JP4756235B2 - ２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、医薬及び農薬の製造原料又は有効成分として有用な２−ハロゲン化安息香酸アミド類の新規な製造方法に関する。
本発明に係る２−ハロゲン化安息香酸アミド類は、相当する安息香酸誘導体等を出発原料として順次適当なアミン又はアニリン誘導体を反応させることによって製造できることが知られている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４及び特許文献５参照）が、本発明の製造方法に関する記載はない。又、相当する原料・中間体の製造方法も知られている（例えば、特許文献６及び特許文献７参照）が、本発明の製造方法が有用である記載及び示唆は全くされていない。
本発明に係る２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造を公知の方法で実施すると常に所望の２−ハロゲン化安息香酸アミド類に加えて、望ましくない置換位置異性体の生成が観察される。その結果、多くの場合、目的物の純度低下がみられた。さらに、置換位置異性体を除去・低減するために何らかの処理を施すことにより、著しい収率の低下を招き、経済性を悪くする場合があった。
本発明は、アミド側鎖にスルホニル基を有する２−ハロゲン化安息香酸アミド類の新規かつ経済性に優れた製造方法を提供することを課題とするものである。
本発明は、アミド側鎖にスルホニル基を有する２−ハロゲン化安息香酸アミド類の新規かつ経済性に優れた製造方法を提供することを課題とするものである。
本発明者等は、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、一般式（Ｉ）で表される置換安息香酸アミド類の製造において、一般式（II）で表される安息香酸アミド類とハロゲン化剤とを触媒量のパラジウム触媒の存在下に反応させることにより、位置選択的にハロゲン化された一般式（III）で表されるハロゲン化安息香酸アミド誘導体とした後、一般
式（III）で表されるハロゲン化安息香酸アミド誘導体を酸化することを特徴とする一連
の製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
式（III）で表されるハロゲン化安息香酸アミド誘導体を酸化することを特徴とする一連
の製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記一般式（II）：
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ6は同一又は異なっても良く、水素原子又はC1-C6アルキル基を示し、Ｒ5は C1-C6アルキル基を示し、ｋは１又は２を示し、ｍは０又は１を示
し、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボキシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルキ
ル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジルカルボニル基、
し、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボキシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルキ
ル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジルカルボニル基、
−ＣＯＮ（Ｒ7）Ｒ8（式中、Ｒ7及びＲ8は同一又は異なっても良く、水素原子、 C1-C6アルキル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、ピリジル基、同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換ピリジル基、ベンジル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジル基を示す。）、−Ｎ（Ｒ7）−ＣＯＲ8（式中、Ｒ7及びＲ8は前記に同じ。）、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、
C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、ピリジル基、同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換ピリジル基、ベンジル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジル基を示す。）、−Ｎ（Ｒ7）−ＣＯＲ8（式中、Ｒ7及びＲ8は前記に同じ。）、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、
フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェノキシ基、ヘテロアリールオキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ
C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換ヘテロアリールオキシ基を示す。又、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は隣接するもの同士が結合して C3-C4アルキレン基又は C3-C4アルケニレン基からなる縮合環を形成することもでき、該縮合環は環上に同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボキシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルキル基又は
ハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、ベンジル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジル基から選択される１以上の置換基を有することもできる。）で表される安息香酸アミド類とハロゲン化剤とをパラジウム触媒
の存在下に反応させて、一般式（III）：
C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換ヘテロアリールオキシ基を示す。又、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は隣接するもの同士が結合して C3-C4アルキレン基又は C3-C4アルケニレン基からなる縮合環を形成することもでき、該縮合環は環上に同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボキシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルキル基又は
ハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、ベンジル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジル基から選択される１以上の置換基を有することもできる。）で表される安息香酸アミド類とハロゲン化剤とをパラジウム触媒
の存在下に反応させて、一般式（III）：
離せずして、酸化剤と反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）：
本発明によれば、高い選択性を持って所望の位置にハロゲン化された置換安息香酸アミド類を簡便かつ安価に製造・供給することができる。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される２−ハロゲン化安息香酸アミド類の定義において、「ハロゲン原子」とは塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子を示し、「 C1-C6アルキル」とは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等の直鎖又は分枝状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、「ハロ C1-C6アルキル」とは、同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された直鎖又は分枝状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、「 C3-C4アルキレン」とはプロピレン、トリメチレン、メチルプロピレン、テトラメチレン等の直鎖又は分枝状の炭素原子数３〜４個のアルキレン基を示し、「 C3-C4アルケニレン」とは、直鎖又は分枝状の分子中に二重結合を有する炭素原子数３〜４個のアルケニレン基を示す。
本発明の一般式（Ｉ）で表される２−ハロゲン化安息香酸アミド類の定義において、「ハロゲン原子」とは塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子を示し、「 C1-C6アルキル」とは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等の直鎖又は分枝状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、「ハロ C1-C6アルキル」とは、同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された直鎖又は分枝状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、「 C3-C4アルキレン」とはプロピレン、トリメチレン、メチルプロピレン、テトラメチレン等の直鎖又は分枝状の炭素原子数３〜４個のアルキレン基を示し、「 C3-C4アルケニレン」とは、直鎖又は分枝状の分子中に二重結合を有する炭素原子数３〜４個のアルケニレン基を示す。
「ヘテロアリールオキシ基」とは、窒素原子を１〜３個環上に有する６員複素環イルオキシ基を示し、例えば２−ピリジルオキシ基、３−ピリジルオキシ基、４−ピリジルオキシ基、３−ピリダジニルオキシ基、４−ピリダジニルオキシ基、２−ピリミジニルオキシ基、４−ピリミジニルオキシ基、５−ピリミジニルオキシ基、２−ピラジニルオキシ基、２−トリアジニルオキシ基等を例示することができる。
本発明の２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法を図式的に示すと、以下の通りに示される。
（式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、ｋ及びｍは前記に同じ。）
（式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、ｋ及びｍは前記に同じ。）
即ち、一般式(II)で表される安息香酸アミド類とハロゲン化剤をパラジウム触媒の存在下、適当な不活性溶媒の存在下又は不存在下に反応させることにより、一般式(III)で表
される置換安息香酸アミド類とし、該置換安息香酸アミド誘導体(III)を単離し、又は単
離せずして、適当な不活性溶媒の存在下又は不存在下に、触媒の存在下又は不存在下に、酸化剤と反応させることにより、一般式（Ｉ）で表される置換安息香酸アミド類を製造することができる。本発明の特徴は、アミド側鎖にスルフィド又はスルホキシドを有する安息香酸アミド類を出発原料としてベンゼン環へのハロゲン化後、スルフィド又はスルホキシドを酸化することにあり、特にハロゲン化工程において、高い位置選択性、高い触媒回転率及び高収率を達成することができる。
される置換安息香酸アミド類とし、該置換安息香酸アミド誘導体(III)を単離し、又は単
離せずして、適当な不活性溶媒の存在下又は不存在下に、触媒の存在下又は不存在下に、酸化剤と反応させることにより、一般式（Ｉ）で表される置換安息香酸アミド類を製造することができる。本発明の特徴は、アミド側鎖にスルフィド又はスルホキシドを有する安息香酸アミド類を出発原料としてベンゼン環へのハロゲン化後、スルフィド又はスルホキシドを酸化することにあり、特にハロゲン化工程において、高い位置選択性、高い触媒回転率及び高収率を達成することができる。
一般式(II)→ 一般式(III)．
本反応で使用できるパラジウム触媒としては、例えば酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硝酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート等の２価のパラジウム及びそれらとの配位子として、例えばアセトニトリル、トリフェニルホスフィン、ベンゾニトリル等の配位したパラジウム錯体を用いることができ、これらのパラジウム触媒は単独で使用しても二種以上を混合して使用しても良い。パラジウム触媒の使用量は、一般式(II)で表される安息香酸類に対して触媒量で良く、通常１／１０００００当量〜１／２当量程度であり、好ましくは１／１０００００当量〜１／１０当量程度であり、より好ましくは１／１００００当量〜１／１００当量程度である。
