JP4760404B2 - フォトマスク - Google Patents
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Description
このため、フォトマスク製造後の検査では無欠陥の良好な品質状態であっても、露光装置でエキシマレーザ照射を繰り返すうちに、フォトマスク上に異物が生じ、ウェハへの良好なパターン転写像が得られなくなるという問題があった。
その結果、例えば、成長性異物の成長をモニターすることにより、マスクの寿命を予測して使用制限をする方法などが考えられている(例えば、特許文献3参照)。
イオン不透過性の薄膜でマスク基板の少なくとも表裏の主面を覆うことにより、露光中に、透明基板に残存する酸イオンが環境中のアルカリイオンと接触し反応するのを遮る作用を呈するものである。
本発明のイオン不透過性の薄膜に用いるフッ素樹脂は、スピン塗布成膜が可能なため、真空成膜で形成される膜よりも安価に無欠陥の薄膜が形成し易いという利点を有する。また、フッ素樹脂膜を塗布形成した後、もしも欠陥が検出された場合には、マスクパターンを損なうことなく剥離し、再度フッ素樹脂膜を塗布形成し、欠陥の無いフォトマスクとすることが容易に可能である。
図1は、本発明のフォトマスクの実施形態の一例を示す断面模式図であり、図2〜図4は、本発明のフォトマスクの製造方法の実施形態を示す断面模式図である。
図1に示す本発明のフォトマスク100は、透明基板101の一方の主面(以後、表面とも記す)側にマスクパターン102を有し、少なくともマスクパターン102を含む一方の主面側全面と、この一方の主面に相対する他方の主面(以後、裏面とも記す)側全面とが、露光光に対して透過率の高いイオン不透過性の薄膜104a、104bで覆われているものである。図1では、透明基板101の側面は露出している構成を示しているが、本発明においては、透明基板101の表裏の主面側のみならず、透明基板101の4つの側面全面も露光光に対して透過率の高いイオン不透過性の薄膜で覆われていてもよい。
露光光に水銀灯のg線やi線を用いる場合には、ボロシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラスなどの低熱膨張ガラス、ソーダライムガラスなどを用いることができる。
本発明において用いるマスク素材としての従来のフォトマスクとしては、イオン不透過性の薄膜を形成する後工程に不良品を渡さないために、あらかじめマスク検査をし、もしも欠陥部があれば修正をし、検査良品であることが好ましい。
フッ素樹脂膜104a、104bは、同じ膜質であるのが好ましく、膜厚は上記の範囲内において異なっていてもよいし、同じであってもよい。
レベンソン型位相シフトマスクを用いる場合には、マスクパターン102は、遮光膜とともに、位相効果を生ぜしめるために、たとえば、透明基板101の一方の主面側の所定位置を所定の深さにエッチングしたシフタが併設されている(図示せず)。
本発明のフォトマスク100は、フッ素樹脂膜104a、または104aと104bの上にペリクルを装着して用いることも可能であり、ペリクルの接着剤などから発生したアミンなどの塩基性物質がマスク表面に付着してマスク上の硫酸イオンと反応して異物を生じることを防止するものである。
次に、本発明のフォトマスクの製造方法の実施形態について説明する。
(第1の実施形態)
図2は、図1に示す本発明のフォトマスク100の製造工程を示す断面模式図である。図2において、図1と同じ箇所は、同じ符号を用いている。
本実施形態のフォトマスクを作製するには、図2(a)に示すように、まず、透明基板101の一方の主面側にマスクパターン102を形成したフォトマスク103を準備する。フォトマスク103は、従来の材料を用い、従来技術による製造工程、検査工程、さらに必要に応じて修正工程を経て、欠陥部の無い良品マスクとした後、洗浄する。
ここで、フォトマスク103が位相シフトマスクの場合は、透明基板101の開口部、エッチング部などがフッ素樹脂で満たされることを前提に、所望の位相シフト効果が得られるように、位相シフト層の膜厚や膜質を調整する必要がある。
図3は、本発明のフォトマスクの別な製造工程を示す断面模式図であり、フッ素樹脂膜に欠陥があった場合の製造工程の一例を示すものである。本実施形態のフォトマスクを作製するには、図3(a)に示すように、まず、透明基板201の一方の主面側にマスクパターン202を形成し、検査工程、さらに必要に応じて修正工程を経て、欠陥部の無い良品とした後、洗浄したフォトマスク203を準備する。
