JP4757741B2 - 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 - Google Patents
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Description
可溶性ポリイミドとは、有機溶剤に可溶なポリイミドである。有機溶剤としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチスルフホキシド、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。本発明における可溶性とは、具体的にはN−メチル−2−ピロリドン、若しくはγ−ブチロラクトンに少なくとも5重量%以上、好ましくは10重量%以上溶解することを意味する。
(可溶性ポリイミド合成例1)
窒素雰囲気下で500mlのセパラブルフラスコにて3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン(和歌山精化社製)28.629g(0.1mol)、N−メチルピロリドン82.35g、γ−ブチロラクトン152.94gを撹拌した後、無水フタル酸(和光純薬社製)0.5925g(0.004mol)を添加し、室温で30分間撹拌した。リカシッドTDA−100(新日本理化社製)29.425g(0.098mol)を添加し、室温で2時間撹拌した。セパラブルフラスコに水分定量計と冷却管を設置し、トルエン40g、ピリジン3.64g、γ−バレロラクトン3.00gを添加し、反応温度を180℃に上昇し、還流させながら水分を除去し、3.5時間撹拌した。蒸留成分を除去しながらさらに2時間撹拌した後、室温まで冷却し、得られたポリイミド溶液を回収して可溶性ポリイミドワニス1とした。仕込み重量と回収重量より計算したポリイミド濃度は20重量%(ポリイミドに換算して100重量部)であった。なお、0.5g/dlのNMP溶液中での還元粘度は0.57であった。
合成例1の無水フタル酸の代わりに無水トリメリト酸(和光純薬社製)0.769g(0.004mol)を用いた以外は合成例1と同様に合成を行った。これを可溶性ポリイミドワニス2とした。仕込み重量と回収重量より計算したポリイミド濃度は20重量%(ポリイミドに換算して100重量部)であった。なお、0.5g/dlのNMP溶液中での還元粘度は0.54であった。
1,3−フェニレン二酢酸(和光純薬社製)19.47g(0.10mol)とアセトフェノンオキシム28.18g(0.21mol)をDMAc(ジメチルアセトアミド)に溶解し、縮合剤としてジシクロヘキシルカルボジイミドと1−ヒドロキシベンゾトリアゾールをアセトフェノンオキシムの1.05倍モル添加した。室温で撹拌した後、析出物をろ過により除去し、得られた反応液を水に滴下した。析出した油状物を回収し、シクロヘキサン−酢酸エチルで精製し析出物を回収した。回収した化合物を光塩基発生剤1とした。
下記表1に示す配合割合で配合を行い、スピンコーターでシリコン基板上にそれぞれ塗工し、100℃にて5分間脱溶剤を行い、基板上に約15μmのポリイミドフィルムを形成した。フィルムの膜厚は、表面形状測定装置DekTak6M(アルバック社製)を用い測定した。
シリコン基板の半分をマスクで遮光し、400Wの高圧水銀灯露光機HC−98(セン特殊光源杜製)を用いて露光を行った。露光後、ポストキュアをホットプレートにて180℃/3分で行い、室温に放置して冷却した後、アルカリ現像を行った。アルカリ現像は、2%NaOH水溶液に基板を浸漬し、マスクで遮光した未露光部が溶解するまで行った。現像した後水洗を行い、露光部の現像前の膜厚と現像後の膜厚より残膜率を算出した。その結果を下記表2に示す。表2において、残膜率が90%以上を◎とし、残膜率が80%以上を○とし、残膜率が50%以上を△とし、残膜率が50%未満を×とした。表2から分かるように、配合1、配合2のいずれの場合においても、残膜率が良好であった。
これらの基板に対して、マスクアライナーMA−10(ミカサ株式会杜製)を用いて、高圧水銀灯でパターン露光を行った。露光は3,000mJ/cm2で行い、ポストキュアはホットプレートにて180℃/3分で行った。現像は室温に放置して冷却し、2%NaOH水溶液で浸漬法にて40℃で30秒間行った。
Claims (14)
- 前記感光性樹脂組成物は、光照射及び/又は加熱により照射部と未照射部とで溶解度差及び/又は溶解速度差を生じ、アルカリ水溶液で現像が可能であるネガ型感光性樹脂組成物であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 前記光塩基発生剤(B)は、光照射により一分子から1以上4以下のアミノ基を発生し得る光塩基発生剤であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の感光性樹脂組成物。
- 前記式(1)におけるbで示される2価の有機基がシロキサン骨格を有する2価の有機基であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、さらに光増感剤(C)を含有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、さらにアミド化触媒(D)を含有することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1から請求項8のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いて、少なくとも配線を有する基材上に樹脂組成物層を形成する工程と、前記樹脂組成物層にパターン露光を行う工程と、前記パターン露光後の樹脂組成物層に対してアルカリ水溶液を用いて現像処理を行う工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。
- 請求項9記載の方法により得られたことを特徴とする回路基板。
- 配線を有する基材と、前記配線を覆うように前記基材上に形成され、請求項1から請求項8のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を露光・現像することにより得られた物質で構成されたカバーレイと、を具備することを特徴とする回路基板。
- 請求項1から請求項8のいずれかに記載の感光性樹脂組成物で構成されたことを特徴とするフィルム。
- キャリアフィルムと、前記キャリアフィルム上に設けられた請求項12記載のフィルムと、を具備することを特徴とする積層フィルム。
- 前記フィルム上に形成されたカバーフィルムを具備することを特徴とする請求項13記載の積層フィルム。
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