JP4759954B2 - 低濃度過酢酸の製造方法 - Google Patents
低濃度過酢酸の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4759954B2 JP4759954B2 JP2004235870A JP2004235870A JP4759954B2 JP 4759954 B2 JP4759954 B2 JP 4759954B2 JP 2004235870 A JP2004235870 A JP 2004235870A JP 2004235870 A JP2004235870 A JP 2004235870A JP 4759954 B2 JP4759954 B2 JP 4759954B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- concentration
- peracetic acid
- hydrogen peroxide
- acetic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
過酸化水素、酢酸、硝酸、1−ヒドロキシエチリデン−1、1−ジホスホン酸(HEDP)、純水を用い、表1の仕込み1倍組成に対し、1.15倍〜2倍組成となるように、各種仕込み濃度溶液を調製した。各試験液を7℃の温度で保存し、定期的に過酢酸濃度の測定を行った。結果を図1に示す。
過酸化水素、酢酸、1−ヒドロキシエチリデン−1、1−ジホスホン酸、純水を用い、硝酸を含まない表1の仕込み1倍組成の仕込み濃度溶液を調製した。試験液を7℃の温度で保存し、定期的に過酢酸濃度の測定を行った。過酢酸濃度は、10日後0.05%、17日後0.07%であった。
過酸化水素、酢酸、硝酸、1−ヒドロキシエチリデン−1、1−ジホスホン酸、純水を用い、表1の仕込み1倍組成に対し、2倍の組成となるように調製した。試験液を室温で保存し、定期的に過酢酸濃度の測定を行った。結果を図2に示す。
過酸化水素、酢酸、硝酸、1−ヒドロキシエチリデン−1、1−ジホスホン酸、純水を用い、表1の仕込み1倍組成になるように調製した。試験液を室温で保存し、定期的に過酢酸濃度の測定を行った。結果を図2に示す。
Claims (3)
- 過酸化水素、酢酸および酸触媒を、各々高い出発濃度で反応させることによって、過酢酸を含む反応混合物を急速に形成させ、次に該反応混合物をそれ自体が平衡に達する前に水で希釈して過酢酸0.35〜0.45重量%の過酢酸溶液を製造する方法において、過酸化水素、酢酸および硝酸の出発濃度が、水希釈なしで該過酢酸溶液を平衡に達するための過酸化水素、酢酸および硝酸の濃度の各々1.1〜3.0倍の濃度であることを特徴とする過酢酸溶液の製造方法。
- 過酸化水素、酢酸および硝酸を反応させる過程で、安定化剤を添加する請求項1記載の製造方法。
- 過酸化水素の出発濃度が多くとも15重量%、酢酸の出発濃度が多くとも18重量%である請求項1または2記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004235870A JP4759954B2 (ja) | 2004-08-13 | 2004-08-13 | 低濃度過酢酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004235870A JP4759954B2 (ja) | 2004-08-13 | 2004-08-13 | 低濃度過酢酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006052179A JP2006052179A (ja) | 2006-02-23 |
JP4759954B2 true JP4759954B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=36029879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004235870A Active JP4759954B2 (ja) | 2004-08-13 | 2004-08-13 | 低濃度過酢酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4759954B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5332679B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2013-11-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 安定性に優れる過酢酸水溶液 |
JP6555847B2 (ja) * | 2013-12-09 | 2019-08-07 | 株式会社日本触媒 | グリセリンモノ(メタ)アクリレートの保存方法及び製造方法 |
US20210087499A1 (en) * | 2019-09-25 | 2021-03-25 | Sani-Marc Inc. | Peracetic compositions, methods and kits for removing biofilms from an enclosed surface |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3046628B2 (ja) * | 1991-01-23 | 2000-05-29 | 日本パーオキサイド株式会社 | 過酢酸組成物の製造方法 |
JPH08183766A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 過酢酸水溶液の製造方法 |
JP2000086623A (ja) * | 1998-09-14 | 2000-03-28 | Daicel Chem Ind Ltd | 過酢酸水溶液の製造方法 |
JP4412428B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2010-02-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 過酢酸組成物 |
JP2003048877A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Asahi Denka Kogyo Kk | 平衡過酢酸の製造方法 |
-
2004
- 2004-08-13 JP JP2004235870A patent/JP4759954B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006052179A (ja) | 2006-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0609266B1 (en) | Compositions and uses thereof | |
EP0517742B1 (en) | Solutions of peracids | |
JP2007137761A (ja) | 二酸化塩素の発生法 | |
US20160088839A1 (en) | Method of preparation and composition of antimicrobial ice | |
JP2005154551A (ja) | 除菌洗浄剤組成物 | |
US9505641B2 (en) | Process for decontamination of hazardous sulfur compounds in sour water tanks | |
US11076598B2 (en) | Peroxide-based disinfecting solutions containing inorganic salts | |
JP5332679B2 (ja) | 安定性に優れる過酢酸水溶液 | |
JP4759954B2 (ja) | 低濃度過酢酸の製造方法 | |
JP2001199811A (ja) | 過酢酸含有水溶液 | |
KR102353182B1 (ko) | 과구연산 수용액 및 그 제조방법 | |
JPH04243861A (ja) | 過酢酸組成物の製造方法 | |
JP2015209610A (ja) | 製紙工程水のスライム抑制方法 | |
JP4412428B2 (ja) | 過酢酸組成物 | |
JPH01164701A (ja) | 次亜塩素酸ナトリウム水溶液の安定化法 | |
JP4270425B2 (ja) | 安定性の優れた過酢酸溶液の製造方法 | |
JP2019006744A (ja) | 殺菌水及び殺菌水の製造方法 | |
JP2000086623A (ja) | 過酢酸水溶液の製造方法 | |
CN111848481A (zh) | 制取固体过氧乙酸的固体发生剂及其制备方法和应用 | |
TWI572556B (zh) | 黃磷的提純方法 | |
JP2009062286A (ja) | ホスホン酸系過カルボン酸組成物 | |
US20210206635A1 (en) | Stabilized hydrogen peroxide-chlorate mixtures | |
JP2008184405A (ja) | 低温保存可能な高濃度過グルタル酸組成物 | |
TW201927747A (zh) | 被使用作為食品添加物之過醋酸組成物的製造方法 | |
JPH07315804A (ja) | 二酸化塩素の加工方法及び加工物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070703 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110411 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110523 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4759954 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |