JPH06148886A - ネガ型感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 - Google Patents
ネガ型感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法Info
- Publication number
- JPH06148886A JPH06148886A JP4294433A JP29443392A JPH06148886A JP H06148886 A JPH06148886 A JP H06148886A JP 4294433 A JP4294433 A JP 4294433A JP 29443392 A JP29443392 A JP 29443392A JP H06148886 A JPH06148886 A JP H06148886A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- negative
- resin composition
- photosensitive resin
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光部分の膨潤がほとんど起こらず、現像時
に未露光部分を完全に溶解除去でき感度や解像度に優れ
るネガ型感光性樹脂組成物、およびこの組成物を用いて
なるネガ型パターン形成方法を提供する。 【構成】 １５０℃以上の分解温度を有するアルカリ可
溶性高分子に、特定の構造を有し、活性光線の照射によ
って塩基性を呈する４−（２’−ニトロフェニル）−
１，４−ジヒドロピリジン誘導体を含有させることによ
って、活性光線を照射することで解像度に優れるネガ型
のパターンが得られる。露光後の加熱処理は１５０℃以
上、好ましくは１７０℃以上とする。
に未露光部分を完全に溶解除去でき感度や解像度に優れ
るネガ型感光性樹脂組成物、およびこの組成物を用いて
なるネガ型パターン形成方法を提供する。 【構成】 １５０℃以上の分解温度を有するアルカリ可
溶性高分子に、特定の構造を有し、活性光線の照射によ
って塩基性を呈する４−（２’−ニトロフェニル）−
１，４−ジヒドロピリジン誘導体を含有させることによ
って、活性光線を照射することで解像度に優れるネガ型
のパターンが得られる。露光後の加熱処理は１５０℃以
上、好ましくは１７０℃以上とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はネガ型感光性樹脂組成物
およびこれを用いたネガ型パターン形成方法に関するも
のである。
およびこれを用いたネガ型パターン形成方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来からレリーフ像を得るための方法と
して、感光性樹脂組成物を用いてポジ型パターンやネガ
型パターンを形成する方法が知られている。即ち、感光
性樹脂組成物をフィルム状の感光性材料とし、その上に
所望形状のフォトレジストを形成したのち、露光を行
い、次いで、露光部と非露光部との溶解度の差を利用し
て適当な溶媒によって何れかの部分を除去してパターン
形成を行うものである。
して、感光性樹脂組成物を用いてポジ型パターンやネガ
型パターンを形成する方法が知られている。即ち、感光
性樹脂組成物をフィルム状の感光性材料とし、その上に
所望形状のフォトレジストを形成したのち、露光を行
い、次いで、露光部と非露光部との溶解度の差を利用し
て適当な溶媒によって何れかの部分を除去してパターン
形成を行うものである。
【０００３】通常、ｏ−キノンジアジド化合物を感光性
物質として用いてフェノール樹脂中に含有させるのが主
流であるポジ型パターンの場合には、感光性物質は吸収
強度や波長をコントロールしがたい３６５〜４３６ｎｍ
付近に吸収極大を有するので、感光性物質の添加量の増
減によってパターン形成のバランスをとっているのが実
情である。また、１，４−ジヒドロピリジン誘導体を含
有するポジ型感光性樹脂組成物は、特開昭４９−６０７
３３号公報などに提案されているが、パターン形状や解
像度の点で未だ充分に満足できるものではない。
物質として用いてフェノール樹脂中に含有させるのが主
流であるポジ型パターンの場合には、感光性物質は吸収
強度や波長をコントロールしがたい３６５〜４３６ｎｍ
付近に吸収極大を有するので、感光性物質の添加量の増
減によってパターン形成のバランスをとっているのが実
情である。また、１，４−ジヒドロピリジン誘導体を含
有するポジ型感光性樹脂組成物は、特開昭４９−６０７
