JP4770014B2 - Icキャリアとその製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、SIMカードなどのICキャリアと、当該ICキャリアの製造方法とに関する。
【0002】
【従来の技術】
特開平11−25248号公報および特開2000−90218号公報には、板状枠体付きICキャリアの発明が開示されている。
特開平6−24188号公報には、規格フォーマットのICカードを製造した後に、当該規格フォーマットのICカードに対して縮小フォーマットのICキャリアのプレカット輪郭を形成し、ICキャリアを本体から取り外すことが開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ICカードの製造後に当該ICカードの一部分を分離してICキャリアとするICキャリアの製造方法では、ICカードからICキャリアが除かれた部分である板状枠体が生じるので、ICキャリアの製造コストが高くなる。
また、板状枠体とICキャリアとの間のブリッジ部が、板状枠体からのICキャリアの取り外し時にICキャリアに残存したり、逆にブリッジ部のつけ根の部分がICキャリアから欠けたりするおそれがある。
【0004】
本発明の目的は、板状枠体を不要とすることが可能なICキャリアの製造方法と、当該製造方法により製造可能なICキャリアとを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、平面形状が矩形状のICモジュールと合成樹脂と有するICキャリアを製造する方法であって、
ICチップが埋設され、平面形状が矩形のモジュール基板、および、当該モジュール基板に埋設されている前記ICチップに電気的に接続され、当該モジュール基板の一方の面に突出して固定され、平面形状が矩形で、平坦な表面を持ち、複数の接続部に区画されている端子部を有するICモジュールを準備し、
前記ICキャリアの矩形の形状および寸法を規定する矩形の形状および寸法を有し、当該矩形の形状の一辺の長さが前記ICモジュールの1辺を嵌入させ得る長さであり、深さが前記ICキャリアの厚さを規定する深さを有する、空洞と、当該空洞の底部に前記ICモジュールが嵌入されたとき前記端子部に対応する位置に当該空洞の底部を貫通して形成された吸引口と、前記空洞の上部側面から樹脂を注入する樹脂注入口とを有する第1金型を準備し、
前記ICモジュールを、前記端子部が前記吸引口の上部に位置し、当該ICモジュールの1辺を嵌入させて前記第1の金型の前記空洞の底部まで嵌入させ、
前記第1の金型の前記空洞および前記樹脂注入口を塞ぐ第2の金型を前記第1の金型と一体にし、
前記吸引口から真空吸引して、前記空洞に嵌入された前記ICモジュールを前記空洞内の底部に固定し、
前記注入口から溶融樹脂を、前記モジュール基板の前記一方の面に突出して固定された前記端子部の周囲かつ前記端子部と同一面まで充満し、かつ、前記モジュール基板の他方の面に所定の厚さで充満し、前記端子部の周囲の溶融樹脂と前記モジュール基板の他方の面側の溶融樹脂とが連続するように、注入し、
所定時間、保圧し、
前記注入した樹脂を硬化させ、
前記第2の金型を型開きし、
前記空洞に形成された、前記ICモジュールと前記硬化した合成樹脂と有する当該ICキャリアを前記空洞から取り出す、
ICキャリアの製造方法が提供される。
【0006】
好ましくは、前記空洞から前記ICキャリアを取り出した後、前記注入口に残存した合成樹脂に対応する硬化した合成樹脂を除去する。
好ましくは、あるいは、前記溶融樹脂を硬化させる前、前記注入口に残存した合成樹脂を除去する。
【0007】
好ましくは、前記合成樹脂は、ホリカーボネートとABS樹脂との複合材料である。
【0008】
好ましくは、前記溶融樹脂の温度は約240°C、前記溶融樹脂の前記空洞への射出圧力は、約8MPa、前記溶融樹脂の充填時間は、約0.3秒、保圧は約4MPa、保圧力時間は約10秒である。
【0009】
好ましくは、前記第1の金型の前記空洞には、矩形の平面形状の少なくとも1隅に、傾斜した切り欠きが形成されている。
【0010】
好ましくは、前記ICキャリアは、SIMカードである。
【0011】
また本発明によれば、上記ICキャリアの製造方法によって製造された、前記ICモジュール、および、当該ICモジュールを包囲して形成された合成樹脂と有するICキャリアが提供される。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して説明する。
【0016】
図1は、本発明に係るICキャリアの実施の形態を示す説明図である。
図1(A)は、ICキャリア10の概略的な正面図であり、図1(B)は、図1(A)のICキャリア10の切断線c−cにおける概略的な矢視断面図である。
【0017】
このICキャリア10は、SIM(Subscribed Identification Module、又は、Subscriber Identity Module)カードであり、傾斜部4により、カード処理装置に対するカード挿入方向が規定される。ICキャリア10の横方向(長手方向)のサイズは約25mmであり、縦方向のサイズは約15mmであり、厚さが約0.8mmである。ICキャリア10は、長方形の一隅を切り取って残りの三隅を丸めたような形状を有する。