本反応で使用できるパラジウム触媒としては、例えば酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硝酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート等の２価のパラジウム及びそれらとの配位子として、例えばアセトニトリル、トリフェニルホスフィン、ベンゾニトリル等の配位したパラジウム錯体を用いることができ、これらのパラジウム触媒は単独で使用しても二種以上を混合して使用しても良い。パラジウム触媒の使用量は、一般式(II)で表される安息香酸類に対して触媒量で良く、通常１／１０００００当量〜１／２当量程度であり、好ましくは１／１０００００当量〜１／１０当量程度であり、より好ましくは１／１００００当量〜１／１００当量程度である。
本反応で使用できるハロゲン化剤としては、Ｉ2 、Ｃｌ2 、Ｂｒ2 、ＩＣｌ等の分子状ハロゲン、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド、１，３−ジヨードヒダントイン、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン等の周期律表１５族の元素と結合したハロゲン原子を有する化合物を使用することができる。ハロゲン化剤の使用量は一般式(II)で表される安息香酸アミド類に対して１／２当量から過剰量を使用することができるが、好ましくは１当量〜３当量程度、 より好ましくは１当
量〜１．５当量程度である。
量〜１．５当量程度である。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれ
ば良く、特に制限はないが、酢酸等の有機酸系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、水等が使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
ば良く、特に制限はないが、酢酸等の有機酸系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、水等が使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
本反応の反応温度は室温から溶媒の沸点の範囲で実施することができるが、好ましくは約４０℃〜約２００℃、より好ましくは約５０℃〜約１２０℃の間である。本反応においては、必要に応じて溶解助剤、補助触媒、酸化剤、配位化合物、金属塩類等の添加剤を使用することもでき、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸銅、ベンゾニトリル、トリフェニルホスフィン、過ヨウ素酸、過酸化水素、水等を挙げることができる。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。又は、必要に応じて濃縮、抽出、洗浄・分液等で精製することにより、単離することなく次工程へ供することができる。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。又は、必要に応じて濃縮、抽出、洗浄・分液等で精製することにより、単離することなく次工程へ供することができる。
一般式(III)→ 一般式（Ｉ）．
本反応で使用できる酸化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酢酸、過ギ酸等の過酸類、メタ過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、過硫酸水素カリウム（商品名：オキソン）、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等を例示することができ、その使用量は、基質とする化合物がスルフィド体の場合と、スルホキシド体の場合で異なるが、基質とする化合物がスルフィド体の場合には、一般式（III）で
表される置換安息香酸アミド誘導体に対して、２〜５当量の範囲から適宜選択して使用すれば良く、基質とする化合物がスルホキシド体の場合には、一般式（III）で表される置
換安息香酸アミド誘導体に対して、１〜２当量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用できる酸化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酢酸、過ギ酸等の過酸類、メタ過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、過硫酸水素カリウム（商品名：オキソン）、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等を例示することができ、その使用量は、基質とする化合物がスルフィド体の場合と、スルホキシド体の場合で異なるが、基質とする化合物がスルフィド体の場合には、一般式（III）で
表される置換安息香酸アミド誘導体に対して、２〜５当量の範囲から適宜選択して使用すれば良く、基質とする化合物がスルホキシド体の場合には、一般式（III）で表される置
換安息香酸アミド誘導体に対して、１〜２当量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸等の有機酸系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒及び水等を使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
本反応で使用できる触媒としては、タングステン酸、モリブデン酸、バナジウム酸及びそれらの塩、又は有機酸、無機酸を用いることができ、有機酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、アジピン酸、ドデカン二酸、ラウリン酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、マレイン酸、安息香酸、フタル酸等のカルボン酸類、メタンスルホン酸、１，３−プロパンジスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸類等を挙げることができ、無機酸としては硫酸、ホウ酸等を挙げることができる。触媒の使用量は、一般式(III)で表される安息香酸アミド類に対し
て、通常１／１００００当量〜３当量程度であり、好ましくは１／１０００当量〜１当量程度である。これらの触媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。又、触媒を使用せずに反応させることもできる。
て、通常１／１００００当量〜３当量程度であり、好ましくは１／１０００当量〜１当量程度である。これらの触媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。又、触媒を使用せずに反応させることもできる。
反応温度は−５０℃〜使用する溶媒の沸点域で行えば良く、反応時間は、反応規模及び
反応温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲である。反応後、目的物である一般式（Ｉ）の化合物を単離するには、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（Ｉ）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
反応温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲である。反応後、目的物である一般式（Ｉ）の化合物を単離するには、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（Ｉ）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
中間体である前記一般式（II）で表される化合物は公知の方法に準じて製造することができる。その中で、Ｙ4が−ＣＯＮ（Ｒ7）Ｒ8を示す一般式（III‐１）又は（II‐１’）で表される化合物は、前記の特許文献１〜７等に記載の方法に準じて、例えば下記製造方法１及び２に従って製造できる。
製造方法１：
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、ｋ及びｍは前記に同じ。）
製造方法１：
一般式（IV）で表されるフタル酸無水物誘導体と一般式（V）で表されるアミン類を不
活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（VI−１）で表される化合物とし、該化合物（VI−１）を単離し又は単離せずして、Ｒ6が水素原子を示す
化合物（VI−１）の場合、塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で縮合剤の存在下に縮合反応を行い、一般式（VII−１）で表される化合物とし、該化合物（VII−１）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不活性溶媒の存在下に一般式（VIII）で表されるアミン誘導体と反応させることにより一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができ、Ｒ6が水素原子以外の置換基を示す化合物（VI−１）の場
合、塩基の存在下又は不存在下、縮合剤の存在下に不活性溶媒中で一般式（VIII）で表されるアミン類と縮合させることにより、一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（VI−１）で表される化合物とし、該化合物（VI−１）を単離し又は単離せずして、Ｒ6が水素原子を示す
化合物（VI−１）の場合、塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で縮合剤の存在下に縮合反応を行い、一般式（VII−１）で表される化合物とし、該化合物（VII−１）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不活性溶媒の存在下に一般式（VIII）で表されるアミン誘導体と反応させることにより一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができ、Ｒ6が水素原子以外の置換基を示す化合物（VI−１）の場
合、塩基の存在下又は不存在下、縮合剤の存在下に不活性溶媒中で一般式（VIII）で表されるアミン類と縮合させることにより、一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
又、一般式（IV）で表されるフタル酸無水物誘導体と一般式（VIII）で表されるアミン類を不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより、一般式（VI−２）で表される化合物とし、該化合物（VI−２）を単離し又は単離せずして、R8が水素原子を示す化合物（VI−２）の場合、塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で縮合剤の存在下に縮合反応を行い、一般式（VII−２）で表される化合物とし、該化合物（VII−２）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不活性溶媒の存在下に一般式（Ｖ）で表されるアミン誘導体と反応させることにより、一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができ、Ｒ8が水素原子以外の置換基を示す化合物（VI−２
）の場合、塩基の存在下又は不存在下、縮合剤の存在下に不活性溶媒中で一般式（Ｖ）で表されるアミン誘導体と縮合させることにより、一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
）の場合、塩基の存在下又は不存在下、縮合剤の存在下に不活性溶媒中で一般式（Ｖ）で表されるアミン誘導体と縮合させることにより、一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
又、一般式（II−１）中のｍの定義で、ｍが１を示す一般式（II−1’）で表される化
合物は、ｍが０を示す一般式（II−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に酸化剤で酸化反応を行うことにより製造することもできる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−１）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（VII−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、