３３号公報などに提案されているが、パターン形状や解
像度の点で未だ充分に満足できるものではない。
【０００４】一方、ネガ型パターンの形成には、例えば
ラジカル反応によって架橋するようなバインダー層と、
露光によってバインダー層内にラジカルを発生させて架
橋反応を開始する光重合開始剤とを含有する組成物が一
般に用いられているが、現像時に露光部分が膨潤するこ
とによって、解像度の点で充分に満足できるものではな
い。
ラジカル反応によって架橋するようなバインダー層と、
露光によってバインダー層内にラジカルを発生させて架
橋反応を開始する光重合開始剤とを含有する組成物が一
般に用いられているが、現像時に露光部分が膨潤するこ
とによって、解像度の点で充分に満足できるものではな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来からのネ
ガ型フォトレジストが有する課題を解決し、充分な感光
性を有して現像液に対しても露光部の膨潤がほとんど起
こらず、しかも露光時の吸収波長や吸収強度をコントロ
ールすることが比較的容易で、解像度の良好なネガ型パ
ターンを得るための感光性樹脂組成物を得ることを目的
とする。
ガ型フォトレジストが有する課題を解決し、充分な感光
性を有して現像液に対しても露光部の膨潤がほとんど起
こらず、しかも露光時の吸収波長や吸収強度をコントロ
ールすることが比較的容易で、解像度の良好なネガ型パ
ターンを得るための感光性樹脂組成物を得ることを目的
とする。
【０００６】また、他の目的は上記ネガ型感光性樹脂組
成物を用いてなるネガ型パターン形成方法を提供するこ
とにある。
成物を用いてなるネガ型パターン形成方法を提供するこ
とにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記ネガ型
フォトレジスト組成物について、さらに検討を重ねた結
果、塩基性現像液に対して可溶性である高分子に、特定
の構造を有する４−（２’−ニトロフェニル）−１，４
−ジヒドロピリジン誘導体を含有させた組成物を用いる
ことによって、上記目的が達成できることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
フォトレジスト組成物について、さらに検討を重ねた結
果、塩基性現像液に対して可溶性である高分子に、特定
の構造を有する４−（２’−ニトロフェニル）−１，４
−ジヒドロピリジン誘導体を含有させた組成物を用いる
ことによって、上記目的が達成できることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
【０００８】即ち、本発明は下記式（化２）にて示され
る４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピ
リジン誘導体と、
る４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピ
リジン誘導体と、
【０００９】
【化２】
【００１０】（但し、式中、Ｒ3 およびＲ4 は水素原子
もしくは炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ5 およびＲ6 は
炭素数１〜４のアルキル基もしくはアルコキシル基、ア
ニリノ基、トルイジノ基、ベンジルオキシ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基から選ばれる一種であり、Ｘ1
〜Ｘ4 はそれぞれ水素原子、フッ素原子、ニトロ基、メ
トキシ基、ジアルキルアミノ基、アミノ基、シアノ基、
フッ素化アルキル基から選ばれる一種である。なお、Ｒ
3 とＲ5 、もしくはＲ4 とＲ6 はケト基を含む５員環、
６員環、もしくは複素環の形成可能な環員となることが
できる。）アルカリ可溶性高分子（但し、ポリイミド前
駆体を除く）とを含むことを特徴とするネガ型感光性樹
脂組成物を提供するものである。
もしくは炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ5 およびＲ6 は
炭素数１〜４のアルキル基もしくはアルコキシル基、ア
ニリノ基、トルイジノ基、ベンジルオキシ基、アミノ
基、ジアルキルアミノ基から選ばれる一種であり、Ｘ1
〜Ｘ4 はそれぞれ水素原子、フッ素原子、ニトロ基、メ
トキシ基、ジアルキルアミノ基、アミノ基、シアノ基、
フッ素化アルキル基から選ばれる一種である。なお、Ｒ
3 とＲ5 、もしくはＲ4 とＲ6 はケト基を含む５員環、
６員環、もしくは複素環の形成可能な環員となることが