次に、フッ素樹脂を塗布した透明基板201を所定の温度で乾燥して溶媒を除去した後、透明基板201の他方の主面側に露光光に対して透過率の高いイオン不透過性のフッ素樹脂を塗布し、所定の温度で乾燥し、透明基板の表裏にイオン不透過性の薄膜204a、204bを形成したフォトマスクを得る(図3(b))。
上記の第2の実施形態では、フッ素樹脂膜を溶媒中で溶解もしくは剥離除去する方法について述べたが、溶媒を用いずにフッ素樹脂膜を塗布乾燥後に異物ごと剥離する方法を用いることも可能である。
図4は、第3の実施形態を説明する異物欠陥305が存在している場合の本発明の製造方法を示す工程断面図である。図4(a)に示すように、まず、透明基板301の一方の主面側にマスクパターン302を形成したフォトマスク303を準備する。
次に、フッ素樹脂を塗布した透明基板301を所定の温度で乾燥して溶媒を除去した後、透明基板301の他方の主面側に露光光に対して透過率の高いイオン不透過性のフッ素樹脂を塗布し、所定の温度で乾燥し、透明基板の表裏にイオン不透過性の薄膜304a、304bを形成した本発明のフォトマスクを得る(図4(b))。
本実施形態の方法によれば、欠陥が修正され良好な転写特性を有するフォトマスクを得ることができる。
本発明によるフォトマスク用いたパターン転写方法は、ウェハ上に感光性レジスト層を形成し、本発明のフォトマスクを露光装置に設置し、このフォトマスクを用いて露光し、感光性レジスト層を現像し、ウェハ上にマスクパターンを転写する方法である。
本発明のフォトマスクを用いることにより、エキシマレーザ露光などの短波長光源を用いた露光において、長時間露光してもマスク上の成長性異物に起因するパターン欠陥をウェハ上に生じることが無く、良好にパターン転写するパターン形成方法が可能となる。
透明基板として、厚さ0.25インチで6インチ角の光学研磨された合成石英基板を用いた。この基板上にクロムをスパッタリング法で厚さ100nmに成膜した。次に、成膜したクロム膜上に電子線レジストを塗布し、電子線描画装置によりパターン描画し、レジストを現像し、レジストパターンを形成した。次に、レジストパターンより露出したクロムをドライエッチングし、レジストを剥離除去して、石英基板上に、厚さ100nmのクロムよりなるハーフピッチ90nmのラインアンドスペースのマスクパターン(マスク上では4倍体)を有する従来のバイナリマスクを形成した。
次いで、一定時間、清浄な大気中に静置した後、真空中で120℃、1時間キュアし、マスクパターンを含む一方の主面側全面に膜厚500nmのフッ素樹脂膜を形成した。 このフッ素樹脂膜は、屈折率1.34、透過率95%以上であった。
次に、この透明基板の裏面側に、上記と同じフッ素樹脂を塗布し、真空中で120℃、1時間キュアして膜厚300nmとし、透明基板の表裏にイオン不透過性の薄膜を形成した本発明のフォトマスクを得た。
上記のフッ素樹脂膜を設けたフォトマスクを外観検査したところ、フッ素樹脂膜よりなる薄膜に異物欠陥は無く、良品であった。
厚さ0.25インチで6インチ角の合成石英基板上にモリブデンシリサイドをスパッタリング法で厚さ70nmに成膜した。ここで、従来のモリブデンシリサイド系のハーフトーン膜は、パターニングした後、同一膜厚の空気層を通る露光光に対して位相を反転するように材料設計されているのに対し、本実施例では、同一膜厚のフッ素樹脂膜を通る露光光に対して位相を反転するように設計した。次に、成膜したモリブデンシリサイド膜上に電子線レジストを塗布し、電子線描画装置によりパターン描画し、レジストを現像し、レジストパターンを形成した。次に、レジストパターンより露出したモリブデンシリサイドをドライエッチングし、レジストを剥離除去して、石英基板上に、厚さ70nmのモリブデンシリサイドよりなるハーフピッチ65nmのラインアンドスペースのマスクパターン(マスク上では4倍体)を有するハーフトーン型位相シフトマスクを形成した。
次に、この透明基板の裏面側に、上記と同じフッ素樹脂を塗布し、真空中で120℃、1時間キュアして膜厚300nmとし、透明基板の表裏にイオン不透過性の薄膜を形成した本発明のフォトマスクを得た。
そこで、上記のハーフトーン型位相シフトマスクをフッ素系溶媒であるCT−Solv.180(旭硝子(株)製商品名)中に1時間浸漬し、塗布されたフッ素樹脂膜をマスク上から溶解除去し、異物を取り除いた。
