JP4770892B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
請求項2に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項1に記載の発明において、前記低誘電率膜のガラス転移温度は400℃以上であることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項1または2に記載の発明において、前記下層保護膜を形成した後に、前記下層保護膜の下面をダイシングテープの上面に貼り付け、この後に、前記粘着テープを剥離することを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項1乃至3の何れか一項に記載の発明において、前記ダイシングストリートに沿って切断して個々の半導体装置を複数個得る工程後に、前記半導体装置を前記ダイシングテープから剥離する工程を有することを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項1乃至4の何れか一項に記載の発明において、前記電極用接続パッド部を形成する工程は、前記絶縁膜上に前記電極用接続パッド部を有する上層配線を形成する工程であることを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項5に記載の発明において、前記外部接続用バンプ電極は、前記上層配線の接続パッド部上に形成された柱状電極であることを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項6に記載の発明において、前記柱状電極上に半田ボールを形成する工程を有することを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項1乃至7の何れか一項に記載の発明において、前記低誘電率膜は、Si−O結合とSi−H結合を有するポリシロキサン系材料、Si−O結合とSi−CH3結合を有するポリシロキサン系材料、炭素添加酸化シリコン、有機ポリマー系のlow−k材料のいずれかを含み、あるいは、フッ素添加酸化シリコン、ボロン添加酸化シリコン、酸化シリコンのいずれかであってポーラス型のものを含むことを特徴とするものである。
図1はこの発明の第1実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置はシリコン基板(半導体基板)1を備えている。シリコン基板1の上面には所定の機能の集積回路、特に、トランジスタ、ダイオード、抵抗、コンデンサ等の素子(図示せず)が形成され、上面周辺部には、上記集積回路の各素子に接続されアルミニウム系金属等からなる接続パッド2が設けられている。接続パッド2は2個のみを図示するが実際にはシリコン基板1の上面に多数配列されている。シリコン基板1の上面には上記集積回路の各素子を接続するための低誘電率膜配線積層構造部3が設けられている。低誘電率膜配線積層構造部3は、複数層例えば4層の低誘電率膜4と同数層の銅やアルミニウム系金属等からなる配線5とが交互に積層された構造となっている。
図13はこの発明の第2実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す半導体装置と異なる点は、パッシベーション膜7のサイズを上層保護膜9のサイズよりも小さくし、パッシベーション膜7の側面を上層保護膜9の側面よりも内側に配置した点である。この場合、パッシベーション膜7をフォトリソグラフィ法によりパターン形成した後に、上層保護膜7をフォトリソグラフィ法によりパターン形成すればよい。
上記実施形態では、上層保護膜9上に上層配線11を形成し、この上層配線11の接続パッド部上に柱状電極14を形成した構造を有するものであるが、この発明は、上層保護膜9上に接続パッド部のみを形成し、この接続パッド部上に柱状電極14や半田ボール16等の外部接続用バンプ電極を形成する構造に適用することもできる。
2 接続パッド
3 低誘電率膜配線積層構造部
4 低誘電率膜
5 配線
7 パッシベーション膜
9 上層保護膜
11 上層配線
14 柱状電極
15 封止膜
16 半田ボール
17 下層保護膜
21 半導体ウエハ
22 ダイシングストリート
23 開口部
24 粘着テープ
25 ダイシングテープ
26 溝
Claims (8)
- 半導体ウエハの一面上に、比誘電率が3.0以下である低誘電率膜と配線とが積層された低誘電率膜配線積層構造部が形成され、ダイシングストリートおよびその両側の領域以外の領域における前記低誘電率膜配線積層構造部上に絶縁膜が形成され、前記絶縁膜上に電極用接続パッド部が前記低誘電率膜配線積層構造部の最上層の配線の接続パッド部に接続されて形成され、前記電極用接続パッド部上に外部接続用バンプ電極が形成されたものを準備する工程と、
前記準備したものの上面に粘着テープを貼り付ける工程と、
前記半導体ウエハの下面側を研削して該半導体ウエハの厚さを薄くする工程と、
前記半導体ウエハの下面に有機樹脂からなる下層保護膜を形成する工程と、
前記粘着テープを剥離する工程と、
前記ダイシングストリートおよびその両側の領域における前記低誘電率膜配線積層構造部および前記半導体ウエハをレーザビームを照射することにより除去して、前記低誘電率膜配線積層構造部の側面、前記半導体ウエハの側面および前記下層保護膜の上面を露出する溝を形成する工程と、
前記溝内および前記絶縁膜上における前記外部接続用バンプ電極の周囲に有機樹脂からなる封止膜を形成する工程と、
前記封止膜および前記下層保護膜を前記溝内の中央部の前記ダイシングストリートに沿って切断して、個々の半導体装置を複数個得る工程と、
をこの順で行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の発明において、前記低誘電率膜のガラス転移温度は400℃以上であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記下層保護膜を形成した後に、前記下層保護膜の下面をダイシングテープの上面に貼り付け、この後に、前記粘着テープを剥離することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1乃至3の何れか一項に記載の発明において、前記ダイシングストリートに沿って切断して個々の半導体装置を複数個得る工程後に、前記半導体装置をダイシングテープから剥離する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1乃至4の何れか一項に記載の発明において、前記電極用接続パッド部を形成する工程は、前記絶縁膜上に前記電極用接続パッド部を有する上層配線を形成する工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項5に記載の発明において、前記外部接続用バンプ電極は、前記上層配線の接続パッド部上に形成された柱状電極であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項6に記載の発明において、前記柱状電極上に半田ボールを形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1乃至7の何れか一項に記載の発明において、前記低誘電率膜は、Si−O結合とSi−H結合を有するポリシロキサン系材料、Si−O結合とSi−CH3結合を有するポリシロキサン系材料、炭素添加酸化シリコン、有機ポリマー系のlow−k材料のいずれかを含み、あるいは、フッ素添加酸化シリコン、ボロン添加酸化シリコン、酸化シリコンのいずれかであってポーラス型のものを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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