できる。）アルカリ可溶性高分子（但し、ポリイミド前
駆体を除く）とを含むことを特徴とするネガ型感光性樹
脂組成物を提供するものである。
【００１１】また、本発明は上記ネガ型感光性樹脂組成
物から得られたフィルムに、フォトマスクを介して活性
光線の照射を行い、さらに１５０℃以上に加熱処理を行
なったのち、塩基性現像液にて未露光部分を除去するこ
とを特徴とするネガ型パターン形成方法を提供するもの
である。
物から得られたフィルムに、フォトマスクを介して活性
光線の照射を行い、さらに１５０℃以上に加熱処理を行
なったのち、塩基性現像液にて未露光部分を除去するこ
とを特徴とするネガ型パターン形成方法を提供するもの
である。
【００１２】本発明のネガ型感光性樹脂組成物に用いら
れるアルカリ可溶性高分子は、レジスト形成の骨格物質
として作用するものであり、露光後の１５０℃以上の加
熱処理によっても分解しない性質を有するものである。
このような高分子物質としては、具体的にはフェノール
ノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ポリヒド
ロキシスチレン樹脂、ヒドロキシポリイミド樹脂などが
挙げられ、これらのうち実用的な耐熱性の観点からクレ
ゾールノボラック樹脂やヒドロキシポリイミド樹脂を用
いることが好ましい。
れるアルカリ可溶性高分子は、レジスト形成の骨格物質
として作用するものであり、露光後の１５０℃以上の加
熱処理によっても分解しない性質を有するものである。
このような高分子物質としては、具体的にはフェノール
ノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ポリヒド
ロキシスチレン樹脂、ヒドロキシポリイミド樹脂などが
挙げられ、これらのうち実用的な耐熱性の観点からクレ
ゾールノボラック樹脂やヒドロキシポリイミド樹脂を用
いることが好ましい。
【００１３】本発明のネガ型感光性樹脂組成物は上記ア
ルカリ可溶性高分子成分に、前記（化２）で示される感
光性を有する４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−
ジヒドロピリジン誘導体を含有させてなることを特徴と
する。つまり、本発明の組成物に含有させる上記感光性
物質は活性光線の照射によって塩基性を呈するものであ
って、現像時に未露光部分のアルカリ可溶性高分子を溶
解除去する。本発明の組成物には上記感光性物質に加え
て必要に応じて公知の増感剤とが組み合わされて配合さ
れる。上記感光性を有する化合物（化２）は、アルカリ
可溶性高分子１００重量部に対して５〜５０重量部、好
ましくは１０〜４０重量部の範囲で配合することが望ま
しい。配合量が少ない場合は露光部の溶解阻止能が悪く
なって溶解性コントラストが不鮮明になりやすい。ま
た、配合量が多い場合は溶液状態で保存する際に固形分
の析出が生じ、溶液保存性やパターン形成性に悪影響を
与え、さらに、ネガ型パターン形成後に熱処理を施すと
膜減りが大きくなって機械的強度も低下させることがあ
る。
ルカリ可溶性高分子成分に、前記（化２）で示される感
光性を有する４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−
ジヒドロピリジン誘導体を含有させてなることを特徴と
する。つまり、本発明の組成物に含有させる上記感光性
物質は活性光線の照射によって塩基性を呈するものであ
って、現像時に未露光部分のアルカリ可溶性高分子を溶
解除去する。本発明の組成物には上記感光性物質に加え
て必要に応じて公知の増感剤とが組み合わされて配合さ
れる。上記感光性を有する化合物（化２）は、アルカリ
可溶性高分子１００重量部に対して５〜５０重量部、好
ましくは１０〜４０重量部の範囲で配合することが望ま
しい。配合量が少ない場合は露光部の溶解阻止能が悪く
なって溶解性コントラストが不鮮明になりやすい。ま
た、配合量が多い場合は溶液状態で保存する際に固形分
の析出が生じ、溶液保存性やパターン形成性に悪影響を
与え、さらに、ネガ型パターン形成後に熱処理を施すと
膜減りが大きくなって機械的強度も低下させることがあ
る。
【００１４】本発明において前記化合物（化２）は、活
性光線に曝されると分子構造が分子内転移を経てピリジ
ン骨格を有する構造に変化して塩基性を呈するようにな
り、その後の１５０℃以上での加熱処理によってさらに
化学反応が進行して、その結果、前記アルカリ可溶性高
分子との間で、もしくは単独で何らかの相互作用が生じ
てアルカリ溶解性が低下し、良好なネガ型パターン形成
ができるものと推測される。
性光線に曝されると分子構造が分子内転移を経てピリジ
ン骨格を有する構造に変化して塩基性を呈するようにな
り、その後の１５０℃以上での加熱処理によってさらに
化学反応が進行して、その結果、前記アルカリ可溶性高
分子との間で、もしくは単独で何らかの相互作用が生じ
てアルカリ溶解性が低下し、良好なネガ型パターン形成
ができるものと推測される。
【００１５】このような（化２）として好適な化合物と
しては、例えば２，６−ジメチル−３，５−ジシアノ−
４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリ
ジン、２，６−ジメチル−３，５−ジアセチル−４−
（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジ
ン、２，６−ジメチル−３，５−ジアセチル−４−
（２’，４’−ジニトロフェニル）−１，４−ジヒドロ
ピリジンなどが挙げられる。
しては、例えば２，６−ジメチル−３，５−ジシアノ−
４−（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリ
ジン、２，６−ジメチル−３，５−ジアセチル−４−
（２’−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジ
ン、２，６−ジメチル−３，５−ジアセチル−４−
（２’，４’−ジニトロフェニル）−１，４−ジヒドロ
ピリジンなどが挙げられる。
【００１６】（化２）にて示される化合物は、例えば置
換ベンズアルデヒドと２倍モル量のアミノクロトニトリ
ルとを氷酢酸中で、還流させながら反応させたり、置換
ベンズアルデヒドと２倍モル量のアセチルアセトンと等
モル量のアンモニアとをメタノール中で反応させたり、
例えば一般的な１，４−ジヒドロピリジン誘導体の合成
法（例えば、J.Chem.Soc.,1931,1835,1931) に従って得
ることができる。その他、西独公開公報第２００３１４
８号や西独公開公報第２００５１１６号などに記載の方
法も使用することができる。
換ベンズアルデヒドと２倍モル量のアミノクロトニトリ
ルとを氷酢酸中で、還流させながら反応させたり、置換
ベンズアルデヒドと２倍モル量のアセチルアセトンと等
モル量のアンモニアとをメタノール中で反応させたり、
例えば一般的な１，４−ジヒドロピリジン誘導体の合成
法（例えば、J.Chem.Soc.,1931,1835,1931) に従って得
ることができる。その他、西独公開公報第２００３１４
８号や西独公開公報第２００５１１６号などに記載の方
法も使用することができる。
【００１７】また、本発明のネガ型感光性樹脂組成物に
は現像液による未露光部分の溶解除去速度を速めるため
に溶解促進剤を含有させることもできる。このような溶
解促進剤は活性光線の照射に対しては全く不活性である
が、含有させることによって現像速度を向上させて実用
上有用な組成物とすることができる。
は現像液による未露光部分の溶解除去速度を速めるため
に溶解促進剤を含有させることもできる。このような溶
解促進剤は活性光線の照射に対しては全く不活性である
が、含有させることによって現像速度を向上させて実用
上有用な組成物とすることができる。
【００１８】このような溶解促進剤としては、例えば
２，６−ジメチル−３，５−ジシアノ−４−メチル−
１，４−ジヒドロピリジンや、２，６−ジメチル−３，
５−ジシアノ−１，４−ジヒドロピリジンなどが挙げら
れ、アルカリ可溶性高分子成分１００重量部に対して５
〜５０重量部、好ましくは５〜１５重量部の範囲で配合
することが望ましい。
２，６−ジメチル−３，５−ジシアノ−４−メチル−
１，４−ジヒドロピリジンや、２，６−ジメチル−３，
５−ジシアノ−１，４−ジヒドロピリジンなどが挙げら
れ、アルカリ可溶性高分子成分１００重量部に対して５
〜５０重量部、好ましくは５〜１５重量部の範囲で配合
することが望ましい。
【００１９】次に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を
用いて画像を形成する方法の一例を示す。
用いて画像を形成する方法の一例を示す。
【００２０】まず、前記アルカリ可溶性高分子と、前記
（化２）にて示す化合物を、適当な有機溶剤に溶解して
感光液を調製する。次いで、この感光液を支持基材上に
乾燥後の膜厚が１〜３０μｍ、好ましくは１０〜２０μ
ｍとなるように塗布する。
（化２）にて示す化合物を、適当な有機溶剤に溶解して
感光液を調製する。次いで、この感光液を支持基材上に
乾燥後の膜厚が１〜３０μｍ、好ましくは１０〜２０μ
ｍとなるように塗布する。
【００２１】塗布した塗膜を乾燥（８０℃、１０分程
度）した後に、所望形状のフォトマスクを通して紫外線
照射などによって露光を行ない、露光後、１５０℃以
上、好ましくは１７０℃以上に加熱し、そののち未照射
部分を除去すべく浸漬法やスプレー法などを用いて現像
処理を行う。現像処理に用いる現像液としては、露光膜
の未照射部を適当な時間内で完全に溶解除去できるもの
が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
無機アルカリ性水溶液、またはプロピルアミン、ブチル
アミン、モノエタノールアミン、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド、コリンなどの有機アルカリ性
水溶液などを単独もしくは二種以上混合して用いる。ま
た、このアルカリ性水溶液には必要に応じてアルコール
類などの有機溶剤や、各種界面活性剤を含有させること
もできる。
度）した後に、所望形状のフォトマスクを通して紫外線
照射などによって露光を行ない、露光後、１５０℃以
上、好ましくは１７０℃以上に加熱し、そののち未照射
部分を除去すべく浸漬法やスプレー法などを用いて現像
処理を行う。現像処理に用いる現像液としては、露光膜
の未照射部を適当な時間内で完全に溶解除去できるもの
が好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
無機アルカリ性水溶液、またはプロピルアミン、ブチル
アミン、モノエタノールアミン、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド、コリンなどの有機アルカリ性
水溶液などを単独もしくは二種以上混合して用いる。ま
た、このアルカリ性水溶液には必要に応じてアルコール
類などの有機溶剤や、各種界面活性剤を含有させること
もできる。
【００２２】現像したのち、リンス液で洗浄することに
より所望のネガ型パターンを有する樹脂画像が形成され
る。
より所望のネガ型パターンを有する樹脂画像が形成され
る。
【００２３】以上のようにして得られた画像は１５０℃
以上に加熱処理されることによって、アルカリ可溶性高
分子が難溶性の高分子に変化するので、現像液などによ
って膨潤することがない解像度に優れたネガ型の画像と
なるのである。
以上に加熱処理されることによって、アルカリ可溶性高
分子が難溶性の高分子に変化するので、現像液などによ
って膨潤することがない解像度に優れたネガ型の画像と
なるのである。
【００２４】
【実施例】以下に本発明の実施例を示し、本発明をさら
に具体的に説明する。
に具体的に説明する。
【００２５】実施例１ ２−ニトロベンズアルデヒドと、その２．２倍モル量の
アセト酢酸メチル（もしくはアセト酢酸エチル）を混合
したのち、−１０℃のメチルアルコールを添加して数時
間攪拌混合した。そののち、攪拌しながら２５重量％水
溶液をアンモニア量が１．５倍モル量となるように添加
混合し、５時間加熱還流を行い、再結晶法もしくはカラ
ムクロマトグラフィー法によって分離精製して、前記
（化２）にて示される感光性物質を調製した。
アセト酢酸メチル（もしくはアセト酢酸エチル）を混合
したのち、−１０℃のメチルアルコールを添加して数時
間攪拌混合した。そののち、攪拌しながら２５重量％水
溶液をアンモニア量が１．５倍モル量となるように添加
混合し、５時間加熱還流を行い、再結晶法もしくはカラ
ムクロマトグラフィー法によって分離精製して、前記
（化２）にて示される感光性物質を調製した。
【００２６】このようにして得られた感光性物質４ｇ
を、シクロヘキサン８０ｇにクレゾールノボラック樹脂
２０ｇを溶解した溶液に溶解混合、濾過して感光性溶液
を調製した。
を、シクロヘキサン８０ｇにクレゾールノボラック樹脂
２０ｇを溶解した溶液に溶解混合、濾過して感光性溶液
を調製した。
【００２７】この溶液をシリコンウエハ上にスピンコー
ターを用いてスピンコートして、８０℃のホットプレー
ト上で１０分間予備乾燥を行い、乾燥膜厚が３〜５μｍ
の塗膜を形成した。そののち、ガラスマスクを通して２
５０Ｗ超高圧水銀灯にガラスフィルターをかけた４３６
ｎｍの波長の活性光線を用い、光源から３０ｃｍのとこ
ろで３分間、真空密着露光を行った。
ターを用いてスピンコートして、８０℃のホットプレー
ト上で１０分間予備乾燥を行い、乾燥膜厚が３〜５μｍ
の塗膜を形成した。そののち、ガラスマスクを通して２
５０Ｗ超高圧水銀灯にガラスフィルターをかけた４３６
ｎｍの波長の活性光線を用い、光源から３０ｃｍのとこ
ろで３分間、真空密着露光を行った。
【００２８】露光後、１８０℃で１０分間加熱したの
ち、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド１．
５重量％水溶液／メチルアルコール（体積比２／１）か
らなる現像液で３分間現像、水でリンスして、２μｍの
ラインアンドスペースのネガ型パターンを得た。
ち、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド１．
５重量％水溶液／メチルアルコール（体積比２／１）か
らなる現像液で３分間現像、水でリンスして、２μｍの
ラインアンドスペースのネガ型パターンを得た。
【００２９】実施例２ 実施例１においてアセト酢酸メチル（もしくはアセト酢
酸エチル）の代わりに、アセチルアセトンを用いて感光
性物質を調製した以外は、実施例１と同様にして感光性
溶液を調製した。実施例１と同様にして露光後、１７０
℃で１０分環加熱してネガ型パターンの形成を行ったと
ころ、２〜３μｍのラインアンドスペースのパターンを
得ることができた。
酸エチル）の代わりに、アセチルアセトンを用いて感光
性物質を調製した以外は、実施例１と同様にして感光性
溶液を調製した。実施例１と同様にして露光後、１７０
℃で１０分環加熱してネガ型パターンの形成を行ったと
ころ、２〜３μｍのラインアンドスペースのパターンを
得ることができた。
【００３０】実施例３ 実施例２と同様にして調製した感光性物質に下記式（化
３）にて示される構造単位を有するヒドロキシポリイミ
ドを、実施例１と同様にして混合して感光性溶液を調製
し、露光後、２００℃で加熱した以外は、実施例２と同
様にしてネガ型パターンを形成した。その結果、約１μ
ｍのラインアンドスペースを有するネガ型パターンを得
ることができた。
３）にて示される構造単位を有するヒドロキシポリイミ
ドを、実施例１と同様にして混合して感光性溶液を調製
し、露光後、２００℃で加熱した以外は、実施例２と同
様にしてネガ型パターンを形成した。その結果、約１μ
ｍのラインアンドスペースを有するネガ型パターンを得
ることができた。
【００３１】
【化３】
【００３２】比較例１ 実施例１におけるアルカリ可溶性高分子をメタクリル酸
／メタクリル酸メチルエステル共重合体（２０／８０重
量比）とした以外は、全て実施例１と同様にしてネガ型
パターンの形成を試みたが、露光後の１７０℃での加熱
処理にて未露光部分も不溶化して現像処理を行えなかっ
た。
／メタクリル酸メチルエステル共重合体（２０／８０重
量比）とした以外は、全て実施例１と同様にしてネガ型
パターンの形成を試みたが、露光後の１７０℃での加熱
処理にて未露光部分も不溶化して現像処理を行えなかっ
た。
【００３３】比較例２ 実施例３における露光後の加熱温度を１２０℃とした以
外は、実施例３と同様にしてネガ型パターンの形成を試
みたが、露光部分と未露光部分との溶解度差が充分に得
られず、パターン形成ができなかった。
外は、実施例３と同様にしてネガ型パターンの形成を試
みたが、露光部分と未露光部分との溶解度差が充分に得
られず、パターン形成ができなかった。
【００３４】
【発明の効果】本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、ア
ルカリ可溶性高分子と共に特定の４−（２’−ニトロフ
ェニル）１，４−ジヒドロピリジン誘導体を感光性物質
として含有しているので、この感光性物質が主に光吸収
する波長の活性光線を照射することによって、照射部分
のアルカリ溶解性が低下して照射部分と未照射部分での
アルカリ性現像液に対する大きな溶解速度差が生じ、高
感度、高解像度の実用に耐えうるネガ型パターンの形成
が可能となる。
ルカリ可溶性高分子と共に特定の４−（２’−ニトロフ
ェニル）１，４−ジヒドロピリジン誘導体を感光性物質
として含有しているので、この感光性物質が主に光吸収
する波長の活性光線を照射することによって、照射部分
のアルカリ溶解性が低下して照射部分と未照射部分での
アルカリ性現像液に対する大きな溶解速度差が生じ、高
感度、高解像度の実用に耐えうるネガ型パターンの形成
が可能となる。
【００３５】さらに、比較的簡単にしかも安価に所望の
パターン形成が行え、高品質の製品供給が可能となるも
のである。さらに、高温加熱処理して得られる最終物は
耐熱性や電気的特性、機械的特定に優れるので、半導体
工業における固体素子や、回路基板の保護膜、絶縁膜を
形成するための材料としても好適なものである。
パターン形成が行え、高品質の製品供給が可能となるも
のである。さらに、高温加熱処理して得られる最終物は
耐熱性や電気的特性、機械的特定に優れるので、半導体
工業における固体素子や、回路基板の保護膜、絶縁膜を
形成するための材料としても好適なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/38 ５１１ 7124−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 下記式（化１）にて示される４−（２’
−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン誘導体
と、 【化１】 （但し、式中、Ｒ3 およびＲ4 は水素原子もしくは炭素
数１〜３のアルキル基、Ｒ5 およびＲ6 は炭素数１〜４
のアルキル基もしくはアルコキシル基、アニリノ基、ト
ルイジノ基、ベンジルオキシ基、アミノ基、ジアルキル
アミノ基から選ばれる一種であり、Ｘ1 〜Ｘ4 はそれぞ
れ水素原子、フッ素原子、ニトロ基、メトキシ基、ジア
ルキルアミノ基、アミノ基、シアノ基、フッ素化アルキ
ル基から選ばれる一種である。なお、Ｒ3 とＲ5 、もし
くはＲ4 とＲ6 はケト基を含む５員環、６員環、もしく
は複素環の形成可能な環員となることができる。）アル
カリ可溶性高分子（但し、ポリイミド前駆体を除く）と
を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 - 【請求項２】 請求項１に記載のネガ型感光性樹脂組成
物から得られたフィルムに、フォトマスクを介して活性
光線の照射を行い、さらに１５０℃以上に加熱処理を行
なったのち、塩基性現像液にて未露光部分を除去するこ
とを特徴とするネガ型パターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4294433A JPH06148886A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | ネガ型感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4294433A JPH06148886A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | ネガ型感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06148886A true JPH06148886A (ja) | 1994-05-27 |
Family
ID=17807709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4294433A Pending JPH06148886A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | ネガ型感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06148886A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048663A (en) * | 1996-07-29 | 2000-04-11 | Nitto Denko Corporation | Negative-working photoresist compositions and and use thereof |
| JP2007086763A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-04-05 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
| CN103772705A (zh) * | 2014-02-17 | 2014-05-07 | 林菁菁 | 一种光敏性聚酰亚胺树脂及其制备方法和应用 |
| CN118459396A (zh) * | 2024-07-10 | 2024-08-09 | 广东工业大学 | 一种光敏单体及其制备方法和应用 |
-
1992
- 1992-11-02 JP JP4294433A patent/JPH06148886A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048663A (en) * | 1996-07-29 | 2000-04-11 | Nitto Denko Corporation | Negative-working photoresist compositions and and use thereof |
| JP2007086763A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-04-05 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 |
| CN103772705A (zh) * | 2014-02-17 | 2014-05-07 | 林菁菁 | 一种光敏性聚酰亚胺树脂及其制备方法和应用 |
| CN118459396A (zh) * | 2024-07-10 | 2024-08-09 | 广东工业大学 | 一种光敏单体及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1046958B1 (en) | Use of a composition for bottom reflection preventive film | |
| KR100500750B1 (ko) | 화학적으로증폭된포지티브포토레지스트 | |
| US5998092A (en) | Water soluble negative-working photoresist composition | |
| JP2764771B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JP3317597B2 (ja) | ポジ型感光性組成物 | |
| KR20190083378A (ko) | 레지스트 적용에서 광산 발생제로서의 술폰산 유도체 화합물 | |
| KR19980071125A (ko) | 광산 발생제를 포함하는 반사 방지 피복 조성물 | |
| JP2007231270A (ja) | 有機反射防止膜用重合体、その製造方法および半導体装置 | |
| JP2507481B2 (ja) | ポリシラン及び感光性組成物 | |
| US5795701A (en) | Making of microlithographic structures with an underlayer film containing a thermolyzed azide compound | |
| US6168897B1 (en) | Method of forming patterns | |
| TWI231408B (en) | Resist composition and method for manufacturing semiconductor device | |
| US4626491A (en) | Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using | |
| JP3374380B2 (ja) | 高塩基濃度水溶液の現像液とともに使用でき、架橋可能な高解像度フォトレジスト組成物、および該組成物を用いるフォトレジスト・パターンの形成方法 | |
| JP3374381B2 (ja) | 可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法 | |
| JPH0643650A (ja) | 短波長紫外線に感光するポジ型フォトレジスト組成物 | |
| WO1998014832A1 (en) | Bottom antireflective coatings containing an arylhydrazo dye | |
| JP2935306B2 (ja) | 酸分解性化合物及びそれを含有するポジ型感放射線性レジスト組成物 | |
| JPH03192260A (ja) | マレイミド含有陰画処理型深ｕｖフォトレジスト | |
| JPH06148886A (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 | |
| JPH1130865A (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
| JPH10268519A (ja) | 新規なポリマー及びそれを含有するフォトレジスト組成物 | |
| JP2825543B2 (ja) | ネガ型放射線感応性樹脂組成物 | |
| JP3093055B2 (ja) | 耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物および感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法 | |
| JPH08227151A (ja) | 放射線感受性組成物中に使用する光酸発生組成物 |