サイトップCTX−809SP2(旭硝子(株)製商品名)を用いて作製したフッ素樹脂膜中に、実施例2と同様な異物欠陥を有するハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、マスクパターンを設けたマスク上の一方の主面上のフッ素樹脂膜の端面の一辺に、粘着テープを貼付し、次にこの粘着テープを貼付した反対側に向かって徐々に引っ張ることにより、塗布形成されたフッ素樹脂膜をマスク上から剥離した。
実施例1と同じに、厚さ0.25インチで6インチ角の石英基板上に、電子線リソグラフィ法により、厚さ100nmのクロムよりなるハーフピッチ45nmのラインアンドスペースパターン(マスク上では4倍体)を形成した。次に、シフタ形成のために、このクロムパターン上に2度目の電子線レジストを塗布し、位置合わせした後、電子線描画し、現像後、レジストパターンを形成した。続いて、レジストパターンより露出した基板の石英部分を、フッ化カーボン系のガスを主成分とするエッチングガスでドライエッチングした後、残存するレジストを灰化除去して、厚さ100nmのクロムと石英エッチングしたシフタ部よりなるマスクパターンを有するレベンソン型位相シフトマスクを形成した。シフタ部は、エッチングで掘る深さを変えて、フッ素樹脂膜形成後に、最終的に位相差が180度となるようにした。
次いで、一定時間、清浄な大気中に静置した後、真空中で120℃、1時間キュアし、膜厚500nmのフッ素樹脂膜を形成した後、裏面側にも同様に膜厚500nmのフッ素樹脂膜を形成したフォトマスクを得た。
厚さ0.25インチで6インチ角の石英基板上に、厚さ100nmのクロムを成膜したマスクブランクスを準備し、この上に電子線レジストを塗布し、電子線描画装置によりパターン描画し、レジストを現像し、レジストパターンを形成した。次に、レジストパターンより露出したクロムをドライエッチングし、続いて露出した基板の石英部分を所定の深さにドライエッチングし、レジストを剥離除去し、次に表面のクロムを全てエッチングして除いて、石英よりなるハーフピッチ65nmのラインアンドスペースのマスクパターン(マスク上では4倍体)を有するクロムレス型位相シフトマスクを形成した。石英部分のエッチング深さは、フッ素樹脂膜形成後に、最終的に所定の位相シフト効果が生じるようにした。
このフォトマスクをArFエキシマレーザ露光装置で用いたところ、長時間露光しても、マスクの成長性異物に起因するパターン欠陥は生じることがなく、良好なパターンが形成された。
実施例1で形成したバイナリマスクを、基板の表裏にフッ素樹脂よりなるイオン不透過性の薄膜を設けることなく、そのままの状態でArFエキシマレーザ露光装置に設置し、感光性レジストを塗布したシリコンウェハを露光し、現像したところ、露光時間が累積するに従い、マスクパターンを設けた基板上に成長性の異物の発生が見られるようになり、ウェハ上に転写されて欠陥を生じた。
101、201、301 透明基板
102、202、302 マスクパターン
103、203、303 従来のフォトマスク
104a、104b、204a、204b、204c、204d、304a、304b、304c イオン不透過膜
205、305 異物
206 溶媒
207 容器
Claims (4)
- 透明基板の一方の主面側にマスクパターンを有するフォトマスクにおいて、少なくとも前記マスクパターンを含む一方の主面側全面と前記一方の主面に相対する他方の主面側全面とが、露光光に対して透過率の高いイオン不透過性の薄膜で覆われており、前記露光光がエキシマレーザ光であり、露光中に、前記透明基板に残存する酸イオンが環境中のアルカリイオンと接触し反応するのを前記薄膜が遮る作用を呈することを特徴とするフォトマスク。
- 前記薄膜の屈折率が、前記透明基板の屈折率よりも低いことを特徴とする請求項1に記載のフォトマスク。
- 前記薄膜が、フッ素樹脂膜よりなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフォトマスク。
- 前記イオン不透過性の薄膜のイオンが、硫酸イオンおよびアンモニウムイオンであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のフォトマスク。
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