【0018】
ICキャリア10は、端子部1と、モジュール基板2と、合成樹脂3とを有する。
ICキャリア10の一方の面は、平坦または実質的に平坦であり、端子部1および合成樹脂3により構成されている。端子部1の周囲には、合成樹脂3が位置している。端子部1の表面(端子面)には、金メッキが施されており、端子部1は、8個の接続端子に分離されている。
【0019】
ICキャリア10の他方の面(すなわち裏面)は、平坦または実質的に平坦であり、合成樹脂3により構成されている。
モジュール基板2の一方の面には、端子部1が形成されており、モジュール基板2の一方の面のうち端子部1の周囲は合成樹脂3により覆われている。モジュール基板2の他方の面は、合成樹脂3により覆われている。このように、モジュール基板2のうち、横方向(長手方向)に沿った側面および端子部1以外の領域は、合成樹脂3により覆われている。
【0020】
ICキャリア10は、図2に示すICモジュール20を有する。
図2(A)は、ICモジュール20の概略的な正面図であり、図2(B)は、図2(A)のICモジュール20の切断線d−dにおける概略的な矢視断面図である。
【0021】
ICモジュール20は、端子部1およびモジュール基板2を有する。
モジュール基板2の一方の面および他方の面は、平坦または実質的に平坦である。モジュール基板2の一方の面には、端子部1が形成されており、端子部1に接続された不図示のICチップが、モジュール基板2に埋没され、モジュール基板2に内包されている。
【0022】
モジュール基板2の形状は、矩形状または略矩形状である。
モジュール基板2の縦方向のサイズは、ICキャリア10の縦方向(長手方向に対して垂直な方向)のサイズ以下であって、当該ICキャリア10の縦方向のサイズと同一または略同一である。
モジュール基板2の横方向のサイズは、ICキャリア10の端子部1の横方向のサイズ以上であって、当該ICキャリア10の端子部1の横方向のサイズと同一または略同一である。
ICモジュール20の厚さは、ICキャリア10の厚さよりも薄い。なお、端子部1でのICモジュール20の厚さは、モジュール基板2でのICモジュール20の厚さよりも厚い。一例として、モジュール基板2の厚さを約0.3mmとし、端子部1の厚さを約0.3mmとする。
【0023】
図3および図4は、図1のICキャリア10の製造に使用する製造用金型を例示する概略的な説明図である。
図3(A)は、製造用金型50の概略的な平面図であり、上型を省略して描いており、下型51の上面図を示している。図3(B)は、図3(A)の製造用金型50の上型および下型における切断線e−eでの概略的な断面図である。
図4は、図3(A)の製造用金型50の上型および下型における切断線f−fでの概略的な断面図である。
【0024】
図3および図4に示す金型50の空洞(キャビティ)53の底面には、吸引口59が形成されている。空洞53の深さは、約0.8mmである。
この空洞53には、ICモジュール20が嵌め込まれており、端子部1の表面が空洞53の底面の吸引口59を覆うように、ICモジュール20が配置されている。ICモジュール20は、吸引口59からの真空吸引力により、空洞53の底面に吸引されて保持されている。
【0025】
空洞53の互いに対向する両対向壁のうち、ICキャリア10の長手方向に対応する第1の両対向壁は、ICモジュール20のモジュール基板2の短辺が、接触した状態または微小に離れた状態となっている。これにより、空洞53内でのICモジュール20の縦方向についての位置合わせを行うことができると共に、ICモジュール20のがたつきを防止することができる。
第1の両対向壁に垂直または略垂直な第2の両対向壁のうち、ICキャリア10の傾斜部4に対応する壁54に隣接した壁57には、溶融状態の合成樹脂(溶融樹脂)が通過する注入口52が形成されている。
【0026】
このように、金型50の空洞53の底面に、ICモジュール20を吸着して保持する。また、金型50の温度は、一例として約50℃とする。
次に、溶融樹脂を注入口52に注入し、溶融樹脂を空洞53に充填する。一例として、注入する溶融樹脂の温度を約240℃とし、射出圧力を約8MPaとし、充填時間を約0.3秒とし、保圧を約4MPaとし、保圧時間を約10秒とし、溶融樹脂をポリカーボネートとABS(アクリルニトリル/ブタジエン/スチレン)樹脂との複合材料とする。
【0027】
次に、充填された合成樹脂が硬化した後に金型50を型開きし、成形品を取り出して注入口52に対応する樹脂部分を除去することで、図1の形状のICキャリア10を得ることができる。あるいは、充填された溶融状態の合成樹脂から注入口52に対応する部分を除去して硬化し、金型50を型開きして成形品を取り出すことで、図1の形状のICキャリア10を得ることができる。
【0028】
このようにして射出成形されたICキャリア10の表裏に対し、シルク印刷またはシルクスクリーン印刷により絵柄を印刷することで、ICキャリア10の商品性を向上可能である。
【0029】
