空チャンバ。 Member to be the bonding, the placed on the upper surface of the flange, characterized in that intended to be joined, the vacuum chamber according to any one of claims 1 to 5.
  7. 前記主枠体と前記補強枠体とを接合する連結板を備えたことを特徴とする、請求項1から請求項のいずれか1項に記載の真空チャンバ。 Characterized by comprising a connecting plate for bonding the reinforcing frame body and the main frame, the vacuum chamber as claimed in any one of claims 6.
  8. 前記連結板は、前記主枠体の上端と、前記補強枠体の上端とを接合するものであることを特徴とする、請求項に記載の真空チャンバ。 The connecting plate is characterized in that it is intended to bond the upper end of the main frame, an upper end of the reinforcing frame, the vacuum chamber according to claim 7.
  9. 前記底板の外壁面に、底部補強部材を配設したことを特徴とする、請求項1から請求項のいずれか1項に記載の真空チャンバ。 Wherein the outer wall surface of the bottom plate, characterized in that disposed bottom reinforcing member, the vacuum chamber according to any one of claims 1 to 8.
  10. 前記真空チャンバは、その内部に被処理基板を真空状態で搬送する搬送装置を備えた搬送チャンバであることを特徴とする、請求項1から請求項のいずれか1項に記載の真空チャンバ。 The vacuum chamber is characterized in that a substrate to be processed is a transfer chamber having a transfer device for transferring in a vacuum therein, the vacuum chamber as claimed in any one of claims 9.
  11. 前記主枠体の対向する一対の側壁に、被処理基板を搬入出する搬入出用開口を形成したことを特徴とする、請求項10に記載の真空チャンバ。 A pair of opposite side walls of the main frame, characterized in that the formation of the opening for loading and unloading loading and unloading a substrate to be processed, the vacuum chamber according to claim 10.
  12. 前記補強枠体の側壁に、被処理基板を搬入出する搬入出用開口を形成したことを特徴とする、請求項10または請求項11に記載の真空チャンバ。 Wherein the side wall of the reinforcing frame, characterized in that the formation of the opening for loading and unloading loading and unloading a substrate to be processed, according to claim 10 or vacuum chamber of claim 11.
  13. 前記補強枠体の側部に、メンテナンス用開口を形成したことを特徴とする、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の真空チャンバ。 Wherein the sides of the reinforcing frame, characterized in that the opening is formed for maintenance, the vacuum chamber according to any one of claims 1 to 12.
  14. 被処理基板が、フラットパネルディスプレイ用基板であることを特徴とする、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の真空チャンバ。 Target substrate, characterized in that it is a substrate for a flat panel display, a vacuum chamber as claimed in any one of claims 13.
  15. 請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の真空チャンバと、 A vacuum chamber as claimed in any one of claims 14,
    前記真空チャンバに連結され、被処理基板の処理を行う複数の真空処理室と、 Coupled to said vacuum chamber, a plurality of vacuum processing chamber for processing a substrate to be processed,
    を備えたことを特徴とする、真空処理装置。 Characterized by comprising a vacuum processing apparatus.
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