不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に一般式（VIII）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−２）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に、一般式（Ｖ）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（Ｖ）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。
合物は、ｍが０を示す一般式（II−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に酸化剤で酸化反応を行うことにより製造することもできる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−１）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（VII−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、
不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に一般式（VIII）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−２）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に、一般式（Ｖ）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（Ｖ）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。
１−１．一般式（IV）→一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、水、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、水、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン）、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができ、その使用量は一般に一般式（IV）で表されるフタル酸無水物に対して触媒量から過剰モルの範囲で適宜選択して反応を行えばよい。
反応温度は−５０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは０℃〜６０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分から４８時間の範囲である。
本反応は等モル反応であるので一般式（IV）で表される酸無水物及び一般式（Ｖ）又は
一般式（VIII）で表されるアミンを等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、好ましくはアミン類（Ｖ）又は（VIII）を少し過剰に使用するのがよい。
本反応は等モル反応であるので一般式（IV）で表される酸無水物及び一般式（Ｖ）又は
一般式（VIII）で表されるアミンを等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、好ましくはアミン類（Ｖ）又は（VIII）を少し過剰に使用するのがよい。
反応後、一般式（VI−１）又は（VI−２）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応終了後、目的物を含む反応系から、常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより一般式（VI−１）又は（VI−２）の化合物を製造することができる。
中間体である化合物（Ｖ）は特開２００１−１６３８５４号公報又は特開２００２−１０５０４６号公報記載の方法に準じて合成できる。
中間体である化合物（Ｖ）は特開２００１−１６３８５４号公報又は特開２００２−１０５０４６号公報記載の方法に準じて合成できる。
１−２．一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）→一般式（II−１）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用する縮合剤としては、通常のアミド製造に使用されるものであれば良く、例えば向山試薬（ヨウ化２−クロロ−N−メチルピリジニウム）、ＤＣＣ（１，３−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド）、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール）、ＤＥＰＣ（シアノリン酸ジエチル）等を例示することができ、その使用量は一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）で表されるフタルアミド類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。本反応で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン）、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができ、その使用量は一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）で表されるフタルアミド類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して反応を行えばよい。
クロヘキシルカルボジイミド）、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール）、ＤＥＰＣ（シアノリン酸ジエチル）等を例示することができ、その使用量は一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）で表されるフタルアミド類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い。本反応で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン）、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができ、その使用量は一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）で表されるフタルアミド類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して反応を行えばよい。
反応温度は−５０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは０℃〜６０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分から４８時間の範囲である。
本反応は等モル反応であるので一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）で表されるフタルアミド類及び一般式（Ｖ）又は一般式（VIII）で表されるアミンを等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応後、一般式（II−１）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応終了後、目的物を含む反応系から、常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより一般式（II−１）の化合物を製造することができる。
本反応は等モル反応であるので一般式（VI−１）又は一般式（VI−２）で表されるフタルアミド類及び一般式（Ｖ）又は一般式（VIII）で表されるアミンを等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応後、一般式（II−１）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応終了後、目的物を含む反応系から、常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより一般式（II−１）の化合物を製造することができる。
１−３．一般式（VI−１）→一般式（VII−１）又は一般式（VI−２）→一般式（VII−２）
本反応は、例えばＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１０，９８２（１９６７）に記載の方法に従って目的物を製造することができる。本反応で使用できる脱水縮合剤としては、無水酢
酸、トリフルオロ酢酸無水物等の酸無水物類、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル等のクロロギ酸エステル類等が使用でき、その使用量は、一般式（VI−１）又は（VI−２）で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲で適宜選択して反応すれば良い。
本反応で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン）、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができ、その使用量は一般式（VI−１）又は（VI−２）で表される化合物に対して等モルから過剰モルの範囲で適宜選択して反応を行えばよい。
本反応は、例えばＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１０，９８２（１９６７）に記載の方法に従って目的物を製造することができる。本反応で使用できる脱水縮合剤としては、無水酢
酸、トリフルオロ酢酸無水物等の酸無水物類、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル等のクロロギ酸エステル類等が使用でき、その使用量は、一般式（VI−１）又は（VI−２）で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲で適宜選択して反応すれば良い。
本反応で使用できる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン）、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができ、その使用量は一般式（VI−１）又は（VI−２）で表される化合物に対して等モルから過剰モルの範囲で適宜選択して反応を行えばよい。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、水、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
反応温度は−５０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは０℃〜６０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分から４８時間の範囲である。
反応後、一般式（VII−１）又は（VII−２）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応終了後、目的物を含む反応系から、常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより一般式（VII−１）又は（VII−２）の化合物を製造することができる。
反応温度は−５０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは０℃〜６０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分から４８時間の範囲である。
反応後、一般式（VII−１）又は（VII−２）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応終了後、目的物を含む反応系から、常法に従って単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより一般式（VII−１）又は（VII−２）の化合物を製造することができる。
１−４．一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）→一般式（II−１）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、水、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、水、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる触媒としては、有機酸、無機酸を用いることができ、有機酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、アジピン酸、ドデカン二酸、ラウリン酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、マレイン酸、安息香酸、フタル酸等のカルボン酸類、メタンスルホン酸、１，３−プロパンジスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸類等を挙げることができ、無機酸としては塩酸、硫酸、硝酸、炭酸等を挙げることができる。その使用量は一般に式（VII−１）又は式
（VII−２）で表される化合物に対して触媒量から過剰モルの範囲で適宜選択して反応を
行えばよい。
（VII−２）で表される化合物に対して触媒量から過剰モルの範囲で適宜選択して反応を
行えばよい。
反応温度は−５０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好まし
くは０℃〜６０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分から４８時間の範囲である。
本反応は等モル反応であるので一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）で表される化合物及び一般式（Ｖ）又は一般式（VIII）で表されるアミン類を等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応後、目的物である一般式（II−１）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（II−１）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
くは０℃〜６０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分から４８時間の範囲である。
本反応は等モル反応であるので一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）で表される化合物及び一般式（Ｖ）又は一般式（VIII）で表されるアミン類を等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応後、目的物である一般式（II−１）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（II−１）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
１−５．一般式（II−１）→一般式（II−１’）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸等の有機酸系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒及び水等を使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸等の有機酸系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒及び水等を使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
酸化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酢酸、過ギ酸等の過酸類、メタ過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、過硫酸水素カリウム（オキソン）、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等を例示することができ、その使用量は、一般式（II−１）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（II−１）で表される化合物に対して、１〜２当量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
触媒としては、タングステン酸、モリブデン酸、バナジウム酸及びそれらの塩、又は有機酸、無機酸を用いることができ、有機酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、アジピン酸、ドデカン二酸、ラウリン酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、マレイン酸、安息香酸、フタル酸等のカルボン酸類、メタンスルホン酸、１，３−プロパンジスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸類等を挙げることができ、無機酸としては硫酸、ホウ酸等を挙げることができる。触媒の使用量は、一般式（II−１）で表される化合物に対して、通常１／１００００当量〜３当量程度であり、好ましくは１／１０００当量〜１当量程度である。これらの触媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
反応温度は−５０℃〜使用する溶媒の沸点域で行えば良く、反応時間は、反応規模及び反応温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲である。
反応後、目的物である一般式（II−１’）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（II−１’）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
反応後、目的物である一般式（II−１’）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（II−１’）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
１−６．一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）→一般式（II−１’）
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸等の有機酸系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒及び水等を使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸等の有機酸系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒及び水等を使用できる。これらの溶媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
本反応で使用できる触媒としては、タングステン酸、モリブデン酸、バナジウム酸及びそれらの塩、又有機酸、無機酸を用いることができ、有機酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、アジピン酸、ドデカン二酸、ラウリン酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、マレイン酸、安息香酸、フタル酸等のカルボン酸類、メタンスルホン酸、１，３−プロパンジスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸類等を挙げることができ、無機酸としては塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、ホウ酸等を挙げることができる。その使用量は一般に式（VII−１）又は式（VII−２）で表される化合物に対して通常１／１００００当量〜３当量程度であり、好ましくは１／１０００当量〜１当量程度である。これらの触媒は単独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
酸化剤としては、例えばメタクロロ過安息香酸、過酢酸、過ギ酸等の過酸類、メタ過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、過硫酸水素カリウム（オキソン）、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等を例示することができ、その使用量は、一般式（VII−１）又は式（VII−２）で表される化合物に対して、１〜２当量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
反応温度は−５０℃〜使用する溶媒の沸点域で行えば良く、反応時間は、反応規模及び反応温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲である。
本反応は等モル反応であるので一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）で表される化合物及び一般式（Ｖ）又は一般式（VIII）で表されるアミン類を等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応後、目的物である一般式（II−１’）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（II−１’）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
本反応は等モル反応であるので一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）で表される化合物及び一般式（Ｖ）又は一般式（VIII）で表されるアミン類を等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
反応後、目的物である一般式（II−１’）の化合物は単離することなく、反応液をそのまま次工程の反応に供することができる。又、単離・精製が必要な場合には、反応混合物より結晶化した後、濾過・水洗すればよく、目的物である一般式（II−１’）で表される化合物が得られる。そのままでも十分な品質であることもあるが、必要ならば前記反応溶媒を用いて、洗浄又は再結晶等の手段で精製することができる。
製造方法２：
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、ｋ及びｍは前記に同じくし、ｈａｌはハロゲン原子を示す。）
本反応の出発原料である一般式（IX）で表されるフタル酸ジハロゲン化物は、対応するフタル酸無水物より公知の方法により製造することができる。例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ Ｃｏｌｌ．ｖｏｌ．２，５２８、又はＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９７３，３８，２５５７等に記載の方法に準じて合成できる。
本反応の出発原料である一般式（IX）で表されるフタル酸ジハロゲン化物は、対応するフタル酸無水物より公知の方法により製造することができる。例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ Ｃｏｌｌ．ｖｏｌ．２，５２８、又はＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９７３，３８，２５５７等に記載の方法に準じて合成できる。
一般式（IX）で表されるフタル酸ジハロゲン化物と、一般式（V）中のＲ6の定義で、Ｒ6が水素原子で示される一般式（Ｖ）で表されるアミン類とを不活性溶媒及び塩基の存在
下又は非存在下に反応させることにより一般式（VII−１）で表される化合物とし、該化
合物（VII−１）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不活性溶媒の
存在下に一般式（VIII）で表されるアミン誘導体と反応させることにより一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
下又は非存在下に反応させることにより一般式（VII−１）で表される化合物とし、該化
合物（VII−１）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不活性溶媒の
存在下に一般式（VIII）で表されるアミン誘導体と反応させることにより一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
又、一般式（IX）で表されるフタル酸ジハロゲン化物と、一般式（VIII）中のＲ8の定
義で、Ｒ8が水素原子で示される一般式（VIII）で表されるアミン類とを不活性溶媒及び
塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（VII−２）で表される化合物
とし、該化合物（VII−２）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不
活性溶媒の存在下に一般式（Ｖ）で表されるアミン誘導体と反応させることにより一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
義で、Ｒ8が水素原子で示される一般式（VIII）で表されるアミン類とを不活性溶媒及び
塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（VII−２）で表される化合物
とし、該化合物（VII−２）を単離し又は単離せずして、触媒の存在下又は不存在下、不
活性溶媒の存在下に一般式（Ｖ）で表されるアミン誘導体と反応させることにより一般式（II−１）で表される安息香酸アミド類を製造することができる。
又、一般式（II−１）中のｍの定義で、ｍが１を示す一般式（II−1’）で表される化
合物は、ｍが０を示す一般式（II−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に酸化剤で酸化反応を行うことにより製造することもできる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−１）中のｍの
定義で、ｍが０を示す一般式（VII−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、
不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に一般式（VIII）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−２）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に、一般式（Ｖ）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（Ｖ）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。
合物は、ｍが０を示す一般式（II−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に酸化剤で酸化反応を行うことにより製造することもできる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−１）中のｍの
定義で、ｍが０を示す一般式（VII−１）で表される化合物を単離し又は単離せずして、
不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に一般式（VIII）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。又、一般式（II−1’）で表される化合物は、一般式（VII−２）で表される化合物を単離し又は単離せずして、不活性溶媒中で、触媒の存在下又は不存在下に、一般式（Ｖ）中のｍの定義で、ｍが０を示す一般式（Ｖ）で表されるアミン類および酸化剤を同時に、又は交互に反応させることによっても製造することができる。
２−１．一般式（IX）→一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）
本反応は、例えば特開２００２−３２６９８９号公報に記載の方法に従って目的物を製造することができる。
２−２．一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）→一般式（II−１）
本反応は、製造方法１−４と同様にすることにより目的物を製造することができる。
２−３．一般式（II−１）→一般式（II−１’）
本反応は、製造方法１−5と同様にすることにより目的物を製造することができる。
２−４．一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）→一般式（II−１’）
本反応は、製造方法１−６と同様にすることにより目的物を製造することができる。
本反応は、例えば特開２００２−３２６９８９号公報に記載の方法に従って目的物を製造することができる。
２−２．一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）→一般式（II−１）
本反応は、製造方法１−４と同様にすることにより目的物を製造することができる。
２−３．一般式（II−１）→一般式（II−１’）
本反応は、製造方法１−5と同様にすることにより目的物を製造することができる。
２−４．一般式（VII−１）又は一般式（VII−２）→一般式（II−１’）
本反応は、製造方法１−６と同様にすることにより目的物を製造することができる。
以下本発明を実施例、参考例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１． ２−ヨード−６−メチル−Ｎ−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニ
ル）エチル］ベンズアミドの製造
２−メチル−Ｎ−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］ベンズアミド（２
．３７ｇ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、Ｎ−ヨードコハク酸イミド（２．３０ｇ）及び酢酸パラジウム（０．２２ｇ）の混合物を７０℃に加熱し、２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（２０ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られた２−ヨード−６−メチル−Ｎ−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］ベンズアミドを含む有機層をそのま
ま次工程に用いた。この溶液に酢酸（０．６０ｇ）及び濃硫酸（０．２０ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（１．１７ｇ）を加えた。６０℃で１時間攪拌した後、３５％過酸化水素（１．４６ｇ）を同温度で滴下し、３時間攪拌した。その後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を同温度で滴下して過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、溶媒を濃縮後、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を３．２４ｇ（収率８２％）得た。
物性：融点１３４〜１３６℃。
実施例１． ２−ヨード−６−メチル−Ｎ−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニ
ル）エチル］ベンズアミドの製造
２−メチル−Ｎ−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］ベンズアミド（２
．３７ｇ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、Ｎ−ヨードコハク酸イミド（２．３０ｇ）及び酢酸パラジウム（０．２２ｇ）の混合物を７０℃に加熱し、２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（２０ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られた２−ヨード−６−メチル−Ｎ−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］ベンズアミドを含む有機層をそのま
ま次工程に用いた。この溶液に酢酸（０．６０ｇ）及び濃硫酸（０．２０ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（１．１７ｇ）を加えた。６０℃で１時間攪拌した後、３５％過酸化水素（１．４６ｇ）を同温度で滴下し、３時間攪拌した。その後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を同温度で滴下して過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、溶媒を濃縮後、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を３．２４ｇ（収率８２％）得た。
物性：融点１３４〜１３６℃。
実施例２． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード− Ｎ1−（２−メチル−４−ペンタフルオロエチルフェニル）−１，２−ベンゼンジ
カルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］−Ｎ1−（２−メチル−４−ペ
ンタフルオロエチルフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（２．３７ｇ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、Ｎ−ヨードコハク酸イミド（１．１３ｇ）及び酢酸パラジウム（０．１１ｇ）の混合物を７０℃に加熱し、２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（２０ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−（２−メチル−４−ペンタフルオロエチルフェ
ニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液に酢酸（０．３０ｇ）及び濃硫酸（０．１０ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．５８ｇ）を加えた。６０℃で１時間攪拌した後、３５％過酸化水素（
０．７３ｇ）を同温度で滴下し、３時間攪拌した。その後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を同温度で滴下して過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、溶媒を濃縮後、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を２．５６ｇ（収率８１％）得た。
物性：融点１４３〜１４４℃。
カルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］−Ｎ1−（２−メチル−４−ペ
ンタフルオロエチルフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（２．３７ｇ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、Ｎ−ヨードコハク酸イミド（１．１３ｇ）及び酢酸パラジウム（０．１１ｇ）の混合物を７０℃に加熱し、２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（２０ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−（２−メチル−４−ペンタフルオロエチルフェ
ニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液に酢酸（０．３０ｇ）及び濃硫酸（０．１０ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．５８ｇ）を加えた。６０℃で１時間攪拌した後、３５％過酸化水素（
０．７３ｇ）を同温度で滴下し、３時間攪拌した。その後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を同温度で滴下して過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、溶媒を濃縮後、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を２．５６ｇ（収率８１％）得た。
物性：融点１４３〜１４４℃。
実施例３． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−（２，３，４−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製
造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−（２，３，４
−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（１９５．０ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド （７８０ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダン
トイン（９１．４４ｇ）及び酢酸パラジウム（１．９０ｇ）の混合物を８０℃に加熱し、３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（７８０ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2
−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−（２，３，４−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（１９．４４ｇ）及び濃硫酸（１６．５７ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（４９．２５ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を２１１．４５ｇ（収率８３％）得た。
物性：融点２３９〜２４１℃。
造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−（２，３，４
−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（１９５．０ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド （７８０ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダン
トイン（９１．４４ｇ）及び酢酸パラジウム（１．９０ｇ）の混合物を８０℃に加熱し、３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（７８０ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2
−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−（２，３，４−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（１９．４４ｇ）及び濃硫酸（１６．５７ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（４９．２５ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を２１１．４５ｇ（収率８３％）得た。
物性：融点２３９〜２４１℃。
実施例４． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメ
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（２．８０ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド （１２ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（１．１ｇ）及び
酢酸パラジウム（２．５ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（１２ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１，１−ジメチル−２−（
メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，
２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．２４ｇ）及び濃硫酸（０．１０ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．６０ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を３．０７ｇ（収率８７％）得た。
物性：融点２１３〜２１７℃。
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（２．８０ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド （１２ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（１．１ｇ）及び
酢酸パラジウム（２．５ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（１２ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１，１−ジメチル−２−（
メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，
２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．２４ｇ）及び濃硫酸（０．１０ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．６０ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を３．０７ｇ（収率８７％）得た。
物性：融点２１３〜２１７℃。
実施例５． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメ
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（７．００ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド（２８ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（２．８１ｇ）及び酢酸パラジウム（８．７ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物をクロロベンゼン（２１ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラ
フルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．６０ｇ）及び濃硫酸（０．５２ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（１．５１ｇ）を８０℃で滴下した。同温度で３時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を７．７３ｇ（収率８７％）得た。
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（７．００ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド（２８ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（２．８１ｇ）及び酢酸パラジウム（８．７ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物をクロロベンゼン（２１ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラ
フルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．６０ｇ）及び濃硫酸（０．５２ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（１．５１ｇ）を８０℃で滴下した。同温度で３時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を７．７３ｇ（収率８７％）得た。
実施例６． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメ
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（３．５ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１４ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（１．４ｇ）及び酢酸パラジウム（４．４ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、４時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物をクロロベンゼン（１１ｍＬ）に溶解した。この溶液を亜硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオ
ロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍＬ）、ギ酸（０．３ｇ）及び濃硫酸（０．２５ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．７６ｇ）を７０℃で滴下した。同温度で３時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を３．９０ｇ（収率８８％）得た。
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（３．５ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１４ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（１．４ｇ）及び酢酸パラジウム（４．４ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、４時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物をクロロベンゼン（１１ｍＬ）に溶解した。この溶液を亜硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオ
ロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍＬ）、ギ酸（０．３ｇ）及び濃硫酸（０．２５ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．７６ｇ）を７０℃で滴下した。同温度で３時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を３．９０ｇ（収率８８％）得た。
実施例７． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメ
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（４ｇ）、テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）、酢酸パラジウム（５．１ｍｇ）及び１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（１．５４ｇ）の混合物を７０℃で２．５時間、加熱攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（１６ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１
，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．３４ｇ）及び濃硫酸（０．１５ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．８６ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で３時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４．２１ｇ（収率８３％）得た。
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（４ｇ）、テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）、酢酸パラジウム（５．１ｍｇ）及び１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（１．５４ｇ）の混合物を７０℃で２．５時間、加熱攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物を１，２−ジクロロエタン（１６ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１
，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．３４ｇ）及び濃硫酸（０．１５ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（０．８６ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で３時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４．２１ｇ（収率８３％）得た。
実施例８． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルホニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメ
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（１０．００ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（４０ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（３．９０ｇ）及び酢酸パラジウム（１２．０ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物をトルエン（２３ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフ
ルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．８０ｇ）及び濃硫酸（０．４１ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（２．０３ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で４時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を１０．８５ｇ（理論値の８７％）得た。
チル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル
−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミド（１０．００ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（４０ｍＬ）、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン（３．９０ｇ）及び酢酸パラジウム（１２．０ｍｇ）の混合物を８０℃に加熱し、３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた濃縮物をトルエン（２３ｍＬ）に溶解した。この溶液をチオ硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、得られたＮ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−３−ヨード−Ｎ1−｛２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフ
ルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドを含む有機層をそのまま次工程に用いた。この溶液にギ酸（０．８０ｇ）及び濃硫酸（０．４１ｇ）を添加し、得られた混合物に３５％過酸化水素（２．０３ｇ）を６０℃で滴下した。同温度で４時間攪拌した後、反応混合物に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて過剰の酸化剤を分解させた。反応混合物を徐々に冷却した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を１０．８５ｇ（理論値の８７％）得た。
中間体である前記一般式（II）で表される化合物は公知の方法に準じて製造することができるが、その内、Ｙ4が−ＣＯＮ（Ｒ7）Ｒ8を示す一般式（II−１）又は（II−１’）
で表される化合物の製造を参考例として示す。
参考例１． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］−Ｎ1−｛２−メチ
ル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
フタル酸無水物（１４．４２ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（５８ｍＬ）の混合物に、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（１１．６１ｇ）及びトリエチルアミン（１．９７ｇ）の混合物を５０℃で滴下した。同温度で３０分間攪拌してＮ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］フタルアミド酸を調製した。この混合物に重炭酸ナトリウム水溶液（９．８１ｇ／１０１ｍＬ）を４０℃で滴下し、その後、クロロギ酸メチル（１１．０４ｇ）を同温度で滴下した。滴下終了後、反応混合物を５０℃で１時間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。この混合物を、２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２５．４５ｇ）、濃塩酸（０．４９ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（１４．４ｍＬ）の混合物に６０℃で滴下し、その後、６５℃で３０分間攪拌した。反応混合物を冷却し、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を減圧濃縮して、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４７．０６ｇ（収率９２％）得た。
で表される化合物の製造を参考例として示す。
参考例１． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］−Ｎ1−｛２−メチ
ル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
フタル酸無水物（１４．４２ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（５８ｍＬ）の混合物に、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（１１．６１ｇ）及びトリエチルアミン（１．９７ｇ）の混合物を５０℃で滴下した。同温度で３０分間攪拌してＮ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］フタルアミド酸を調製した。この混合物に重炭酸ナトリウム水溶液（９．８１ｇ／１０１ｍＬ）を４０℃で滴下し、その後、クロロギ酸メチル（１１．０４ｇ）を同温度で滴下した。滴下終了後、反応混合物を５０℃で１時間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。この混合物を、２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２５．４５ｇ）、濃塩酸（０．４９ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（１４．４ｍＬ）の混合物に６０℃で滴下し、その後、６５℃で３０分間攪拌した。反応混合物を冷却し、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を減圧濃縮して、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４７．０６ｇ（収率９２％）得た。
参考例２． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
フタル酸無水物（１４．４２ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（５８ｍＬ）の混合物に、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（１１．６１ｇ）及びトリエチルアミン（１．９７ｇ）の混合物を５０℃で滴下した。同温度で３０分間攪拌してＮ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］フタルアミド酸を調製した。この混合物に重炭酸ナトリウム水溶液（９．８１ｇ／１０１ｍＬ）を４０℃で滴下し、その後、クロロギ酸メチル（１１．０４ｇ）を同温度で滴下した。滴下終了後、反応混合物を５０℃で１時
間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。この混合物を、２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２５．４５ｇ）、濃塩酸（０．４９ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（１４．４ｍＬ）の混合物に６０℃で滴下し、その後、６５℃で３０分間攪拌して、Ｎ2−［１，１−ジメ
チル−２−（メチルチオ）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル−４−｛１，２，２，２−テト
ラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル｝フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。この混合物にギ酸（０．９４ｇ）を加えた後、３５％過酸化水素（１０．４１ｇ）を６０℃で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４３．８９ｇ（収率８３％）得た。
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
フタル酸無水物（１４．４２ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（５８ｍＬ）の混合物に、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（１１．６１ｇ）及びトリエチルアミン（１．９７ｇ）の混合物を５０℃で滴下した。同温度で３０分間攪拌してＮ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］フタルアミド酸を調製した。この混合物に重炭酸ナトリウム水溶液（９．８１ｇ／１０１ｍＬ）を４０℃で滴下し、その後、クロロギ酸メチル（１１．０４ｇ）を同温度で滴下した。滴下終了後、反応混合物を５０℃で１時
間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。この混合物を、２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２５．４５ｇ）、濃塩酸（０．４９ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（１４．４ｍＬ）の混合物に６０℃で滴下し、その後、６５℃で３０分間攪拌して、Ｎ2−［１，１−ジメ
チル−２−（メチルチオ）エチル］−Ｎ1−｛２−メチル−４−｛１，２，２，２−テト
ラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル｝フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。この混合物にギ酸（０．９４ｇ）を加えた後、３５％過酸化水素（１０．４１ｇ）を６０℃で滴下した。滴下終了後、６０℃で１時間攪拌した後、得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４３．８９ｇ（収率８３％）得た。
参考例３． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−（
２，３，４−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
水酸化ナトリウム水溶液（４０．３９ｇ／３００ｍＬ）、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（６１．６６ｇ）及びクロロホルム（３００ｍＬ）の混合物に、フタル酸ジクロリド（１００．０ｇ）を２５℃以下で滴下した。滴下終了後、２０℃で３０分間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。２，３，４−トリクロロアニリン（９１．９３ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（２．３４ｇ）及びクロロホルム（７５ｍＬ）の混合物に６０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液を滴下し、その後３０分間攪拌した。次いで、ギ酸（２．２７ｇ）を加えた後、還流加熱下に３５％過酸化水素（５２．６６ｇ）をゆっくりと滴下し、その後、６０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を６０℃に加熱した。ここにヘプタン（８００ｍＬ）を滴下した後、徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を２０２．４４ｇ（収率８９％）得た。
２，３，４−トリクロロフェニル）−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
水酸化ナトリウム水溶液（４０．３９ｇ／３００ｍＬ）、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（６１．６６ｇ）及びクロロホルム（３００ｍＬ）の混合物に、フタル酸ジクロリド（１００．０ｇ）を２５℃以下で滴下した。滴下終了後、２０℃で３０分間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。２，３，４−トリクロロアニリン（９１．９３ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（２．３４ｇ）及びクロロホルム（７５ｍＬ）の混合物に６０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液を滴下し、その後３０分間攪拌した。次いで、ギ酸（２．２７ｇ）を加えた後、還流加熱下に３５％過酸化水素（５２．６６ｇ）をゆっくりと滴下し、その後、６０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を６０℃に加熱した。ここにヘプタン（８００ｍＬ）を滴下した後、徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を２０２．４４ｇ（収率８９％）得た。
参考例４． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
水酸化ナトリウム水溶液（７．５９ｇ／５５ｍＬ）、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（１１．０３ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（５５ｍＬ）の混合物に、フタル酸ジクロリド（１８．７８ｇ）を４０℃以下で滴下した。滴下終了後、４０℃で３０分間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２４．１８ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（０．４４ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（１３．７５ｍＬ）の混合物に６０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液及び３５％過酸化水素（９．８９ｇ）をゆっくりと同時滴下し、その後、６０℃で１時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４１．７０ｇ（収率８３％）得た。
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
水酸化ナトリウム水溶液（７．５９ｇ／５５ｍＬ）、２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（１１．０３ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（５５ｍＬ）の混合物に、フタル酸ジクロリド（１８．７８ｇ）を４０℃以下で滴下した。滴下終了後、４０℃で３０分間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２４．１８ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（０．４４ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（１３．７５ｍＬ）の混合物に６０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液及び３５％過酸化水素（９．８９ｇ）をゆっくりと同時滴下し、その後、６０℃で１時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を４１．７０ｇ（収率８３％）得た。
参考例５． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチ
ル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
水酸化ナトリウム（１７．７８ｇ）及び重炭酸ナトリウム（３５．５７ｇ）を水（２５３ｍＬ）に溶解し、ここに２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（５３ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（２５３ｍＬ）を加えた混合物に、フタル酸ジクロリド（８５．９５ｇ）を４０℃以下で滴下した。滴下終了後、４０℃で３０分間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（１１０．７ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（２．０１ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（４０ｍＬ）の混合物に６０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液及び３５％過酸化水素（４５．２７ｇ）をゆっくりと同時滴下し、その後、６０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を１８４．１１ｇ（収率８０％）得た。
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチ
ル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造
水酸化ナトリウム（１７．７８ｇ）及び重炭酸ナトリウム（３５．５７ｇ）を水（２５３ｍＬ）に溶解し、ここに２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（５３ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（２５３ｍＬ）を加えた混合物に、フタル酸ジクロリド（８５．９５ｇ）を４０℃以下で滴下した。滴下終了後、４０℃で３０分間攪拌し、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドの１，２−ジクロロエタン溶液を調製した。２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（１１０．７ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（２．０１ｇ）及び１，２−ジクロロエタン（４０ｍＬ）の混合物に６０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液及び３５％過酸化水素（４５．２７ｇ）をゆっくりと同時滴下し、その後、６０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、有機層を分液し、得られた有機層を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を１８４．１１ｇ（収率８０％）得た。
参考例６． Ｎ2−［１,１−ジメチル−２−（メチルスルフィニル）エチル］−Ｎ1−｛
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造。
水酸化ナトリウム（０．８３ｇ）及び重炭酸ナトリウム（１．６６ｇ）を水（１２ｍＬ）に溶解し、ここに２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（２．６２ｇ）及びクロロベンゼン（１２ｍＬ）を加えた混合物に、フタル酸ジクロリド（４ｇ）を４０℃以下で滴下した。滴下終了後、４０℃で３０分間攪拌し、塩化ナトリウム（１．７３ｇ）を添加した後、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドのクロロベンゼン溶液を調製した。２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（５．１５ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（０．０９ｇ）及びクロロベンゼン（３ｍＬ）の混合物に５０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液及び１５％過酸化水素（４．９ｇ）をゆっくりと交互滴下し、その後、６０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、得られた混合物を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を９．０６ｇ（収率８５％）得た。
２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，２−ベンゼンジカルボキサミドの製造。
水酸化ナトリウム（０．８３ｇ）及び重炭酸ナトリウム（１．６６ｇ）を水（１２ｍＬ）に溶解し、ここに２−メチル−１−メチルチオ−２−プロパンアミン（２．６２ｇ）及びクロロベンゼン（１２ｍＬ）を加えた混合物に、フタル酸ジクロリド（４ｇ）を４０℃以下で滴下した。滴下終了後、４０℃で３０分間攪拌し、塩化ナトリウム（１．７３ｇ）を添加した後、有機層を分液して、Ｎ−［１，１−ジメチル−２−（メチルチオ）エチル］イソフタルイミドのクロロベンゼン溶液を調製した。２−メチル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（５．１５ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（０．０９ｇ）及びクロロベンゼン（３ｍＬ）の混合物に５０℃で、先に調製したイソフタルイミド溶液及び１５％過酸化水素（４．９ｇ）をゆっくりと交互滴下し、その後、６０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に同温度で亜硫酸ナトリウム水溶液を滴下して過剰の酸化剤を分解した。次いで、重炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、得られた混合物を徐々に２０℃まで冷却した。析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、表題の化合物を９．０６ｇ（収率８５％）得た。
Claims (4)
- 一般式（II−１）：
C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジル基を示す
。）、−Ｎ（Ｒ7）−ＣＯＲ8（式中、Ｒ7及びＲ8は前記に同じ。）、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェノキシ基、ヘテロアリールオキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換ヘテロアリールオキシ基を示す。又、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4は隣接するもの同士が結合して C3-C4アルキレン基又は C3-C4アルケニレン基からなる縮合環を形成することもでき、該縮合環は環上に同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、カルボキシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、ベンジル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベンジル基から選択される１以上の置換基を有することもできる。）
で表される安息香酸アミド類を酸化して、一般式（II‐２）：
で表される安息香酸アミド類とし、得られた一般式（II‐２）で表される安息香酸アミド類とハロゲン化剤とをパラジウム触媒の存在下に反応させて、一般式（III‐１）：
で表される置換安息香酸アミド類とし、次いで、得られた一般式（III‐１）で表される置換安息香酸アミド類を単離して、又は単離せずして、酸化剤と反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）：
で表される２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法。 - Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3及びＹ4が、同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボキシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、−ＣＯＮ（Ｒ7）Ｒ8（式中、Ｒ7及びＲ8は請求項１に同じ。）、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル基、フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェノキシ基、ヘテロアリールオキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置換ヘテロアリールオキシ基を示す請求項１記載の製造方法。
- Ｙ1、Ｙ2及びＹ3が水素原子を示し、Ｙ4が−ＣＯＮ（Ｒ7）Ｒ8（式中、Ｒ7及びＲ8は請求項１に同じ。）を示す請求項１記載の製造方法。
- Ｘがヨウ素原子を示す請求項１乃至３いずれか１項記載の製造方法。
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