製造用金型50により射出成形されたICキャリア10は、板状枠体が不要である。したがって、板状枠体とICキャリアを板状枠体から取り外す従来の製法ではICキャリアに曲げおよび/またはねじりの負荷が加わるおそれがあるが、射出成形によるICキャリア10ではこのようなことがない。
また、ICキャリア10を射出成形により製造する上記製造方法は、複数のシートを積層して製造する場合に比べ、大量生産に適している。
さらに、ICキャリア10は、モジュール基板2の表裏が同一の合成樹脂3で覆われているので、ICキャリア10の機械的強度および信頼性を向上可能である。
【0030】
このような点から、ICキャリア10は、例えば、通話料金を前払いして購入する携帯電話用のプリペイドカードに好適である。
なお、上記実施の形態は本発明の例示であり、本発明は上記実施の形態に限定されない。
【0031】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、板状枠体を不要とすることが可能なICキャリアの製造方法と、当該製造方法により製造可能なICキャリアとを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るICキャリアの実施の形態を示す概略的な説明図である。
【図2】図1のICキャリアが有するICモジュールの概略的な説明図である。
【図3】図1のICキャリアの製造に使用する製造用金型を例示する第1の説明図である。
【図4】図1のICキャリアの製造に使用する製造用金型を例示する第2の説明図である。
【符号の説明】
1…端子部、2…モジュール基板、3…合成樹脂、4…傾斜部、10…ICキャリア、20…ICモジュール、50…金型(製造用金型)、51…下型、52…注入口(ゲート)、53…空洞(キャビティ)、54,55…壁、56…上型、59…吸引口。

Claims (8)

  1. 平面形状が矩形状のICモジュールと合成樹脂と有するICキャリアを製造する方法であって、
    ICチップが埋設され、平面形状が矩形のモジュール基板、および、当該モジュール基板に埋設されている前記ICチップに電気的に接続され、当該モジュール基板の一方の面に突出して固定され、平面形状が矩形で、平坦な表面を持ち、複数の接続部に区画されている端子部を有するICモジュールを準備し、
    前記ICキャリアの矩形の形状および寸法を規定する矩形の形状および寸法を有し、当該矩形の形状の一辺の長さが前記ICモジュールの1辺を嵌入させ得る長さであり、深さが前記ICキャリアの厚さを規定する深さを有する、空洞と、当該空洞の底部に前記ICモジュールが嵌入されたとき前記端子部に対応する位置に当該空洞の底部を貫通して形成された吸引口と、前記空洞の上部側面から樹脂を注入する樹脂注入口とを有する第1金型を準備し、
    前記ICモジュールを、前記端子部が前記吸引口の上部に位置し、当該ICモジュールの1辺を嵌入させて前記第1の金型の前記空洞の底部まで嵌入させ、
    前記第1の金型の前記空洞および前記樹脂注入口を塞ぐ第2の金型を前記第1の金型と一体にし、
    前記吸引口から真空吸引して、前記空洞に嵌入された前記ICモジュールを前記空洞内の底部に固定し、
    前記注入口から溶融樹脂を、前記モジュール基板の前記一方の面に突出して固定された前記端子部の周囲かつ前記端子部と同一面まで充満し、かつ、前記モジュール基板の他方の面に所定の厚さで充満し、前記端子部の周囲の溶融樹脂と前記モジュール基板の他方の面側の溶融樹脂とが連続するように、注入し、
    所定時間、保圧し、
    前記注入した樹脂を硬化させ、
    前記第2の金型を型開きし、
    前記空洞に形成された、前記ICモジュールと前記硬化した合成樹脂と有する当該ICキャリアを前記空洞から取り出す、
    ICキャリアの製造方法。
  2. 前記空洞から前記ICキャリアを取り出した後、前記注入口に残存した合成樹脂に対応する硬化した合成樹脂を除去する、
    請求項1に記載のICキャリアの製造方法。
  3. 前記溶融樹脂を硬化させる前、前記注入口に残存した合成樹脂を除去する、
    請求項1に記載のICキャリアの製造方法。
  4. 前記合成樹脂は、ホリカーボネートとABS樹脂との複合材料である、
    請求項1〜3いずれかに記載のICキャリアの製造方法。
  5. 前記溶融樹脂の温度は約240°C、
    前記溶融樹脂の前記空洞への射出圧力は、約8MPa、
    前記溶融樹脂の充填時間は、約0.3秒、
    保圧は約4MPa、
    保圧力時間は約10秒である、
    請求項4に記載のICキャリアの製造方法。
  6. 前記第1の金型の前記空洞には、矩形の平面形状の少なくとも1隅に、傾斜した切り欠きが形成されている、
    請求項1〜5のいずれかに記載のICキャリアの製造方法。
  7. 前記ICキャリアは、SIMカードである、
    請求項1〜6のいずれかに記載のICキャリアの製造方法。
  8. 請求項1〜6のいずれかに記載のICキャリアの製造方法によって製造された
    、前記ICモジュール、および、当該ICモジュールを包囲して形成された合成樹脂と有
    するICキャリア。
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